具有两个电压域的装置和方法与流程

1.本技术涉及具有被隔离屏障在电流方面分离的两个电压域的装置及对此的方法。特别地，本技术涉及能用于进行测试的装置和方法，其可以提高装置的可靠性。


背景技术：

2.在不同的应用中，例如在汽车应用中，必须在不同电压域之间传输信号。例如，必需在以高压(例如，在大于20v的范围内或大于100v、例如400v的范围内)工作的电路部分、如电动机的逆变器等和以低压诸(例如5v或12v)工作的电路部分、如用于逆变器的控制电路之间传输信号。前述电压值和电路部分仅应理解为示例。
3.在电压域之间进行信号传输的一种可能性是变压器。这种类型的变压器的一种特定类型是所谓的无芯变压器，其中变压器的线圈被布置在基板、特别是半导体基板上的不同金属层中，其中在金属层之间具有电介质。线圈通常被放在地上的保护环围绕。
4.使用这种类型的变压器，可以提供信号传输，同时提供隔离屏障，该隔离屏障防止电流(特别是直流电流)在电压域之间流动，从而实现电流方面的分离。在其他实施方式中，代替使用变压器，可以使用经由电容器的电容性信号传输，其中例如这种电容器的电容器板同样可以提供在不同的金属层中，并且可以被电介质分离。
5.在许多应用中，完好无损的隔离屏障非常重要或者甚至是安全至关重要的。例如重要的是，要防止高电压从一个电压域到达具有低电压的电压域。
6.在一些实施方案中，铜用作此类变压器的线圈或电容器的金属，其具有低电阻率，因此与其他金属相比，可产生较低的电损耗。在处理铜金属层的过程中，在许多实施方式中使用化学机械抛光(cmp)。在这种化学机械抛光中，所用抛光剂、例如抛光液或抛光膏(英语中称为slurry浆料)中的颗粒可导致划痕。特别地，这些颗粒会被压入相对较软的金属结构(例如铜线)中，然后到达所用的电介质、例如二氧化硅，并对其进行破坏。这会导致高压击穿。
7.为了避免成品中的这种高压击穿，一方面使用光学检查来以光学形式发现划痕。但是，这里可能会发生划痕未被识别的情况。此外，通常会以相应的高压来测试装置。但是，由于划痕而导致的电介质损坏可能会导致该测试通过，但是由于每个测试方法都带来一定的不确定性，因此仍然增加在后续操作中发生高压击穿的风险。


技术实现要素：

8.在此提供了根据本技术的装置和方法。
9.根据一个实施例，提供了一种装置，包括：
10.第一电压域，其被设计为以第一电压运行，
11.第二电压域，其被设计为以第二电压运行，
12.隔离屏障，其将第一和第二电压域分离，以及
13.划痕检测电路，其包括第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间的间距小
于2μm。
14.根据另一个示例性实施例，提供了一种用于测试这种装置的方法，包括：
15.在第一电极和第二电极之间施加电压，
16.基于第一电极和第二电极之间响应于电压的电流，确定是否存在划痕。
17.上面的概述仅提供一些实施例的简要概述，并且不应被解释为限制性的，因为其他实施例可以具有除以上讨论的那些特征之外的特征。
附图说明
18.图1是根据实施例的装置的框图。
19.图2是用于示出实施例的可能应用环境的横截面图。
20.图3a是具有刮痕的装置的俯视图。
21.图3b是图3a的一个区域的截面图，以示出由划痕引起的问题。
22.图4是根据实施例的装置的俯视图。
23.图5是在一些实施例中的划痕检测电路的截面图。
24.图6a至图6f示出了各种示例性实施例中的划痕检测电路的电极的各种设计。
25.图7是用于示出根据一些实施例的方法的流程图。
具体实施方式
26.下面详细解释各种示例性实施例。这些仅作为示例，并且不应解释为限制性的。例如在其他示例性实施例中，所示的特征、部件或方法步骤中的一些可以被省略或由替代性特征、部件或方法步骤来代替。除了明确示出的特征、部件和方法步骤之外，还可以提供其他特征、部件或方法步骤，特别是在具有两个电压域和隔离屏障的常规装置中使用的没有明确描述的特征和部件。
27.除非另有说明，否则不同示例性实施例的特征可以彼此组合。针对示例性实施例之一描述的变化，修改和细节也可以应用于其他示例性实施例，因此不再重复说明。
