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一种用于石膏模型和数位模型的替代体的制作方法

2021-10-16 10:18:00 来源:中国专利 TAG:模型 石膏 数位 种植 用于


1.本实用新型涉及种植牙配件领域,尤其涉及一种用于石膏模型和数位模型的替代体。


背景技术:

2.种植牙指的是一种以植入骨组织内的下部结构为基础来支持、固位上部牙修复体的缺牙修复方式。它主要包括下部的种植体和安装在种植体上部的种植基台两部分。
3.在牙科的口内种植牙技术中,传统的替代体主要使用在石膏模型中,主要用于将种植体连同患者口腔内的种植信息准确转移到石膏模型上,方便技工所的技师在替代体上进行基台等上部结构的设计。另外,随着技术的进步,已出现通过口内扫描仪获取患者口内三维图像,通过扫描扫描杆间接将种植信息转移至三维模型上的技术,由于后期的基台以及冠需要在三维打印模型上进行相应的调整,使用3d打印机直接打印患者的口内模型时,接口精度以及硬度无法达到要求,因此,也需要相应的替代体进行基台转移。
4.现有的替代体的设计仅仅针对石膏模型或三维模型,因此急需一种能够实现基本限位作用的替代体,而且能够应用于石膏模型和三维模型,以扩大替代体的使用范围。


技术实现要素:

5.针对上述问题,本实用新型提出一种用于石膏模型和数位模型的替代体,主要解决背景技术的问题。
6.为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案如下:
7.一种用于石膏模型和数位模型的替代体,包括替代体本体,所述替代体本体的中部设有凹槽,所述凹槽将所述替代体本体分割为第一替代体本体和第二替代体本体,所述第一替代体本体的端面设置有抗旋槽,所述抗旋槽的下端设有安装孔,所述安装孔的内壁设有内螺纹,所述第二替代体本体和所述凹槽形成的同轴体的侧面设有抗旋平面。
8.在一些实施方式中,所述抗旋槽为三角棱台、六角棱台、八角棱台或十字锁扣。
9.在一些实施方式中,所述抗旋槽接近所述第一替代体本体端面的一端切削出扩充面。
10.本实用新型的有益效果为:通过在第一替代体本体和第二替代体本体之间设置凹槽,在第二替代体本体和凹槽形成的同轴体的侧面设置抗旋平面,从而限制替代体在石膏模型或三维模型中不能随意上下运动以及旋转运动,扩大了替代体的适用范围。
附图说明
11.图1为本实用新型实施例公开的用于石膏模型和数位模型的替代体的立体图;
12.图2为本实用新型实施例公开的用于石膏模型和数位模型的替代体的纵截面示意图;
13.其中:1

第一替代体本体,2

凹槽,3

第二替代体本体,4

抗旋槽,5

安装孔,6


螺纹,7

抗旋平面,8

扩充面。
具体实施方式
14.为使本实用新型解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施例的技术方案作进一步的详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
15.在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
16.在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
17.如图1和2所示,本实施例提出一种用于石膏模型和数位模型的替代体,包括替代体本体,替代体本体的中部设有凹槽2,凹槽2将替代体本体分割为第一替代体本体1和第二替代体本体3两部分,第一替代体本体1的端面设置有抗旋槽4,抗旋槽4的下端设有安装孔5,安装孔5的内壁设有内螺纹6,第二替代体本体3和凹槽2形成的同轴体的侧面设有抗旋平面7。上述的内螺纹6用于配合螺丝将扫描杆固定安装在替代体上。
18.本实用新型通过在第一替代体本体1和第二替代体本体3之间设置凹槽2,在第二替代体本体3和凹槽2形成的同轴体的侧面设置抗旋平面7,从而限制替代体在石膏模型或三维模型中不能随意上下运动以及旋转运动,扩大了替代体的适用范围。
19.更进一步的,所述抗旋槽4为三角棱台、六角棱台、八角棱台或十字锁扣,还可以是其他的异型,目的在于适配更多型号和规格的扫描杆,抗旋槽4用于容纳扫描杆的下端部,并且避免扫描杆与替代体本体发生相对位移。
20.更优的,所述抗旋槽4接近所述第一替代体本体1端面的一端切削出扩充面8,扩充面8用于扩大抗旋槽4的入口,便于扫描杆的下端部进入抗旋槽4。
21.上述实施例只是为了说明本实用新型的技术构思及特点,其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡是根据本实用新型内容的实质所做出的等效的变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。


技术特征:
1.一种用于石膏模型和数位模型的替代体,其特征在于,包括替代体本体,所述替代体本体的中部设有凹槽,所述凹槽将所述替代体本体分割为第一替代体本体和第二替代体本体,所述第一替代体本体的端面设置有抗旋槽,所述抗旋槽的下端设有安装孔,所述安装孔的内壁设有内螺纹,所述第二替代体本体和所述凹槽形成的同轴体的侧面设有抗旋平面。2.如权利要求1所述的用于石膏模型和数位模型的替代体,其特征在于,所述抗旋槽为三角棱台、六角棱台、八角棱台或十字锁扣。3.如权利要求1所述的用于石膏模型和数位模型的替代体,其特征在于,所述抗旋槽接近所述第一替代体本体端面的一端切削出扩充面。

技术总结
本实用新型公开一种用于石膏模型和数位模型的替代体,包括替代体本体,替代体本体的中部设有凹槽,凹槽将替代体本体分割为第一替代体本体和第二替代体本体,第一替代体本体的端面设置有抗旋槽,抗旋槽的下端设有安装孔,安装孔的内壁设有内螺纹,第二替代体本体和凹槽形成的同轴体的侧面设有抗旋平面。本实用新型的有益效果是:通过在第一替代体本体和第二替代体本体之间设置凹槽,在第二替代体本体和凹槽形成的同轴体的侧面设置抗旋平面,从而限制替代体在石膏模型或三维模型中不能随意上下运动以及旋转运动,扩大了替代体的适用范围。围。围。


技术研发人员:罗滔
受保护的技术使用者:天琪(广东)科技发展有限公司
技术研发日:2021.01.18
技术公布日:2021/10/15
再多了解一些

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