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一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置的制作方法

2021-10-20 00:42:00 来源:中国专利 TAG:活化 消毒 等离子体 雾化 低温

技术特征:
1.一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于,包括:水雾化组件(100),所述水雾化组件(100)包括第一壳体(110)、储水箱(120)、雾化器(130)和第一风机(140),所述储水箱(120)、所述雾化器(130)和所述第一风机(140)分别安装于所述第一壳体(110)的内部,所述储水箱(120)的侧部连接有导水管(150),所述导水管(150)的出水端与所述雾化器(130)的进水端相连,所述雾化器(130)的出口与所述第一风机(140)的进料端相连,所述第一风机(140)的出气端连接有导气管(160),所述导气管(160)从所述第一壳体(110)的侧部伸出;水汽导入组件(200),所述水汽导入组件(200)包括气液混合箱(210)、第二风机(220)、进气管(230)和出气管(240),所述气液混合箱(210)连接于所述导气管(160)的出气端,所述进气管(230)连接于所述第二风机(220)的进气端,所述出气管(240)设置有两个,两个所述出气管(240)分别安装于所述第二风机(220)的两侧,两个所述出气管(240)的出气端分别与所述气液混合箱(210)的两侧相连,一个所述出气管(240)的出气端与所述导气管(160)的出气端邻近,另一个所述出气管(240)的出气端与所述导气管(160)的出气端相对;纳米雾化组件(300),所述纳米雾化组件(300)包括等离子发生器(310)、多孔催化网(320)和若干喷射头(330),所述等离子发生器(310)安装于所述气液混合箱(210)的出气端,所述多孔催化网(320)连接于所述等离子发生器(310)的出料端,若干所述喷射头(330)分别连接于所述多孔催化网(320)的出料端。2.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:所述水雾化组件(100)还包括空气制水器(170),所述空气制水器(170)的出液端与所述储水箱(120)相连。3.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:所述储水箱(120)的侧部连接有水量传感器(121),所述储水箱(120)的中部连接有水过滤器(122)。4.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:所述导水管(150)的中部连接有定量阀(151),所述导水管(150)的进水端与所述储水箱(120)之间设置有第一密封圈(152),所述导水管(150)的出水端与所述雾化器(130)的进水端之间设置有第二密封圈(153)。5.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:所述气液混合箱(210)的内部安装有若干均流通道(211),所述气液混合箱(210)的下部开设有若干与所述等离子发生器(310)配合的导料孔(212)。6.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:所述等离子发生器(310)包括绝缘框架(311)和若干石英玻璃管(312),所述绝缘框架(311)安装于所述气液混合箱(210)的出料端,若干所述石英玻璃管(312)分别安装于所述绝缘框架(311)的内侧,若干所述石英玻璃管(312)的内侧套贴有金属管(313),若干所述金属管(313)的一端通过金属导线交错焊接,形成高压极和接地极。7.根据权利要求6所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:若干所述石英玻璃管(312)之间的间距为2mm

4mm,若干所述石英玻璃管(312)的壁厚为0.8mm

1.2mm。8.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:
所述多孔催化网(320)由单层泡沫镍多孔板上分别负载纳米tio2和mno2制备而成。9.根据权利要求1所述的一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,其特征在于:若干所述喷射头(330)的外侧分别设置有防护罩(331),所述防护罩(331)将若干所述喷射头(330)分别隔开。

技术总结
本发明公开了一种低温等离子体活化水消毒用纳米雾化装置,包括水雾化组件、水汽导入组件和纳米雾化组件,所述水雾化组件包括第一壳体、储水箱、雾化器和第一风机,所述水汽导入组件包括气液混合箱、第二风机、进气管和出气管,所述纳米雾化组件包括等离子发生器、多孔催化网和若干喷射头。本发明中,通过先对水进行雾化,雾化后的水通过与空气的混合,然后再进行等离子化,获得低温等离子体活化水,然后通过喷射头喷出,达到良好的纳米雾化效果,便于后续喷洒的均匀,进而达到良好的消毒效果。进而达到良好的消毒效果。进而达到良好的消毒效果。


技术研发人员:陆年华
受保护的技术使用者:普斯德(镇江)等离子应用科技有限公司
技术研发日:2021.08.16
技术公布日:2021/10/19
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