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一种密封结构以及设备的制作方法

2021-10-09 10:55:00 来源:中国专利 TAG:密封 结构 公开 密封圈 设备

技术特征:
1.一种密封结构,其特征在于,包括:支撑层,所述支撑层采用硬质材料制成,所述支撑层具有相对设置的第一表面和第二表面;以及,第一密封层和第二密封层,所述第一密封层和所述第二密封层中的一个设置在所述第一表面上,所述第一密封层和所述第二密封层中的另一个设置在所述第二表面上。2.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述密封结构为闭合环状结构。3.根据权利要求2所述的密封结构,其特征在于,在所述密封结构上沿周向设置有至少一个避让部。4.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述支撑层为树脂材料层。5.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述第一密封层和所述第二密封层采用软质材料制成。6.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述第一密封层为泡棉材料层、橡胶材料层或者硅胶材料层。7.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述第二密封层为泡棉材料层、橡胶材料层或者硅胶材料层。8.根据权利要求1所述的密封结构,其特征在于,所述第一密封层为第一密封圈,所述第二密封层为第二密封圈,所述支撑层为环状支撑板,所述第一密封圈和所述第二密封圈沿径向的宽度大于所述环状支撑板沿径向的宽度。9.一种设备,其特征在于,包括:第一壳体;第二壳体;以及,如权利要求1

8中任意一项所述的密封结构,所述第一壳体与所述第二壳体连接,所述第一壳体与所述第二壳体的连接位置设置有所述密封结构。10.根据权利要求9所述的设备,其特征在于,所述设备为电子设备。

技术总结
本公开涉及一种密封结构以及设备。其中,所述密封结构包括支撑层,第一密封层和第二密封层;所述支撑层采用硬质材料制成,所述支撑层具有相对设置的第一表面和第二表面;所述第一密封层和所述第二密封层中的一个设置在所述第一表面上,所述第一密封层和所述第二密封层中的另一个设置在所述第二表面上。本公开实施例提供的密封结构包括硬质的支撑层,有助于提高整个密封结构的强度和刚性,使得该密封结构在长时间的使用中不易出现变形、撕裂的现象,有助于延长密封结构的使用寿命。有助于延长密封结构的使用寿命。有助于延长密封结构的使用寿命。


技术研发人员:李建江
受保护的技术使用者:歌尔光学科技有限公司
技术研发日:2020.12.21
技术公布日:2021/10/8
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