防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置的制作方法

技术特征：

1.一种防碎膜，其包括：

聚酯基基材膜；

位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及

光学胶层，其位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上，

其中，所述基材膜包括具有不同屈折率的复数个纳米层叠膜，并且在600nm至750nm波长的可见光波长区域带的光透过率等于或低于30％。

2.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述基材膜的厚度为65μm至80μm。

3.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述保护膜的基材的厚度为35μm至75μm。

4.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，

所述保护膜的在120℃下加热1小时后的纵向的热收缩率为0.15％至0.40％，并且横向的热收缩率为0％至0.15％。

5.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层具有-30℃至0℃的玻璃化转变温度。

6.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层的对剥离的粘合力等于或高于15n/英寸。

7.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，所述光学胶层的厚度为15μm至50μm。

8.根据权利要求1所述的防碎膜，其进一步包括位于所述光学胶层上的离型膜。

9.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，

当用黑色进行屏蔽印刷时，在使用d65光源测量的lab颜色坐标上，所述防碎膜具有反射颜色亮度l*为7、a*为3.5、b*为2.7的反射颜色。

10.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，

当用白色进行屏蔽印刷时，在使用d65光源测量的lab颜色坐标上，所述防碎膜具有反射颜色亮度l*为63、a*为-25.8、b*为-48.3的反射颜色。

11.根据权利要求1所述的防碎膜，其中，

在400nm至小于600nm的波长的可见光波长区域中的所述防碎膜的光透过率等于或高于30％。

12.一种电子显示器，其包括根据权利要求1至11中任何一项的防碎膜。

13.一种包括如权利要求12所述的电子显示器的电子装置。

技术总结
本发明涉及防碎膜和包括该防碎膜的电子显示器以及电子装置。所述防碎膜包括聚酯类基材膜；位于所述基材膜的一个表面上的保护膜；以及位于布置有所述保护膜的基材膜的另一表面上的光学胶层，其中，所述基材膜包括具有不同屈折率的复数个纳米层压膜，其在600nm至750nm波长的可见光波长区域中的光透过率可以等于或低于30％。所述防碎膜可以不进行梯度涂布、紫外线成型等的工艺而仅进行屏蔽印刷体现可以根据视角识别各种颜色的设计。

技术研发人员：赵荣镐
受保护的技术使用者：东丽尖端素材株式会社
技术研发日：2021.02.04
技术公布日：2021.08.24