28.图1是根据实施例的装置的框图。图1的装置可以是半导体装置或形成在半导体衬底上的半导体装置。
29.图1的装置包括第一电压域10和第二电压域11。第一电压域10和第二电压域11可以集成在单个芯片上。在本技术的上下文中，电压域针对特定的最大电压而被设计和/或由特定的电源电压供电的装置区域。第一电压域10和第二电压域11被隔离屏障12在电流方面分离。可以使用各种装置来通过隔离屏障12进行信号传输，例如可以用于感应地传输信号的变压器，或者可以用于电容性地传输信号的电容器。在一些示例性实施例中，可以使用无芯变压器，将在下面参考图2对其进一步解释。
30.第一电压域10可以在高电压下工作，第二电压域11可以在低电压下工作，术语“高电压”和“低电压”在此应相对理解，即，高电压高于低电压。例如，第一电压域10可以在电压大于20v或大于100v、例如400v时工作，并且第二电压域11可以在电压小于10v时工作。第一电压域10和第二电压域11之间的电压差可以大于20v，例如大于50v或大于100v。然而，这些电压仅应被理解为示例。在其他实施例中，第一电压域10和第二电压域11也可以电压相似或相同时工作，并且仍然被隔离屏障12分离。在其他实施例中，第一电压域10可以在电压低
于第二电压域11时工作。
31.在一些示例性实施例中，第二电压域11可以包括用于控制功率晶体管的控制电路，并且第一电压域10可以包括接口，该接口用于例如用于驱动电动机的多相逆变器的这种功率晶体管。这些功率晶体管可以与图1的装置分离地布置，例如布置在另一个芯片上，并且图1中的装置的第一电压域10可以例如包括高压侧的变压器线圈和用于经由隔离屏障12传输信号的变压器的相应的接口、或在高压侧的电容器板和用于这种信号传输的电容器的相应接口。
32.这种变压器的线圈或这种电容器的板可包括在一个或多个金属层中的铜导体迹线或铜板，这些金属层沉积并构造在半导体衬底上。在制造这种铜金属层时可以使用化学机械抛光(cmp)。如引言中所解释的，这种cmp工艺可能导致划痕，该划痕会损害隔离屏障12的功能。
33.为了检测这种划痕，图1中的装置具有划痕检测电路13。划痕检测电路13包括彼此以间距d布置的第一电极14和第二电极15。间距d可以小于2μm，例如小于1μm，例如在600nm或更小的范围内。在一些实施方式中，d对应于在所使用的制造技术中可实现的最小间距。在第一电极14和第二电极15之间布置有绝缘材料，例如氧化物或其他电介质。
34.第一电极14和第二电极15可以布置在金属层中，在金属层中布置有上述变压器的线圈或上述电容器的板。第一电极14和第二电极15可以分别包括多个子电极，其中每个子电极布置在线圈或电容器板的一个这种金属层中。稍后将对此说明。第一电极14可以通过保护环形成，该保护环围绕第一电压域10或其一部分，例如围绕变压器或电容器，用于经由隔离屏障12进行信号传输。在其他实施例中，除了这种保护环之外，还可以提供第一电极14。为此还举例说明。第一电极14和第二电极15可以完全或部分地围绕第一电压域10、和/或形成在图1的装置的多个区域上。以此方式，在一些示例性实施例中，可以提高检测关键划痕的可能性。
35.为了进行划痕检测，在制造图1的装置之后，在第一电极14和第二电极15之间施加电压。为此目的，例如，第一电极14可以固定地接地，并且可以经由测试垫将电压施加到第二电极15上。在其他实施例中，还可以经由各自相应的测试垫将电压施加到两个电极14、15上。该电压可以例如在操作期间低于第一电压域10与第二电压域11之间的电压差，如果这些电压域使用不同电压的话。电压可以例如是10v或更高、50v或更高、或100v或更高，例如约180v。
36.由于第一电极14和第二电极15之间的间距d相对较小，因此即使由于划痕而造成的损伤相对较小，也足以使产生在第一电极14和第二电极15之间的电流流动。然而，没有划痕，第一电极14与第二电极15电隔离，因此没有电流流动。以这种方式，可以在施加电压时基于电流流动来检测划痕。
