一种方便上下料的吸盘装置的制作方法

1.本实用新型涉及纳米压印技术领域，具体为一种方便上下料的吸盘装置。


背景技术：

2.半导体行业朝着不断缩小的特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备成本以指数增长，由于成本的增加，人们对纳米压印光刻这一低成本的图形转印技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印光刻比传统光刻方法大大降低了成本。
3.现有的纳米压印设备大多采用顶针完成上下片，将基片放在顶针上后，顶针带动基片升起或者降下的过程中，基片容易滑动，位置发生偏移，并且顶针可能会划伤基片背面，造成不必要的麻烦，为了解决上述问题，我们提出了一种方便上下料的吸盘装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种方便上下料的吸盘装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种方便上下料的吸盘装置，包括真空吸附台盘，所述真空吸附台盘的上表面边缘开设有凹槽，所述真空吸附台盘和凹槽内装配有升降支板，所述真空吸附台盘上方吸附固定有基片，所述凹槽内插接有真空吸笔，且真空吸笔吸附端与基片底面贴合。
6.优选的，所述真空吸附台盘包括台盘，所述凹槽开设于台盘上表面边缘处，所述台盘的上表面开设有真空槽，所述真空槽底面开设有第一真空孔，且第一真空孔下端连通外部真空泵。
7.优选的，所述升降支板包括固定操作台上的电动推杆，所述电动推杆的伸缩端固定连接有升降杆，所述升降杆上端贯穿台盘底面延伸至凹槽内，所述升降杆上端固定装配有与凹槽匹配的支撑板，所述支撑板升至最高处时的上表面与台盘上表面位于同一水平面。
8.优选的，所述真空吸笔包括把手，所述把手左端固定连接有空心笔杆，且空心笔杆连接外部真空泵，所述把手上固定装配有与外部真空泵电连接的开关，所述空心笔杆左端固定连通有真空吸头，且真空吸头上表面开设有第二真空孔。
9.与现有技术相比，本方案设计了一种方便上下料的吸盘装置，具有下述有益效果：
10.(1)方案采用真空吸笔对基片进行上下片控制，避免手持基片导致基片划伤，同时能够保证在上下移动控制过程中，基片位置不会发生偏移。
11.(2)方案采用在真空吸附台盘上开设凹槽来配合真空吸笔使用，使得真空吸笔能够伸入到基片底面，避免使用其他转移方式剐蹭到基片正面边缘处的纳米结构。
附图说明
12.图1为本实用新型结构示意图；
13.图2为本实用新型中真空吸附台盘吸附基片的结构示意俯视图；
14.图3为本实用新型中真空吸附台盘结构示意俯视图；
15.图4为本实用新型中真空吸笔结构示意图。
16.图中：1真空吸附台盘、11台盘、12真空槽、13第一真空孔、2凹槽、3基片、4真空吸笔、41把手、42空心笔杆、43开关、44真空吸头、45第二真空孔、5升降支板、51电动推杆、52升降杆、53支撑板。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.请参阅图1、图2、图3和图4，本实用新型提供一种技术方案：一种方便上下料的吸盘装置，包括真空吸附台盘1，真空吸附台盘1的上表面边缘开设有凹槽2，真空吸附台盘1和凹槽2内装配有升降支板5，真空吸附台盘1上方吸附固定有基片3，凹槽2内插接有真空吸笔4，且真空吸笔4吸附端与基片3底面贴合。
19.采用真空吸笔4对基片3进行上下片控制，避免手持基片3导致基片3划伤，同时能够保证在上下移动控制过程中，基片3位置不会发生偏移。
20.真空吸附台盘1包括台盘11，凹槽2开设于台盘11上表面边缘处，台盘11的上表面开设有真空槽12，真空槽12底面开设有第一真空孔13，且第一真空孔13下端连通外部真空泵。
21.本实施例中，真空泵连接外部电源，利用第一真空孔13在真空槽12内产生真空，对上端基片3进行吸附。
22.升降支板5包括固定操作台上的电动推杆51，电动推杆51的伸缩端固定连接有升降杆52，升降杆52上端贯穿台盘11底面延伸至凹槽2内，升降杆52上端固定装配有与凹槽2匹配的支撑板53，支撑板53升至最高处时的上表面与台盘11上表面位于同一水平面。
23.本实施例中，电动推杆51连接外部电源，通过开关控制所在电路通断，电动推杆51推动支撑板53上下升降。
24.真空吸笔4包括把手41，把手41左端固定连接有空心笔杆42，且空心笔杆42连接外部真空泵，把手41上固定装配有与外部真空泵电连接的开关43，空心笔杆42左端固定连通有真空吸头44，且真空吸头44上表面开设有第二真空孔45。
25.本实施例中，真空泵连接外部电源，通过开关42控制所在电路通断，在真空吸头44处产生吸力，对基片3边缘进行吸附。
26.操作过程：
27.上片：
28.将基片3一侧覆盖真空吸笔4的真空吸头44，将开关43常开，真空吸头44通过空心笔杆42与真空泵相连接，在真空吸头44内形成负压，将基片3固定。
29.升降杆52带动支撑板53下降；手持把手41一侧，将基片3转移至台盘11上方，基片3覆盖真空槽12，打开真空泵，在真空槽12内产生形成负压固定基片3。
30.按下开关43，将真空吸头44与真空泵的连接断开，释放基片3。
31.升降杆52带动支撑板53上升到支撑板53上表面与台盘11上表面齐平；完成上片动作。
32.取片：
33.升降杆52带动支撑板53下降；真空吸笔4进入凹槽2内，保持开关43常开，通过真空吸头44吸附基片3。
34.将台盘11的真空槽12上的真空泵关闭，释放基片3；手持把手41端移动基片3，完成取片动作。
35.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
36.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。


