显示面板及其制备方法、显示装置与流程

技术特征：
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在基板上制备像素定义膜，采用一道图案化工艺在所述像素定义膜上形成台阶状开口；其中，所述开口包括第一开口和第二开口，所述第二开口位于所述第一开口远离所述基板的一侧，所述第二开口和所述第一开口的连接处形成台阶面；在所述开口内形成有机光阻，其中，所述有机光阻覆盖所述台阶面；对所述开口外的所述像素定义膜进行氟化等离子处理，以使所述开口外的所述像素定义膜形成表层具有亲水性的第一像素定义层，其余所述像素定义膜形成具有疏水性的所述第二像素定义层；以及去除所述开口内的有机光阻。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤在基板上制备像素定义膜，采用一道图案化工艺在所述像素定义膜上形成台阶状开口包括：在所述基板上涂覆一层像素定义层材料，固化所述像素定义层材料形成所述像素定义膜；以及通过曝光显影工艺对所述像素定义膜进行所述一道图案化工艺处理，形成所述开口。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述步骤通过曝光显影工艺对所述像素定义膜进行所述一道图案化工艺处理，形成所述开口包括：采用半透光掩膜版，通过曝光显影技术，去除所述第一开口对应区域内的全部像素定义层材料，去除所述第二开口以内所述第一开口以外区域的部分像素定义层材料。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤在所述开口内形成有机光阻包括：在所述像素定义膜上形成一层有机光阻；以及图案化去除所述开口外的所述有机光阻。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤在所述开口内形成有机光阻包括：在所述像素定义膜上形成一层有机光阻；以及图案化去除所述开口外的所述有机光阻以及位于所述第二开口内的部分所述有机光阻。6.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：基板；像素定义膜，设置于所述基板上，所述像素定义膜上形成台阶状开口；其中，所述开口包括第一开口和第二开口，所述第二开口位于所述第一开口远离所述基板的一侧，所述第二开口和所述第一开口的连接处形成台阶面；其中，所述像素定义膜包括：第一像素定义层，设置于所述基板上；第二像素定义层，设置于所述第一像素定义层远离所述基板的一侧，且所述第二像素定义层位于所述开口外。7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层具有亲水性，所述第二像素定义层具有疏水性。8.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，各个位置处的所述第二像素定义层的厚
度均相同。9.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二开口外周处的所述第二像素定义层的厚度大于所述第二开口外周外的所述第二像素定义层的厚度。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6至9任意一项所述的显示面板。

技术总结
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该制备方法包括以下步骤：在基板上制备像素定义膜，采用一道图案化工艺在像素定义膜上形成台阶状开口；其中，开口包括第一开口位于第一开口远离基板的一侧的第二开口，第二开口和第一开口的连接处形成台阶面；在开口内形成有机光阻；对开口外的像素定义膜进行氟化等离子处理，以使开口外的像素定义膜形成表层具有亲水性的第一像素定义层，其余像素定义膜形成具有疏水性的第二像素定义层；以及去除开口内的有机光阻。本发明实施例通过一次光刻工艺和氟化等离子处理工艺，形成了具有亲水性表面的第一像素定义层和疏水性表面的第二像素定义层，简化了制备工艺，减少了光刻次数。减少了光刻次数。减少了光刻次数。


技术研发人员：张乐陶 梁鹏飞 黄泰钧
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2021.07.15
技术公布日：2021/10/28