37.这种划痕检测可以作为生产测试的一部分进行，例如在生产结束时进行。在实际使用图1所示的装置之前，第二电极15(如果还没有，则也有第一个电极14)然后可以连接到地电位，这例如通过将相应的测试垫例如经由键合线来接地。以此方式，电极对电路运行的干扰至少并不明显。
38.图2示出了一种电路作为划痕检测电路的应用环境的示例，其具有无芯变压器和电压域之间的隔离屏障，该划痕检测电路诸如是划痕检测电路13。
39.图2示出了所谓的无芯变压器的简化截面图。在图2中，第一线圈21布置在衬底24(例如，半导体衬底)上方的第一金属层中，并且第二线圈20布置在衬底24上方的第二金属层中。电介质22布置在线圈20、21之间。衬底24可以是半导体衬底，在该半导体衬底上还可以形成其他的电路部件(未示出)，例如图1的第二电压域11的电路部件，例如上述的控制电路。第二线圈20是图1的第一电压域10的示例，并且可以经由键合线25与属于第一电压域的其他电路、例如集成电路连接。对此的示例是上述多相逆变器的功率晶体管。此类应用仅作为示例。
40.然后，第一线圈21可以通过金属连接(未示出)，例如在第一线圈21的第一金属层中或在其他金属层中，连接至在基板24上形成的这种电路。如图2所示的这种无芯变压器也可以被设计用于差分信号传输。在这种情况下，可以提供与线圈20、21相对应的另一对线圈。还可以提供用于并行传输多个信号的其他线圈对。
41.在线圈20、21的周围形成有保护环26，该保护环26连接至接地电位，并且在第一线圈21的第一金属层和第二线圈20的第二金属层中具有一部分，并且在另外的部分中具有其他部分，它们通过垂直连接(via，垂直互连接入)而连接的金属。如图所示，保护环在不同金属层中的部分不必垂直地彼此叠置；例如，呈楼梯形式的倾斜布置也是可能的。在一些实施例中，该保护环可以用作划痕检测电路13的第一电极14。然后可以将保护环位于第一和第二金属层中的部分视为相应的子电极。然后第二电极15同样可以具有至少在第一金属层和第二金属层中的子电极。在其他实施例中，也可以例如仅在第一金属层中或仅在第二金属层中提供(子)电极。保护环26形成用于由线圈20、21形成的变压器的横向绝缘。具有由线圈20、21形成的变压器和保护环26的这种布置产生电压域之间的隔离屏障，如图2中作为隔离屏障23以虚线示出。
42.如上面已经提到的，该隔离屏障可以通过划痕而受到损伤，该划痕例如可以在由铜制造线圈20、21的过程中的化学机械抛光过程中产生。现在将参考图3a和3b更详细地解释。
43.图3a示出了具有布置在金属层中的两个线圈30、31的装置的一部分的俯视图，例如，如图2所示的两个无芯变压器的线圈20。图3b示出了图3a的标记为“切口”的区域的截面图。
44.在图3a中，示出了划痕32，其穿过线圈30、31以及线圈之间的空间。诸如划痕32的划痕是由用于cmp工艺的浆料中的颗粒引起的。这样的颗粒可以例如是金刚石块或氧化物块。这些颗粒压入铜导体轨迹(在图3b的情况下线圈31)的圆角中，并且可以撞击周围的电介质，例如二氧化硅，如图3b中的区域34所示。电介质因此被损伤或局部破坏。电介质的这种损伤或局部破坏于是可以是电压域之间的高压击穿的起点。
45.在图1中的划痕检测电路13的第一电极14和第二电极15以及在下面讨论的划痕检测电路的相应电极之间，也出现由划痕引起的类似效果。由于电极之间的间距d小，在这种情况下，即使电极之间的电压相对较低，在电极之间的电介质损坏的情况下也会导致产生能被测量的电流流动。这意味着可以检测到划痕。
46.图4示出了根据另一示例性实施例的装置的俯视图。图4的装置包括区域40，第一电压域、例如高电压域位于该区域中。此外，低压域的至少一部分可以位于区域40中。例如，可以在区域40中，变压器或电容器的一侧(例如，图2的第二线圈20)属于第一电压域，并且
其第二侧(例如，图2的第一线圈21)属于第二电压域，例如低压域。区域40被保护环41围绕，该保护环41例如可以如图2的保护环26那样构造。在所示的示例中，保护环41电耦合至另一保护环43，该另一保护环43围绕属于第二电压域(例如，低压域)的区域42。保护环41经由保护环43接地(gnd)49。可替代地或附加地，保护环也可以连接至其自身的接地垫46。
