极紫外光源中的目标提供控制装置和方法与流程

技术特征：
1.一种用于极紫外(euv)光源的目标装置，所述目标装置包括：目标发生器，包括被配置为容纳在等离子体状态下时产生euv光的目标材料的容器和与所述容器流体连通的喷嘴结构，所述目标发生器在所述喷嘴结构中限定开口，所述开口适合于释放从所述容器接收的所述目标材料；传感器模块，被配置为：当所述目标材料沿着朝向目标空间的轨迹行进时，检测与从所述开口释放的所述目标材料相关的方面，以及从检测到的所述方面产生一维信号；以及目标发生器控制器，与所述传感器模块和所述目标发生器通信，所述目标发生器控制器被配置为基于对所述一维信号的分析来修改所述目标材料的特性。2.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述喷嘴结构包括限定所述开口的毛细管，并且所述开口沿着所述毛细管的纵向方向延伸。3.根据权利要求2所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器包括致动装置，所述致动装置被配置为扰动经过所述开口释放所述目标材料的速率。4.根据权利要求3所述的目标装置，其中所述致动装置包括压电感应器，所述压电感应器被配置为向所述容器中的流体形式的目标材料施加压力，并且所述目标发生器控制器被配置为改变提供给所述压电感应器的信号以改变施加到所述流体目标材料的压力，从而引起所述目标材料经过所述开口被释放的速率被扰动。5.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器包括：控制系统，被配置为基于对所述一维信号的所述分析生成驱动波形；和致动装置，所述致动装置与所述控制系统通信并且与所述目标材料相互作用，其中所述致动装置被配置为根据来自所述控制系统的所述驱动波形来修改所述目标材料的所述特性。6.根据权利要求5所述的目标装置，其中所述控制系统是可编程的、并且被配置为生成周期性驱动波形。7.根据权利要求5所述的目标装置，其中所述控制系统被配置为修改所述驱动波形的方面，包括修改以下一项或多项：所述驱动波形的一个或多个频率和所述驱动波形的一个或多个相位，并且所述驱动波形被修改的速率为每秒约100
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500个不同波形。8.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述传感器模块包括：一个或多个光电二极管，每个光电二极管的输出是与由检测到的所述光产生的电流相关的电压信号；光电晶体管；光敏电阻器；以及光电倍增管。9.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器不与任何被配置为输出与所形成的目标相关的二维信号的检测模块通信。10.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述传感器模块独立于与所述目标发生器控制器的通信而与光源控制器通信，所述光源控制器被配置为：调节指向所述目标空间的辐射脉冲的一个或多个特性。11.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器具有至少5mhz的采样速率。12.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述传感器模块被配置为：检测由所述目标材料与被引导以穿过所述轨迹的光幕之间的相互作用产生的光。
13.根据权利要求12所述的目标装置，其中所述传感器模块被配置为：在仅由所述目标材料与所述光幕之间的所述相互作用触发时，检测与所述目标材料相关的方面。14.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述传感器模块被配置为：在不依赖于图像处理和/或不依赖于触发信号的情况下，检测与所述目标材料相关的方面。15.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述目标发生器被配置为：根据由所述目标发生器控制器提供的驱动波形，释放所述目标材料，所述目标材料沿着所述轨迹行进，分离质量块形式的所述目标材料中的至少一些目标材料聚结以在所述目标空间处形成所述目标。16.根据权利要求1所述的目标装置，还包括诊断系统，所述诊断系统被配置为：在所述目标材料进入所述目标空间之前，与沿着所述轨迹行进的所述目标材料诊断性地相互作用，其中所述传感器模块被定位为检测与在所述目标材料和所述诊断系统之间的诊断性相互作用相关的、与所述目标材料相关的所述方面。17.根据权利要求16所述的目标装置，其中所述诊断性相互作用发生在远离所述目标空间的诊断距离处，所述诊断距离小于由沿着所述轨迹行进的所述目标材料形成的相邻目标之间的间距的两倍、或是所述喷嘴结构的所述开口与所述目标空间之间的半程。18.根据权利要求1所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器被配置为：在基于对所述一维信号的所述分析而确定所述目标材料在所述目标空间处的属性的可接受范围内之后，设置所述目标发生器的稳态特性。19.根据权利要求18所述的目标装置，其中所述目标发生器控制器还与所述euv光源的控制装置通信，并且被配置为：一旦所述目标发生器的所述稳态特性被设置，就通知所述控制装置。20.