局部亮光可变图像光学系统及其制作方法与流程

技术特征：
1.一种局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。2.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为宏观序列图或微图文阵列。3.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为内凹型结构或外凸型结构。4.如权利要求3所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为0.5微米至5微米。5.如权利要求4所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为1微米至3微米。6.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构的表面为平面或光栅结构。7.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述微透镜阵列层为微柱透镜阵列或微圆透镜阵列。8.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述镀层的材料为金、银、铜、铝、镍中的任意一种。9.一种局部亮光可变图像光学系统的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1-8中任意一项所述的局部亮光可变图像光学系统，所述制作方法包括：在基材的一侧制作微透镜阵列层；在所述基材的另一侧制作图文结构；在所述基材制作有所述图文结构的一侧形成镀层；去除所述图文结构的表面之外的镀层；将前一步骤所得产品清洗、晾干，得到最终产品。10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述基材的另一侧制作图文结构，包括：根据所需的图文结构设计与所述图文结构对应的光刻文件；使用光刻机根据所述光刻文件制作出与所述图文结构对应的胶板；利用电化学沉积工艺将所述胶板制作成金属模压板；利用所述金属模压板在所述基材的另一侧制作图文结构；和/或，去除所述图文结构的表面之外的镀层，包括：通过电解技术工艺去除图文结构的表面之外的镀层。

技术总结
本发明公开了一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。局部亮光可变图像光学系统，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。本发明通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。印刷品的美观度和吸引力。印刷品的美观度和吸引力。


技术研发人员：庄孝磊
受保护的技术使用者：上海天臣防伪技术股份有限公司
技术研发日：2020.04.28
技术公布日：2021/10/28