47.除了其作为保护环的功能之外，保护环41还用作划痕检测电路的第一电极。
48.在图4的示例中，第二电极包括第一部段44a和第二部段44b，并且被统称为第二电极44。在图4的示例中，第一部段44a围绕图4中的保护环41的上部延伸，并且部分44b围绕保护环41的下部延伸。部段44a，44b分别平行于保护环41伸展，并与保护环41相距一定间距，该间距如已经针对图1的划痕检测电路13所解释地可以小于2μm，例如小于1μm，例如小于600nm，并且在一些实施例中，可以对应最小可能间距。在图4的情况下，在保护环43从保护环41分支的点处，部段44a，44b通过间隙、即中断部而彼此分离。然而，部段44a和44b例如通过其他金属层中的导线以及垂直的连接、或通过其他附加导线而彼此电连接。尽管示出了两个间隙，但是部段44a，44b可以具有更多的间隙。例如，在一些实施例中，部段44a，44b可以在保护环41的长度的至少80％上延伸，并且在其他实施例中，也可以在保护环41的较小部分上延伸。在一些实施例中，部段44a，44b之一也可以被省略。在不同的金属层中的构造也可以是不同的，从而例如在一个金属层中存在两个部段44a，44b，而在另一金属层中仅存在一个部段。
49.例如，这种间隙可以以规则或不规则的间距出现，使得间隙具有例如整个第二电极的长度的25％、40％或甚至75％。如将在后面参考图6a至6f说明的，除了图4所示的走向之外的其他形状也是可能的。这样的间隙或其他形状可以借助光刻工艺来简化电极的制造，因为在某些制造工艺中可以避免抗蚀剂长板的问题。
50.第二电极与测试垫45电耦合。为了进行测试，然后例如利用借助探针的测试器装置将电压施加到测试垫45。此电压可以大于10v，例如在50v、100v或更高的范围内，例如在180v左右。然后测量响应于该电压的电流流动。如果用作第一电极的保护环41和第二电极44之间的电介质完好无损，则没有显著的电流流动。相反，在由于划痕而损伤的情况下可以出现能被测量的电流流动。因此可以检测到划痕。在测试之后，例如在将装置交付给客户之前，则可以例如借助键合线47将测试垫45与接地垫46、地49或另一个接地端子连接。因此，当该装置在实际使用中时，保护环41和第二电极44都接地。然后第二电极44a，44b还可以用作附加的保护环。对于在测试之后进行的接地的替代，第二电极44也可以一开始就经由高欧姆电阻410接地，该电阻例如大于1000ω(欧姆)，例如在兆欧范围内，例如大于1mω或大于10mω。
51.可选地，可以提供另一测试垫48，其电连接到测试垫45。在这种情况下，测试器装置可以首先将一个探针放置在测试垫45上，再将另一个探针放置在测试垫48上，在探针之间施加电压并测量探针之间的电流流动。如果有电流流动，则表明探针与测试垫(特别是测试垫45)正确接触。然后可以进行上述测试。
52.可替代地，在存在电阻器410时，可以在上述测试中检查是否至少存在经由电阻器410来自测试垫45的预期泄漏电流。如果不是这种情况，则表明未正确接触测试垫45。
53.应当注意，在其他实施例中，可以提供第一电极和第二电极而与保护环无关。例如，第一电极和第二电极可围绕线圈(诸如图2的线圈20、21)环绕地被布置。
54.金属平面中的铜线通常具有被做成圆形的形状，这也如图3b所示。在一些示例性实施例中，划痕检测电路的第一电极(例如保护环)和第二电极可以具有第一部段和第二部段，第一部段带有圆形的横截面，第二部段在横截面中具有端面。这样的一个示例在图5中示出。
55.图5示出了具有第一电极58和第二电极59的划痕检测电路的横截面图。第一电极58可以例如对应于图4的保护环41，第二电极59可以对应于图4的第二电极44。
56.第一电极58具有第一子电极50a和第二子电极50b。可以将第一子电极50a布置在衬底57上方的第一金属层中，并且可以将第二子电极50b布置在衬底57上方的第二金属层中。第一金属层和第二金属层可对应于图2的线圈20、21的金属层，或对应于电容器板的相应金属层。在其他实施例中，也可以仅提供一个子电极，或者可以提供两个以上的子电极。
