显示面板、显示面板制备方法及显示装置与流程

1.本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，人们对使用的电子产品不仅要求流畅的使用体验，而且对视觉体验的要求也越来越高，高屏占比成为目前研究的方向。而为了提升屏占比，实现全面屏，研究人员考虑屏下光学元件的实现方案。受到现有的显示装置结构限制，屏下光学元件的采光率不足，影响其正常工作。
3.因此，亟需一种新的显示面板、显示面板制备方法及显示装置。


技术实现要素：

4.本发明实施例提供了一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置，通过在第一显示区设置聚光部能够更大角度范围内的环境光进入第一显示区，以提高光学元件所能接收到的光量，即提高屏下光学元件的采光率，保证光学元件的工作需求。
5.本发明实施例一方面提供了一种显示面板，具有第一显示区以及至少部分围绕所述第一显示区设置的第二显示区，所述第一显示区的透光率大于所述第二显示区的透光率，所述显示面板包括：阵列基板；平坦化层，设于所述阵列基板一侧；像素定义层，设于所述平坦化层背离所述阵列基板一侧，在所述第一显示区，所述平坦化层和所述像素定义层中的至少一者具有向所述阵列基板所在方向凸出的聚光部。
6.根据本发明的一个方面，所述平坦化层包括沿所述显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层和第二平坦层，所述聚光部由所述像素定义层向所述第一平坦层延伸，所述第一平坦层具有容纳所述聚光部的第一开槽，所述聚光部的折射率大于所述第一平坦层的折射率。
7.根据本发明的一个方面，所述平坦化层包括沿所述显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层和第二平坦层，所述聚光部由所述像素定义层向所述第二平坦层延伸，所述聚光部贯穿所述第一平坦层并延伸至所述第二平坦层；所述第一平坦层具有供所述聚光部通过的通孔，所述第二平坦层具有容纳部分所述聚光部的第二开槽，所述聚光部的折射率均大于所述第一平坦层、所述第二平坦层的折射率。
8.根据本发明的一个方面，所述聚光部的折射率大于等于1.65，所述第一平坦层、所述第二平坦层的折射率小于等于1.6。
9.根据本发明的一个方面，所述平坦化层包括沿所述显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层和第二平坦层，所述第二平坦层设于所述第一平坦层背离所述像素定义层一侧，所述聚光部由所述第一平坦层向所述第二平坦层延伸，所述第二平坦层具有容纳所述聚光部的第二开槽，所述聚光部的折射率大于所述第二平坦层的折射率。
10.根据本发明的一个方面，还包括阳极层，所述像素定义层包括多个像素开口，所述
阳极层至少部分设于所述像素开口内，所述阳极层在在所述阵列基板上的正投影和所述聚光部在所述阵列基板上的正投影不重合。
11.根据本发明的一个方面，还包括走线，所述走线设置于所述第一平坦层、所述第二平坦层中的至少一层，且所述走线通过过孔和所述阳极层电连接，所述走线在所述阵列基板上的正投影和所述聚光部在所述阵列基板上的正投影不重合。
12.根据本发明的一个方面，还包括设于所述像素定义层背离所述阵列基板一侧的支撑部，所述支撑部与所述像素定义层、所述平坦化层中不具有所述聚光部的一者的材料相同。
13.本发明实施例另一方面还提供了一种显示面板制备方法，包括：提供阵列基板，具有第一区和至少部分围绕所述第一区设置的第二区；在所述阵列基板一侧依次形成层叠设置的平坦化层和像素定义层，在所述第一区，所述平坦化层和所述像素定义层中的至少一者形成有向所述阵列基板所在方向凸出的聚光部。
14.本发明实施例又一方面还提供了一种显示装置，包括：显示面板，所述显示面板为上述任一实施例所述的显示面板；光学元件，对应所述显示面板的第一显示区设置。
