一种真空抛洒式粉体处理装置的制作方法

1.本实用新型涉及等离子体处理的技术领域，具体地说是一种真空抛洒式粉体处理装置。


背景技术：

2.随着高性能结构材料技术和先进材料加工技术的快速发展，人们对材料的韧性和刚性、环保性、循环利用性和使用寿命等提出了更高的要求。因此，通过对材料表面处理来改变材料表面的形态、化学成分、组织结构等性质以提高材料各方面性能的技术在近年来得到了迅速发展。在物理处理、化学处理和机械处理等众多表面处理方法中，等离子体表面处理技术因其清洁高效、能耗低、无废弃物等优点而快速发展。目前，针对不同的产业应用，不同物料形状和材质的等离子体处理技术已经出现明显分工。真空等离子体由于具有较好的重复性和全覆盖性，在工业领域得到了较为广泛的应用。但主要应用在对块状材料的表面处理中。
3.粉体材料，包括食品领域的香辛料以及工业领域的工业粉体材料，由于其表面积大，非常容易团聚，而等离子体与材料的反应仅限于材料表面，堆积状态下的粉体材料在等离子体环境中只有表层能得到处理。因此，在对粉体材料进行等离子体处理的过程中，往往由于微粒间的团聚使得没有暴露在表面的部分得不到等离子体处理，难以实现对微粒表面全部处理，导致处理不完全、不均匀，处理效果差。
4.中国专利(cn201380032762.3)公开了一种粉末等离子体处理装置。粉末等离子体处理装置包括：腔体，其用于对粉末进行等离子处理；粉末供应部，其位于所述腔体的上部；以及多个板状的面放电等离子模块，其位于所述粉末供应部的下方，并且位于所述腔体内，其中所述面放电等离子模块的面和面之间彼此相隔。这种粉末等离子处理装置能够通过控制粉末接触等离子体的时间对粉末进行有效处理。但是由于粉末从粉末供应部自由落下，在所述腔体内部的空间位置关系相对固定，往往只能对分布于表层的粉末进行等离子体处理，处理效果的均匀性难以保证。
5.因此，如何提供一种真空抛洒式粉体处理装置，在现有真空状态等离子体处理粉体的技术基础上，通过在所述粉体处理装置内部设置搅拌器，充分利用放电空间，提高等离子体对粉体材料处理的均匀性，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。