57.第一子电极50a和第二子电极50b经由连接51、例如垂直连接(via，垂直互连接入)而彼此电连接。另外，第二子电极50b经由另一垂直连接与基板57连接，并在该处接地。还可以提供另一种接地，例如与图4的地49或接地垫46的导电连接。第二电极59具有第一子电极54a和第二子电极54b，它们通过垂直连接55彼此连接。第二电极59的第一子电极54a与第一电极58的第一子电极50a相关联，并且被布置在与之相同的金属层中，第二电极59的第二子电极54b与第一电极58的子电极50b相关联，并且被布置在与之相同的金属层中。
58.子电极50a，50b或54a，54b不必垂直地彼此叠置，而是例如也可以成角度地设置。
59.子电极50a，50b，54a，54b分别具有第一部段和第二部段53a，53b，56a和56b，第一部段带有圆形的横截面(在图5的示例中为椭圆形横截面)，其中所示示例中的第二部段例如是矩形的并且分别具有端面。第二部段53a，56a的端面彼此面对，并且第二部段53b，56b的端面彼此面对。端面之间的间距d定义了第一电极58和第二电极59之间的间距，并且可以相应于附图1的间距d来确定尺寸，例如小于2μm、小于1μm、小于600nm，或者相应于用于制造装置所用的最小值。
60.通过具有端面的第二部段53a，53b，56a，56b在电极之间产生了限定的间距，尽管在第一部段中具有另外的圆形形状。另外，利用所示的形状和相关的铜深度，颗粒可以在cmp工艺中很好地渗透并造成如上所述的损伤。
61.在图4的实施例中，保护环41在图3的装置的俯视图中作为第一电极和第二电极44基本平行地伸展，并且除了少数弯曲部分之外笔直地伸展。第一电极和第二电极的其他走向也是可能的。现在将参照图6a至图6f说明划痕检测电路中的电极走向的各种示例。图6a至图6f分别示出了第一电极和第二电极的俯视图。这些形状可以作为电极的变型应用于任何先前讨论的实施例。混合形式也是可能的，例如形成如图6b中所示电极的一个部段和如图6c中所示电极的另一部段，和/或在不同的金属层中，例如在图5的不同子电极中可以使用不同的形状。在第一电极和第二电极形状不同的图6b至6f的实施例中，这些形状也可以互换，即第一电极可以具有第二电极的形状，并且反之亦然。
62.在图6a中，第一电极60具有朝着第二电极600延伸的部段，该部段也被称为指形部，并且第二电极600相应地具有朝着第一电极60延伸的指形部。这样的指形部对也可以设置在多个位置。图6b示出了一种扩展方案，其中第一电极61和第二电极601分别形成多个相互啮合的指形部。这种结构也称为叉指结构。
63.在图6c中，第一电极62具有带角的凹槽，第二电极602具有弯折成角度的走向，该
走向啮合到第一电极62的凹槽中。
64.在图6d中，第一电极63具有波浪形状，第二电极603具有与其平行延伸的波浪形状。
65.在图6e中，第一电极64具有限定凹槽的多个指形部，并且第二电极604具有布置在这些指形部之间的垫状结构。
66.在图6f中，第一电极65和第二电极605在彼此平行的直线上延伸，其中以规则或不规则的间隔彼此面对地提供。尽管图6f中的这些凸起具有带角的形状，但是在其他示例性实施例中也可以使用圆形凸起。
67.图6a至图6f的形状可以帮助扩大电极之间的面积，其中电极彼此之间具有小间距，和/或可以通过例如在通过光刻的生产过程中生产抗蚀剂长直板来简化生产。可以避免在电极之间形成绝缘区域。
68.从图6a至6f可以看出，各种不同形状的电极都是可能的，并且实施例不限于特定形状。
69.应当注意，图6a至图6f所示的结构也可以被加长，例如以便由保护环和如图4中所示的基本上在保护环的整个长度上的第二电极来形成电极对。
70.图7示出了流程图，以示出根据一些实施例的方法。图7的方法描述了如上所述具有两个电极的划痕检测电路的使用，并参考它们进行解释。