15.与现有技术相比，本发明实施例所提供的显示面板包括阵列基板、平坦化层和像素定义层，且显示面板的第一显示区即用于设置摄像头、红外光传感器、指纹识别元件等光学元件的区域，在第一显示区，平坦化层和像素定义层中的至少一者具有向阵列基板所在方向凸出的聚光部，聚光部由平坦化层和像素定义层中的至少一者延伸形成，通过在第一显示区设置聚光部能够更大角度范围内的环境光进入第一显示区，以提高光学元件所能接收到的光量，即提高屏下光学元件的采光率，保证光学元件的工作需求。
附图说明
16.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
17.图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
18.图2是图1中b
‑
b处的一种实施例的膜层结构图；
19.图3是图1中b
‑
b处的另一种实施例的膜层结构图；
20.图4是图1中b
‑
b处的又一种实施例的膜层结构图；
21.图5是本发明一种实施例所提供的光路示意图；
22.图6是本发明另一种实施例所提供的光路示意图；
23.图7是本发明实施例提供的显示面板的俯视图；
24.图8是本发明实施例提供的一种显示面板制备方法的流程图。
25.附图中：
[0026]1‑
阵列基板；2
‑
平坦化层；21
‑
第一平坦层；22
‑
第二平坦层；3
‑
像素定义层；4
‑
阳极层；5
‑
支撑部；j
‑
聚光部；s
‑
走线；aa1
‑
第一显示区；aa2
‑
第二显示区。
具体实施方式
[0027]
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。
[0028]
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0029]
应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。
[0030]
在诸如手机和平板电脑等电子设备上，需要在设置显示面板的一侧集成诸如摄像头、红外光传感器、指纹识别元件等光学元件。在一些实施例中，可以在上述电子设备上设置透光显示区，将光学元件设置在透光显示区背面，在保证光学元件正常工作的情况下，实现电子设备的全面屏显示。
[0031]
受到现有的显示装置结构限制，屏下光学元件的采光率不足，影响其正常工作。
[0032]
为解决上述问题，本发明实施例提供了一种显示面板、显示面板制备方法及显示装置，以下将结合附图对显示面板、显示面板制备方法及显示装置的各实施例进行说明。
[0033]
本发明实施例所提供的显示面板可以为有机发光二极管(organic light
‑
emitting diode，简称为oled)显示面板、液晶面板或微型平面显示面板(micro
‑
oled或micro
‑
led)等。下面将以显示面板为oled显示面板为例进行描述。
[0034]
请参阅图1至图7，本发明实施例提供了一种显示面板，具有第一显示区aa1以及至少部分围绕第一显示区aa1设置的第二显示区aa2，第一显示区aa1的透光率大于第二显示区aa2的透光率，显示面板包括：阵列基板1；平坦化层2，设于阵列基板1一侧；像素定义层3，设于平坦化层2背离阵列基板1一侧，在第一显示区aa1，平坦化层2和像素定义层3中的至少一者具有向阵列基板1所在方向凸出的聚光部j。
[0035]
本发明实施例所提供的显示面板包括阵列基板1、平坦化层2和像素定义层3，且显示面板的第一显示区aa1即用于设置摄像头、红外光传感器、指纹识别元件等光学元件的区域，在第一显示区aa1，平坦化层2和像素定义层3中的至少一者具有向阵列基板1所在方向凸出的聚光部j，聚光部j由平坦化层2和像素定义层3中的至少一者延伸形成，通过在第一显示区aa1设置聚光部j能够更大角度范围内的环境光进入第一显示区aa1，以提高光学元件所能接收到的光量，即提高屏下光学元件的采光率，保证光学元件的工作需求。
[0036]
需要说明的是，聚光部j具体可以采用平坦化层2和/或像素定义层3相同的材料形成，通过调整平坦化层2和像素定义层3的材料可以使聚光部j形成类似于凸透镜的效果，以使聚光部j能够收集更大范围内的外界光，进而提高进光量，具体可以通过调整平坦化层2和像素定义层3的折射率来实现聚光部j的聚光效果。