一种控制沿着朝向极紫外(euv)光源的腔室中的目标空间的轨迹行进的目标材料的方法，所述方法包括：经过限定在喷嘴中的纵向开口发射目标材料，所述开口流体耦合到被配置为容纳所述目标材料的容器，其中所述目标材料在等离子体状态下时产生euv光；当所述目标材料沿着所述轨迹朝向所述目标空间行进时，检测与所述目标材料相关的方面；从检测到的方面产生一维信号；分析所述一维信号；以及基于对所述一维信号的所述分析，来修改所发射的目标材料的一个或多个特性。21.根据权利要求20所述的方法，其中经过限定在所述喷嘴中的所述开口发射所述目标材料包括：经过所述开口释放液体形式的目标材料。22.根据权利要求21所述的方法，其中经过所述开口发射目标材料引起：朝向所述目标空间行进的目标材料的一个或多个粒子在到达所述目标空间之前聚结成一个或多个目标。23.根据权利要求20所述的方法，其中修改所述发射的目标材料的一个或多个特性包括：修改与目标材料从所述喷嘴释放的矢量速度相关的参数。24.根据权利要求23所述的方法，其中修改与所述目标材料从所述喷嘴释放的所述矢量速度相关的参数包括：修改提供给与所述容器中的所述目标材料流体连通的致动装置的驱动波形。
25.根据权利要求24所述的方法，其中修改提供给与所述容器中的所述目标材料流体连通的所述致动装置的所述驱动波形包括：在所述容器中的所述目标材料中产生压力波。26.根据权利要求20所述的方法，其中修改所述发射的目标材料的所述一个或多个特性包括：以100
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500hz的速率修改所述一个或多个特性。27.根据权利要求20所述的方法，其中检测与所述目标材料相关的所述方面包括：检测由所述目标材料与诊断探针之间的相互作用产生的光。28.根据权利要求27所述的方法，其中检测与所述目标材料相关的所述方面包括：检测仅由所述目标材料与所述诊断探针之间的所述相互作用触发的光。29.根据权利要求27所述的方法，其中从检测到的光产生所述一维信号包括：从检测到的所述光产生的电流来产生电压信号。30.根据权利要求20所述的方法，其中分析所述一维信号包括：确定所述目标材料的一个或多个运动属性。31.根据权利要求20所述的方法，其中修改发射的所述目标材料的所述一个或多个特性包括：独立于与二维信号相关的任何分析来修改所述一个或多个特性，所述二维信号与所述目标材料相关。32.根据权利要求20所述的方法，其中检测与所述目标材料相关的所述方面独立于图像处理。33.根据权利要求20所述的方法，其中检测与所述目标材料相关的所述方面独立于与指向所述目标空间的辐射脉冲相关的触发信号。34.根据权利要求20所述的方法，还包括：基于对所述一维信号的所述分析，来确定所述目标材料的一个或多个特性是否在所述目标空间处的可接受范围内，并且当确定所述目标材料的所述一个或多个特性在所述目标空间处的所述可接受范围内时，通知所述euv光源的控制装置。35.根据权利要求34所述的方法，还包括将所述目标材料的所述一个或多个特性保持在所述可接受范围内。36.根据权利要求34所述的方法，其中确定所述目标材料的一个或多个特性是否在所述目标空间处的可接受范围内包括：确定所述目标材料在进入所述目标空间之前聚结成具有可接受形状的目标。37.一种调谐用于极紫外(euv)光源的目标装置的方法，所述方法包括：以调谐模式操作包括与容器流体连通的喷嘴的所述目标装置，所述调谐模式操作包括：沿着朝向所述目标空间的轨迹从所述喷嘴释放目标材料，其中所述目标材料在等离子体状态下时产生euv光；调节从所述喷嘴释放的所述目标材料的状态，包括调节所述目标材料的一个或多个特性，包括调节以下一项或多项：目标材料在进入所述目标空间之前沿着所述轨迹聚结成目标的位置和时间；当所述目标材料沿着所述轨迹朝向所述目标空间行进时检测与所述目标材料相关的一个或多个方面，其中检测包括在多个不同调节状态下进行检测；以及基于检测到的所述一个或多个方面来确定与所述目标材料相关联的一组稳态性能特
性；在确定与所述目标材料相关的所述一组稳态性能特性之后，然后基于所述一组稳态性能特性，以稳态模式操作所述目标装置；以及向所述euv光源的控制装置通知所述目标装置以稳态模式操作。38.根据权利要求37所述的方法，其中当所述目标材料沿着所述轨迹朝向所述目标空间行进时检测与所述目标材料相关的一个或多个方面包括：在所述目标材料聚结成目标之前检测与所述目标材料相关的一个或多个方面。39.根据权利要求37所述的方法，其中当所述目标材料沿着所述轨迹朝向所述目标空间行进时检测与所述目标材料相关的一个或多个方面包括：检测与由聚结的目标材料形成的目标相关的一个或多个方面。40.根据权利要求37所述的方法，其中调节从所述喷嘴释放的所述目标材料的一个或多个特性包括：以约100
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500hz的速率调节所述一个或多个特性。

技术总结
一种用于极紫外(EUV)光源的目标装置(300)包括目标发生器、传感器模块(130)和目标发生器控制器(325)。目标发生器包括被配置为容纳在等离子体状态下产生EUV光的目标材料(114)的容器(115)和与容器流体连通的喷嘴结构(117)。目标发生器在喷嘴结构中限定开口(119)，从容器接收的目标材料通过该开口被释放。传感器模块被配置为：当目标材料沿着朝向目标空间(112)的轨迹行进时，检测与从开口释放的目标材料相关的方面，并且从检测到的方面产生一维信号。目标发生器控制器与传感器模块和目标发生器通信，并且被配置为基于对一维信号的分析来修改目标材料的特性。号的分析来修改目标材料的特性。号的分析来修改目标材料的特性。


技术研发人员：T
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.02.07
技术公布日：2021/10/8