71.在步骤70中，该方法包括：在划痕检测电路的第一电极和第二电极(例如上述的第一和第二电极)之间施加电压。
72.在步骤71中，该方法包括：基于第一电极和第二电极之间的电流，确定是否存在划痕。特别地，在电流流动时可以确定存在划痕，并且在没有电流流动时可以确定没有划痕。如果有划痕，可以将相应的装置作为废料丢弃。如果确定没有划痕，则可以为了装置的后续操作而将第一电极和/或第二电极接地(步骤72)，这如参照图4根据键合线47所解释的那样。
73.尽管上面已经在具有第一电压域和第二电压域的装置的上下文中描述了划痕检测电路，但是如果特别是在诸如在制造装置时出现划痕、例如半导体组件中，则这种划痕检测电路也可以与此无关地使用，其中在半导体组件中形成金属连接的过程包括化学机械抛光，特别是在将铜用作金属时。在这种情况下，例如可以将多个划痕检测电路分散地布置在芯片上，以便能够检测在芯片上的不同位置处的划痕。如上所述，即使在两个电压域的情况下，也可以将多个划痕检测电路分散在芯片上。
74.以下实施例定义了一些实施方案：
75.示例1.一种装置，包括：
76.第一电压域和第二电极，第一电极和第二电极之间的间距小于2μm。
77.示例2.根据示例1的装置，该间距小于1μm或小于600nm。
78.示例3.根据示例1或2的装置，其中第二电压小于第一电压。
79.示例4.根据示例3的装置，其中第二电压比第一电压小至少20v。
80.示例5.根据示例1至4中任一个的装置，其中装置包括保护环，其围绕第一电压域的至少一部分，其中保护环用作第一电极。
81.示例6.根据实施例3的装置，第二电极平行于保护环延伸。
82.示例7.根据示例5或6所述的装置，其中第二电极在所述保护环长度的至少80％上被提供。
83.实施例8.根据实施例5或6中任一个的装置，其中第二电极在保护环长度的小于60％上被提供。
84.示例9.根据示例1至8中任一个的装置，其中第一电极和/或第二电极具有一个或多个中断部。
85.示例10.根据示例9的装置，其中中断部的总长度小于第一电极和/或第二电极(即，具有中断部的那个(些)电极)的总长度的75％。
86.示例11.根据示例1至10中任一个的装置，其中第一电极具有一个数量的第一子电极，其中该第一数量大于或等于1，其中第二电极具有该数量的第二子电极，其中各一个第一子电极和一个第二子电极在同一金属层中彼此相关联地布置。
87.示例12.根据示例11的装置，其中每个第一子电极和每个第二子电极均具有第一部段和第二部段，第一部段具有圆形横截面，第二部段具有带有端面的横截面，其中彼此相关联的第一子电极和第二子电极的端面彼此面对。
88.示例13.根据示例11或12的装置，其中第一电压域和第二电压域经由无芯变压器耦合，其中无芯变压器的第一和第二子电极。
89.示例14.根据示例11或12的装置，其中第一电压域和第二电压域经由一个或多个电容器耦合，其中第一子电极和第二子电极被布置在与电容器的电极相同的金属层中。
90.示例15.根据示例1至14中任一个的装置，其中第一电极和第二电极的至少一个部段分别具有一个或多个指形部，第一电极的指形部平行于第二电极的指形部延伸。
91.示例16.根据示例15的装置，其中第一电极和第二电极的指形部形成叉指结构。
92.示例17.根据示例1至16中任一个的装置，其中第一电极或第二电极中的一个电极的至少一个部段具有凹槽，并且其中第一电极和第二电极中的另一个电极的至少一个部段具有位于凹槽中的部分。
93.示例18.根据示例1至17中任一个的装置，其中第一电极和第二电极的至少一个部段具有波浪形状，其中第一电极和第二电极的波浪形状彼此平行延伸。
94.示例19.根据示例1至18中任一个的装置，其中在至少一个部段中，第一电极平行于第二电极延伸，并且第一电极和第二电极具有彼此面对的凹槽。
95.示例20.根据示例1至19中任一个的装置，其中第一电极接地。
96.示例21.根据示例1至20中任一个的装置，其中第一电极和/或第二电极被设置为，在装置的正常运行状态中接地，并且在测试运行状态中与测试端子连接。