技术实现要素：

6.有鉴于此，本技术的目的在于提供一种真空抛洒式粉体处理装置，通过在分体处理装置内部设置搅拌器，在保证粉体处理装置内部处于真空环境的前提下，所述搅拌器抛洒粉体材料使其均匀分布于放电空间中，通过正负电极放电产生等离子体，对粉体材料进行处理，进而达到处理均匀、密封性好、适配性广等技术效果。
7.为了达到上述目的，本技术提供如下技术方案：
8.一种真空抛洒式粉体处理装置，包括腔体单元、搅拌单元、电极单元和抽真空单
元，所述腔体单元为封闭式的拱形腔体结构，起为电极放电提供真空环境的作用，所述搅拌单元设置在腔体单元的内部，与腔体单元连接，起抛洒粉体材料的作用，所述电极单元设置在腔体单元的左右两端，与腔体单元连接，对粉体材料进行等离子体处理，所述抽真空单元设置在腔体单元右侧，与腔体单元连接，起降低腔体单元内部气压的作用；
9.所述腔体单元包括真空腔体、第一封盖、第二封盖，所述真空腔体采用截面为拱形的管状结构，所述第一封盖设置在真空腔体的右侧，所述第二封盖设置在真空腔体的左侧，第一封盖和第二封盖采用拱形板状结构，所述拱形板状结构的侧面形状与真空腔体的截面形状相同，拱形板状结构的侧面面积为真空腔体截面面积的1～1.2倍；
10.进一步的，所述第一封盖、第二封盖分别与真空腔体连接，第一封盖的左侧和所述第二封盖的右侧分别设置有o型圈，所述o型圈的数量为若干个，所述真空腔体的左右两侧面上分别设置有凹槽，所述凹槽的形状和位置与o型圈的形状和位置一致；
11.所述搅拌单元包括放卷电机、转轴、扇叶、搅拌片，所述放卷电机的数量为若干个，设置在所述第一封盖的右侧，通过固定板和定位螺钉与第一封盖连接，所述转轴的数量与放卷电机数量相同，分别与放卷电机连接；
12.进一步的，所述扇叶的数量为四的整数倍个，与转轴连接，每四个扇叶为一组，每组扇叶均以转轴作为中心对称轴等间距布置，所述搅拌片的数量与扇叶的数量相同，采用不同弯曲角度的铲状结构，分别与每个扇叶的顶端连接；
13.所述电极单元包括正极电极板、负极电极板、电极柱单元，所述正极电极板、负极电极板均采用中央有圆形孔的板状结构，正极电极板设置在第一封盖左侧，通过电极柱单元与第一封盖连接，负极电极板设置在第二封盖右侧，通过电极柱单元与第二封盖连接；
14.进一步的，所述电极柱单元包括电极柱、电极绝缘套、四氟垫片、六角螺母，所述电极柱采用一端带有螺纹的圆柱状结构，所述电极绝缘套采用空心管状结构，所述空心管状结构的内部形状与电极柱相适配，外部形状与所述电极板上的圆形孔相适配，所述四氟垫片设置在电极绝缘套与六角螺母之间，所述六角螺母与电极柱上的螺纹连接；
15.进一步的，与正极电极板连接的电极柱单元与电源连接，与负极电极板连接的电极柱单元与地面连接，所述电极柱与电极绝缘套接触的位置、电极绝缘套与第一封盖接触的位置、电极绝缘套与第二封盖接触的位置均设置有o型圈；
16.所述抽真空单元包括真空泵、波纹管、转接弯头、卡箍、真空快卸连接器，所述真空泵设置在腔体单元的右侧，通过波纹管与转接弯头连接，所述转接弯头穿过第一封盖，通过卡箍与真空快卸连接器连接；
17.优选的，所述真空腔体的底面上设置有槽口和槽口盖，所述槽口和槽口盖之间设置有密封装置，槽口的正下方设置有收料盆。
18.本技术的优点和效果如下：
19.(1)在本实用新型披露的一种真空抛洒式粉体处理装置中，通过所述搅拌单元抛洒粉体材料，使其在放电空间内均匀分布，大大提高了等离子体处理粉体材料的均匀性。
20.(2)在本实用新型披露的一种真空抛洒式粉体处理装置中，所述封盖与真空腔体之间、电极绝缘套与封盖之间、电极柱与电极绝缘柱之间均设置有o型圈，大大提高了所述装置的密封性。
21.(3)在本实用新型披露的一种真空抛洒式粉体处理装置中，针对不同种类的粉体
材料，可以调整腔体单元的内部空间大小，并相应地调整搅拌单元的数量，大大拓宽了所述装置的适配性。
22.上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
23.根据下文结合附图对本技术具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本技术的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
24.为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
25.图1为本技术实施例提供的真空抛洒式粉体处理装置的结构示意图；
26.图2为本技术实施例提供的腔体单元的结构示意图；
27.图3为本技术实施例提供的搅拌单元的结构示意图；
28.图4为本技术实施例提供的电极单元和腔体单元的剖视图；
29.图5为本技术实施例提供的电极柱单元的结构示意图；
30.图6为本技术实施例提供的抽真空单元的结构示意图。
31.其中，1、腔体单元；101、真空腔体；102、第一封盖；103、第二封盖；2、搅拌单元；201、放卷电机；202、转轴；203、扇叶；204、搅拌片；3、电极单元；301、正极电极板；302、负极电极板；303、电极柱单元；313、电极柱；323、电极绝缘套；333、四氟垫片；343、六角螺母；4、抽真空单元；401、真空泵；402、波纹管；403、转接弯头；404、卡箍；405、真空快卸连接器。
具体实施方式
32.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本技术的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本技术的范围和精神。另外，为了清除和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。
33.应该理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“本实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本技术的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“一个实施例”或“本实施例”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。
