用于无掩模光刻技术的半色调方案的制作方法

技术特征：
1.一种系统，包含：平板；可移动平台，所述可移动平台能够设置在所述平板之上，所述平台经构造以支撑基板，所述基板具有设置在其上的光刻胶；编码器，所述编码器耦接至所述平台，所述编码器经构造以向控制器提供所述基板的位置，所述控制器经构造以向光刻系统提供掩模图案数据，所述掩模图案数据具有多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形；以及光刻系统支撑件，所述光刻系统支撑件耦接至所述平板，所述光刻系统支撑件具有开口以允许所述平台在所述光刻系统支撑件的下方通过，其中：所述光刻系统具有处理单元，所述处理单元具有接收所述掩模图案数据的多个影像投射系统；每个影像投射系统包含空间光调制器，所述空间光调制器具有多个空间光调制器像素以投射多次发射(shot)；该控制器经构造以通过所述多次发射的灰色调发射及全色调发射在时间上分割所述空间光调制器像素；并且所述控制器经构造以在所述灰色调发射时变化由每个影像投射系统的光源生成的光束的第二强度，并在所述全色调发射时变化由每个影像投射系统的所述光源生成的所述光束的第一强度。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述空间光调制器的所述多个空间光调制器像素中的每个空间光调制器像素独立可控，且经构造以投射对应于多个像素中的一像素的写入光束。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述空间光调制器是电寻址元件的阵列。4.根据权利要求3所述的系统，其中至少一个电寻址元件的所述空间光调制器像素是被所述灰色调发射及所述全色调发射在时间上分割的镜。5.一种储存有指令的非暂时性计算机可读取介质，当所述指令由处理器执行时，致使计算机系统进行下列步骤：向光刻系统的处理单元提供具有多个曝光多边形的掩模图案数据，所述处理单元具有接收所述掩模图案数据的多个影像投射系统，所述掩模图案数据具有多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形；以及在所述影像投射系统下对其上设置有光刻胶的基板进行单次扫描之中：投射多次发射至所述全色调曝光多边形及所述灰色调曝光多边形中，所述多次发射被划分为具有第二强度的灰色调发射及具有第一强度的全色调发射，其中所述灰色调发射被投射至所述全色调曝光多边形及所述灰色调曝光多边形，而所述全色调发射仅被投射至所述全色调曝光多边形。6.根据权利要求5所述的非暂时性计算机可读取介质，其中每个影像投射系统包含空间光调制器，所述空间光调制器具有多个空间光调制器像素以将多次发射投射至汇集发射图案的多个地址点。7.根据权利要求6所述的非暂时性计算机可读取介质，其中所述多次发射形成多个灰色调部分，所述灰色调部分具有被曝露至所述第二强度的灰色调发射地址点，且所述多次
发射形成多个全色调部分，所述全色调部分具有i曝露至所述第二强度及第一强度的灰色调发射地址点及全色调发射地址点。8.根据权利要求5所述的非暂时性计算机可读取介质，其中第二强度对应于灰色调剂量而所述第一强度与所述第二强度的组合对应于全色调剂量。9.根据权利要求8所述的非暂时性计算机可读取介质，其中所述第一强度及所述第二强度在所述单次扫描中变化。10.根据权利要求9所述的非暂时性计算机可读取介质，其中所述第一强度及所述第二强度为大约10mj/cm2到大约200mj/cm2。11.一种方法，包含下列步骤：向光刻系统的处理单元提供具有多个曝光多边形的掩模图案数据，所述处理单元具有接收所述掩模图案数据的多个影像投射系统，所述掩模图案数据具有多个全色调曝光多边形及多个灰色调曝光多边形；以及在所述多个影像投射系统下对其上设置有光刻胶的基板进行单次扫描之中：投射多次发射至所述全色调曝光多边形及所述灰色调曝光多边形中，所述多次发射被划分为具有第二强度的灰色调发射及具有第一强度的全色调发射，其中所述灰色调发射被投射至所述全色调曝光多边形及所述灰色调曝光多边形，而所述全色调发射仅被投射至所述全色调曝光多边形。12.根据权利要求11所述的方法，其中每个影像投射系统包含空间光调制器，所述空间光调制器具有多个空间光调制器像素以将多次发射投射至汇集发射图案的多个地址点。13.根据权利要求12所述的方法，其中所述空间光调制器是电寻址元件的阵列。14.根据权利要求12所述的方法，其中所述多次发射形成多个灰色调部分，所述灰色调部分具有被曝露至所述第二强度的灰色调发射地址点，且所述多次发射形成多个全色调部分，所述全色调部分具有被曝露至所述第二强度及第一强度的灰色调发射地址点及全色调发射地址点。15.根据权利要求11所述的方法，其中所述多次发射是在50次发射与500次发射之间。

技术总结
本文描述的实施方式提供光刻工艺的系统、软件应用、及方法，以在单程中写入全色调部分及灰色调部分。系统的一个实施方式包括经构造以提供掩模图案数据至光刻系统的控制器。控制器经构造以通过多次发射中的灰色调发射及全色调发射，而在时间上划分多个空间光调制器像素，且控制器经构造以在变化由光源生成的光束的第二强度，并在全色调发射时变化由每个影像投射系统的光源生成的光束的第一强度。投射系统的光源生成的光束的第一强度。投射系统的光源生成的光束的第一强度。


技术研发人员：克里斯多弗
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2020.01.24
技术公布日：2021/9/28