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一种化学机械抛光检测装置的制作方法

2021-10-09 18:11:00 来源:中国专利 TAG:抛光 化学 机械 检测方法 装置

技术特征:
1.一种化学机械抛光检测装置,其特征在于,包括对透明的工件进行夹持的工件夹持部,所述工件加持部上设置有压力传感器,所述压力传感器用于测量所述工件在抛光压力作用下由于法向位移而产生的法向压力;所述工件加持部上还设置有拍摄区域;还包括用于带动抛光垫转动的驱动部;还包括用于对抛光垫的表面形貌进行图像采集的图像采集部,所述图像采集部透过所述拍摄区域对所述抛光垫的表面形貌进行图像采集。2.根据权利要求1所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述拍摄区域的面积大于所述抛光垫的面积。3.根据权利要求2所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述压力传感器设置有2个,且分别位于所述工件安装后对角线的两端。4.根据权利要求1或3所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述驱动部的驱动轴上设置有用于测量扭矩的扭矩传感器。5.根据权利要求1所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述工件夹持部上设置有用于夹持所述工件的夹持槽,所述夹持槽处设置有所述压力传感器;所述夹持槽处还设置有若干螺栓孔,固定螺栓通过所述螺栓将所述工件固定在所述夹持槽中。6.根据权利要求4所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述工件夹持部固定在一滑块上,所述滑块滑动设置在一固定支架上,所述固定支架滑动设置在一基座上。7.根据权利要求6所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述固定支架上设置有第一丝杠,所述第一丝杠上连接有第一螺母,所述第一螺母与所述滑块固定连接;所述固定支架上还设置有第一滑槽,所述滑块上设置有与所述第一滑槽滑动配合的第一凸块。8.根据权利要求6所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述基座上设置有第二丝杠,所述第二丝杠上连接有第二螺母,所述第二螺母与所述固定支架固定连接;所述基座上还设置有第二滑槽,所述固定支架上还设置有与所述第二滑槽配合的第二凸块。9.根据权利要求4所述的化学机械抛光检测装置,其特征在于,所述图像采集部滑动设置在图形采集支架上,所述图像采集部包括工业相机,所述工业相机的物镜正对所述拍摄区域,所述工业相机上还设置有用于调节焦距的焦距调节旋钮。

技术总结
本实用新型公开一种化学机械抛光检测装置及其检测方法,涉及化学机械抛光技术领域,包括对透明的工件进行夹持的工件夹持部、用于带动抛光垫转动的驱动部及其用于对抛光垫的表面形貌进行图像采集的图像采集部,工件加持部上设置有压力传感器,压力传感器用于测量工件在抛光压力作用下由于法向位移而产生的法向压力;本实用新型利用图像采集装置实时捕捉抛光界面间抛光垫的表面形貌,结合对抛光界面受力情况的监测,能够分析得到抛光垫表面摩擦系数变化情况,及其摩擦系数变化与研磨颗粒分布变化、磨损变化等参数之间的关系,解决了无法将抛光界面磨粒分布、抛光垫形貌与界面摩擦特性进行关联的技术问题。特性进行关联的技术问题。特性进行关联的技术问题。


技术研发人员:逄明华 王占奎 苏建修 翟帅杰 马利杰 李勇峰 胡楠 杜留锋 赵红远 张亚奇 吴婷婷
受保护的技术使用者:河南科技学院
技术研发日:2021.02.02
技术公布日:2021/10/8
再多了解一些

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