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镀银膜材、制造方法以及电子设备与流程

2021-10-23 01:20:00 来源:中国专利 TAG:镀银 镀膜 电子设备 方法 制造

技术特征:
1.一种镀银膜材,其特征在于,包括:基板;镧铝混合物层,所述镧铝混合物层设置于所述基板;银层,所述银层设置于所述镧铝混合物层背离所述基板的一侧。2.根据权利要求1所述的镀银膜材,其特征在于,所述镧铝混合物层为镧铝氧化物层。3.根据权利要求2所述的镀银膜材,其特征在于,所述镧铝氧化物层为laalo层。4.根据权利要求1所述的镀银膜材,其特征在于,所述镧铝混合物层的厚度为a,a满足关系式:20nm≤a≤250nm,所述银层的厚度为b,15nm≤b≤250nm。5.根据权利要求1所述的镀银膜材,其特征在于,还包括:防氧化层,所述防氧化层设置于所述银层背离所述镧铝混合物层的一侧,所述防氧化层为二氧化硅层、氟化镁层和硅铝混合物层中的一种。6.根据权利要求5所述的镀银膜材,其特征在于,还包括:第一保护层,所述第一保护层设置于所述防氧化层背离所述银层的一侧;第二保护层,所述第二保护层设置于所述第一保护层背离所述防氧化层的一侧;第三保护层,所述第三保护层设置于所述第一保护层背离所述第二保护层的一侧。7.根据权利要求6所述的镀银膜材,其特征在于,所述第一保护层的成分与所述防氧化层的成分相同,所述第二保护层为五氧化二钽层、二氧化钛层和五氧化三钛层中的一种,所述第三保护层为二氧化硅层、氟化镁层和硅铝混合物层中的一种。8.一种权利要求1-7中任一项所述的镀银膜材的制造方法,其特征在于,包括:在所述基板的表面冷镀一层镧铝混合物,形成所述镧铝混合物层;在所述镧铝混合物层上冷镀一层银,形成所述银层。9.根据权利要求8所述的镀银膜材的制造方法,其特征在于,还包括:在所述银层上冷镀一层氧化硅,形成防氧化层,所述防氧化层的成分为二氧化硅层、氟化镁和硅铝混合物中的一种。10.根据权利要求9所述的镀银膜材的制造方法,其特征在于,还包括:在所述防氧化层上热镀一层氧化硅,形成第一保护层,所述第一保护层的成分与所述防氧化层的成分相同;在所述第一保护层上热镀一层氧化钛,形成第二保护层;在所述第二保护层热镀一层氧化硅,形成第三保护层。11.根据权利要求10所述的镀银膜材的制造方法,其特征在于,冷镀的温度为室温,热镀的温度在320℃-360℃之间。12.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求1-7中任一项所述的镀银膜材。

技术总结
本发明公开了一种镀银膜材、制造方法以及电子设备,镀银膜材包括:基板;镧铝混合物层,所述镧铝混合物层设置于所述基板;银层,所述银层设置于所述镧铝混合物层背离所述基板的一侧。通过用镧铝混合物层代替氧化铝层,可以使该种新型混合膜材料与基板紧密贴合,提高膜层强度,并且膜强度测试实验后膜层无膜脱等不良现象,光学特性保持不变,从而可以提高产品信赖性和延长使用寿命。信赖性和延长使用寿命。信赖性和延长使用寿命。


技术研发人员:魏涛涛 周慧平 邹海荣
受保护的技术使用者:江西晶超光学有限公司
技术研发日:2020.04.16
技术公布日:2021/10/22
再多了解一些

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