技术特征：
1.一种方便上下料的吸盘装置，包括真空吸附台盘(1)，其特征在于：所述真空吸附台盘(1)的上表面边缘开设有凹槽(2)，所述真空吸附台盘(1)和凹槽(2)内装配有升降支板(5)，所述真空吸附台盘(1)上方吸附固定有基片(3)，所述凹槽(2)内插接有真空吸笔(4)，且真空吸笔(4)吸附端与基片(3)底面贴合。2.根据权利要求1所述的一种方便上下料的吸盘装置，其特征在于：所述真空吸附台盘(1)包括台盘(11)，所述凹槽(2)开设于台盘(11)上表面边缘处，所述台盘(11)的上表面开设有真空槽(12)，所述真空槽(12)底面开设有第一真空孔(13)，且第一真空孔(13)下端连通外部真空泵。3.根据权利要求2所述的一种方便上下料的吸盘装置，其特征在于：所述升降支板(5)包括固定操作台上的电动推杆(51)，所述电动推杆(51)的伸缩端固定连接有升降杆(52)，所述升降杆(52)上端贯穿台盘(11)底面延伸至凹槽(2)内，所述升降杆(52)上端固定装配有与凹槽(2)匹配的支撑板(53)，所述支撑板(53)升至最高处时的上表面与台盘(11)上表面位于同一水平面。4.根据权利要求1所述的一种方便上下料的吸盘装置，其特征在于：所述真空吸笔(4)包括把手(41)，所述把手(41)左端固定连接有空心笔杆(42)，且空心笔杆(42)连接外部真空泵，所述把手(41)上固定装配有与外部真空泵电连接的开关(43)，所述空心笔杆(42)左端固定连通有真空吸头(44)，且真空吸头(44)上表面开设有第二真空孔(45)。

技术总结
本实用新型公开了一种方便上下料的吸盘装置，包括真空吸附台盘，真空吸附台盘的上表面边缘开设有凹槽，真空吸附台盘和凹槽内装配有升降支板，真空吸附台盘上方吸附固定有基片，凹槽内插接有真空吸笔，且真空吸笔吸附端与基片底面贴合；方案采用真空吸笔对基片进行上下片控制，避免手持基片导致基片划伤，同时能够保证在上下移动控制过程中，基片位置不会发生偏移；方案采用在真空吸附台盘上开设凹槽来配合真空吸笔使用，使得真空吸笔能够伸入到基片底面。基片底面。基片底面。


技术研发人员：冀然
受保护的技术使用者：青岛天仁微纳科技有限责任公司
技术研发日：2021.02.03
技术公布日：2021/10/18