97.示例22.根据示例1至21中任一个的装置，其中第一电极和/或第二电极经由电阻接地，电阻的电阻值为1000ohm或更大。
98.示例23.根据示例1至22中任一个的装置，其中第一电极接地，其中第二电极连接与测试垫连接，并且其中测试垫经由键合线接地。
99.示例24.一种用于测试根据示例1至23中任一个的装置的方法，包括：
100.在第一电极和第二电极之间施加电压，
101.基于在第一电极和第二电极之间响应于该电压的电流，确定是否存在划痕。
102.示例25.示例24的方法，其中电压大于10伏。
103.示例26.示例24或25的方法，还包括在确定之后，将第一电极和/或第二电极接地。
104.示例27.根据实施例24
‑
26中任一个的方法，还包括当确定存在划痕时，将该装置作为废料处理。
105.示例28.划痕检测电路，包括：
106.第一电极和第二电极，第一电极和第二电极之间的间距小于2μm。
107.示例29.根据示例28的划痕检测电路，其中该间距小于1μm或小于600nm。
108.示例30.根据示例28或29的划痕检测电路，其中第一电极是保护环。
109.示例31.根据示例30的划痕检测电路，其中第二电极平行于保护环延伸。
110.示例32.根据示例30或31的划痕检测电路，其中第二电极设置在保护环长度的至少80％上被提供。
111.示例33.根据示例30或31中任一个的划痕检测电路，其中第二电极在保护环长度的小于60％上被提供。
112.示例34.根据示例28至33中任一个的划痕检测电路，其中第一电极和/或第二电极具有一个或多个中断部。
113.示例35.根据示例34的划痕检测电路，其中中断部的总长度小于所述第一电极或所述第二电极的总长度的75％。
114.示例36.根据示例28至35中任一个的划痕检测电路，第一电极具有一个数量的第一子电极，其中该第一数量大于或等于1，其中第二电极具有该数量的第二子电极，其中各一个第一子电极和一个第二子电极在同一金属层中彼此相关联地布置。
115.示例37.根据示例36的划痕检测电路，其中每个第一子电极和每个第二子电极均具有第一部段和第二部段，第一部段具有圆形横截面，第二部段具有带有端面的横截面，其中彼此相关联的第一子电极和第二子电极的端面彼此面对。
116.示例38.根据示例28至37中任一个的划痕检测电路，其中第一电极和第二电极的至少一个部段分别具有一个或多个指形部，第一电极的指形部平行于第二电极的指形部延伸。
117.示例39.根据示例38的划痕检测电路，其中第一电极和第二电极的指形部形成叉指结构。
118.示例40.根据示例28至39中任一个的划痕检测电路，其中第一电极或第二电极中的一个电极的至少一个部段具有凹槽，并且其中第一电极和第二电极中的另一个电极的至少一个部段具有位于凹槽中的部分。
119.示例41.根据示例28至40中任一个的划痕检测电路，其中第一电极和第二电极的至少一个部段具有波浪形状，其中第一电极和第二电极的波浪形状彼此平行延伸。
120.示例42.根据示例28至41中任一个的划痕检测电路，其中在至少一个部段中，第一电极平行于第二电极延伸，并且第一电极和第二电极具有彼此面对的凹槽。
121.示例43.根据示例28至42中任一个的划痕检测电路，其中第一电极接地。
122.示例44.根据示例28至43中任一个的划痕检测电路，其中第一电极和/或第二电极经由电阻接地，电阻的电阻值为1000ohm或更大。
123.示例45.根据示例28至44中任一个的划痕检测电路，其中第一电极接地，其中第二电极连接与测试垫连接，并且其中测试垫经由键合线接地。
124.示例46.根据示例1至23中任一个的装置或根据示例28至44中任一个的划痕检测电路，其中第一电极和/或第二电极相应与第一测试垫连接，其中第一测试垫与相应的第二测试垫电连接。
125.尽管本文已经说明和描述了特定实施例，但本领域的技术人员将了解，可以在不脱离本发明的范围的情况下，用各种备选和/或等效实施方式代替所示出和描述的特定实施例。本技术旨在涵盖本文所讨论的具体实施例的任何改编或变化。因此，本发明旨在仅由权利要求及其等同物限制。