一种激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物的制作方法

技术特征：
1.一种激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，包括水性聚烯烃，水溶性高分子聚合物，水性光引发剂，附着力促进剂，助剂，去离子水，填料。2.根据权利要求1所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，其特征在于，所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物包括以下重量份的组分：水性聚烯烃25～31份，水溶性高分子聚合物15～25份，水性光引发剂6～10份，附着力促进剂9～12份，助剂0.1～3份，去离子水47～55份，填料1～5份。3.根据权利要求2所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，其特征在于，所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物包括以下重量份的组分：水性聚烯烃28份，水溶性高分子聚合物20份，水性光引发剂8份，附着力促进剂10.5份，助剂1.5份，去离子水51份，填料3份。4.根据权利要求2或3所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，其特征在于，所述水溶性高分子聚合物为聚丙烯酸，聚甲基丙烯酸，聚丙烯酰胺，聚
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丙烯酰胺基
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甲基丙烷磺酸酸，聚乙烯吡咯烷酮，聚苯乙烯磺酸中的一种或多种组合。5.根据权利要求2或3所述的激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，其特征在于，所述水性光引发剂为巴斯夫光引发剂4265。6.根据权利要求2或3所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，其特征在于，所述助剂包括流平剂、消泡剂、紫外线吸收剂；所述填料为水溶性石墨烯或硅烷。7.权利要求1所述的一种激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物的制备方法，其特征在于，先将水性聚烯烃、水溶性高分子聚合物混合后，高速搅拌均匀分散，然后加入附着力促进剂、助剂、去离子水、填料继续进行高速搅拌分散。8.一种消除权利要求1所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物的方法，其特征在于，采用激光辐照蚀刻去除保护膜。9.根据权利要求8所述的消除权利要求1所述激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物的方法，其特征在于，激光辐照采用照射波长≤355nm的激光束，20～45khz的脉冲周期，0.1～2w的输出和100～200mm/s的扫描速度。10.一种权利要求1所述水溶性树脂组合物在半导体元件基板上形成激光蚀刻保护膜的应用。

技术总结
本发明公开一种激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，主要包括以下重量份的组分：水性聚烯烃25～31份，水溶性高分子聚合物15～25份，水性光引发剂6～10份，附着力促进剂9～12份，助剂0.1～3份，去离子水47～55份，填料1～5份。本发明提供的激光蚀刻保护膜的水溶性树脂组合物，发挥多组分混合树脂协同作用，形成的保护膜耐热性好，激光辐照下收缩率低，渗透性高、表面粗糙度低，即使是具有凹凸结构的半导体衬底也没有缝隙，对波长小于355nm的深紫外光吸收率高，形成的开口边缘清晰；同时，本发明保护膜易于去除，能耗低，一次扫描即可清除干净不残留，对环境友好，特别适用于半导体凹凸衬底表面激光蚀刻。衬底表面激光蚀刻。


技术研发人员：马晓东
受保护的技术使用者：滁州金桥德克新材料有限公司无锡分公司
技术研发日：2021.04.07
技术公布日：2021/9/28