34.本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，单独存在b，同时存在a和b三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，a/和b，可以表示：单独存
在a，单独存在a和b两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。
35.此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。
36.还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。
37.实施例1
38.本实施例主要介绍本实用新型的一种真空抛洒式粉体处理装置的基本组成和连接关系。
39.如图1所示，其展示了真空抛洒式粉体处理装置的结构示意图；本技术实施例提供的一种真空抛洒式粉体处理装置，包括腔体单元1、搅拌单元2、电极单元3和抽真空单元4，所述腔体单元1为封闭式的拱形腔体结构，起为电极放电提供真空环境的作用，所述搅拌单元2设置在腔体单元1的内部，与腔体单元1连接，起抛洒粉体材料的作用，所述电极单元3设置在腔体单元1的左右两端，与腔体单元1连接，对粉体材料进行等离子体处理，所述抽真空单元4设置在腔体单元1右侧，与腔体单元1连接，起降低腔体单元1内部气压的作用。
40.如图2所示，其展示了腔体单元1的结构示意图；所述腔体单元1包括真空腔体101、第一封盖102、第二封盖103，所述真空腔体101采用截面为拱形的管状结构，所述第一封盖102设置在真空腔体101的右侧，所述第二封盖103设置在真空腔体101的左侧，第一封盖102和第二封盖103采用拱形板状结构，所述拱形板状结构的侧面形状与真空腔体101的截面形状相同，拱形板状结构的侧面面积为真空腔体101截面面积的1～1.2倍，本实施例选用1.1倍。
41.进一步的，所述第一封盖102、第二封盖103分别与真空腔体101连接，第一封盖102的左侧和所述第二封盖103的右侧分别设置有o型圈，所述o型圈的数量为一个，所述真空腔体101的左右两侧面上分别设置有凹槽，所述凹槽的形状和位置与o型圈的形状和位置一致。
42.如图3所示，其展示了搅拌单元2的结构示意图；所述搅拌单元2包括放卷电机201、转轴202、扇叶203、搅拌片204，所述放卷电机201的数量为两个，设置在所述第一封盖102的右侧，通过固定板和定位螺钉与第一封盖102连接，所述转轴202的数量为两个，分别与放卷电机201连接。
43.进一步的，所述扇叶203的数量为十六个，与转轴202连接，每四个扇叶203为一组，每组扇叶203均以转轴202作为中心对称轴等间距布置，所述搅拌片204的数量为十六个，采用不同弯曲角度的铲状结构，分别与每个扇叶203的顶端连接。
44.如图4所示，其展示了电极单元3和腔体单元1的剖视图；所述电极单元3包括正极电极板301、负极电极板302、电极柱单元303，所述正极电极板301、负极电极板302均采用中央有圆形孔的矩形板状结构，正极电极板301设置在第一封盖102左侧，通过电极柱单元303与第一封盖102连接，负极电极板302设置在第二封盖103右侧，通过电极柱单元303与第二封盖103连接。
45.如图5所示，其展示了电极柱单元303的结构示意图；所述电极柱单元303包括电极柱313、电极绝缘套323、四氟垫片333、六角螺母343，所述电极柱313采用一端带有螺纹的圆柱状结构，所述电极绝缘套323采用空心管状结构，所述空心管状结构的内部形状与电极柱313相适配，外部形状与所述电极板上的圆形孔相适配，所述四氟垫片333设置在电极绝缘套323与六角螺母343之间，所述六角螺母343与电极柱313上的螺纹连接。
46.进一步的，与正极电极板301连接的电极柱单元303与电源(图中未示出)连接，与负极电极板302连接的电极柱单元303与地面(图中未示出)连接，所述电极柱313与电极绝缘套323接触的位置、电极绝缘套323与第一封盖102接触的位置、电极绝缘套323与第二封盖103接触的位置均设置有o型圈。
47.如图6所示，其展示了抽真空单元4的结构示意图；所述抽真空单元4包括真空泵401、波纹管402、转接弯头403、卡箍404、真空快卸连接器405，所述真空泵401设置在腔体单元1的右侧，通过波纹管402与转接弯头403连接，所述转接弯头403穿过第一封盖102，通过卡箍404与真空快卸连接器405连接。
48.优选的，所述真空腔体101的底面上设置有槽口和槽口盖，所述槽口和槽口盖之间设置有密封装置，槽口的正下方设置有收料盆。
49.值得说明的是，所述o型圈、真空快卸连接器405均为现有技术，本技术中不予赘述。
50.实施例2
51.本实施例是在前述实施例1的基础上进行的，主要介绍一种真空抛洒式粉体处理装置的使用方法。
52.结合图1～6所示，所述真空抛洒式粉体处理装置使用的具体步骤如下：
53.步骤1：打开第二封盖103，放入粉体材料；
54.步骤2：关闭第二封盖103，打开真空机，降低腔体单元1内部气压；
55.步骤3：打开放卷电机201，所述搅拌单元2抛洒粉体材料，使其在放电空间内均匀分布；
56.步骤4：打开电源(图中未示出)开关，电极单元3放电产生等离子体；
57.步骤5：待等离子体处理完成后，关闭所有开关；
58.步骤6：打开所述槽口盖，将处理完成的粉体材料转移至收料盆中。
59.至此，一种真空抛洒式粉体处理装置的使用方法得以实现。
60.对所有公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其他实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。