[0037]
可以理解的是，第一显示区aa1即用于设置摄像头等光学元件的透光区域，第一显示区aa1的透光率大于第二显示区aa2的透光率，以保证第一显示区aa1具有足够的进光量，提高成像效果。
[0038]
请参阅图2，在一些可选的实施例中，平坦化层2包括沿显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层21和第二平坦层22，聚光部j由像素定义层3向第一平坦层21延伸，第一平坦层21具有容纳聚光部j的第一开槽，聚光部j的折射率大于第一平坦层21的折射率。
[0039]
可以理解的是，聚光部j由像素定义层3向第一平坦层21延伸形成，且聚光部j可以贯穿或者不贯穿第一平坦层21，即第一平坦层21的第一开槽可以为通孔也可以为盲孔，在本实施例中，聚光部j不延伸至第二平坦层22，以避免影响过多的膜层结构，方便制备。聚光部j的折射率大于第一平坦层21的折射率，折射率相对较小即光疏介质，折射率相对较低即光密介质，根据折射定律，光线从光密介质入射光疏介质能够实现聚光效果，能收集更大范围的光线，即外界光通过聚光部j入射至第一平坦层21，具体原理说明如下：
[0040]
无聚光部j情况的情况，如图5所示，对于上层光线无任何收集作用；形成聚光部j的情况，如图6，光线a2、a3、a4、a5、a6是平行于凸投镜中心线的平行光，汇聚焦点在b线处，当出现大角度光线a1、a7(与聚光部j中心线呈预定角度)，其汇聚焦点上升至a线处。这样，在“a1与a2”或“a6与a7”角度内的光线，均可以被聚焦到a与b之间。这种凸透镜结构，起到了收集显示装置上方更大角度的光线的作用。
[0041]
请参阅图3，在一些可选的实施例中，平坦化层2包括沿显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层21和第二平坦层22，聚光部j由像素定义层3向第二平坦层22延伸，聚光部j贯穿第一平坦层21并延伸至第二平坦层22；第一平坦层21具有供聚光部j通过的通孔，第二平坦层22具有容纳部分聚光部j的第二开槽，聚光部j的折射率均大于第一平坦层21、第二平坦层22的折射率。
[0042]
可以理解的是，由像素定义层3所形成的聚光部j贯穿第一平坦层21并延伸至第二平坦层22，聚光部j的折射率均大于第一平坦层21、第二平坦层22的折射率，以使聚光部j作为光密介质，第一平坦层21、第二平坦层22作为光疏介质，以形成凸透镜结构，由于聚光部j贯穿第一平坦层21并延伸至第二平坦层22，聚光部j可以设置的更厚，聚光部j具有更大的厚度能够有效提高其聚光效果，使光线更加集中。
[0043]
在一些可选的实施例中，聚光部j的折射率大于等于1.65，第一平坦层21、第二平坦层22的折射率小于等于1.6。具体的，平坦化层2和像素定义层3均采用透明的有机材料制作。例如，平坦化层2和像素定义层3中的任一者的材质可以为六甲基二甲硅醚、环氧树脂或者聚酰亚胺(polyimide，pi)，还可以为其它硅系胶材料，或者聚对苯撑苯并二噁唑纤维(poly
‑
p
‑
phenylene benzobisoxazole，pbo)系材料。
[0044]
请参阅图4，聚光部j并不局限于形成于像素定义层3，还可以由平坦化层2形成，在一些可选的实施例中，平坦化层2包括沿显示面板的膜层堆叠方向层叠设置的第一平坦层
21和第二平坦层22，第二平坦层22设于第一平坦层21背离像素定义层3一侧，聚光部j由第一平坦层21向第二平坦层22延伸，第二平坦层22具有容纳聚光部j的第二开槽，聚光部j的折射率大于第二平坦层22的折射率。
[0045]
可以理解的是，在本实施例中由于聚光部j由第一平坦层21形成，因而第一平坦层21的折射率大于第二平坦层22的折射率，第一平坦层21具体可以采用高折射率光刻胶形成。
[0046]
在一些可选的实施例中，显示面板还包括阳极层4，像素定义层3包括多个像素开口，阳极层4至少部分设于像素开口内，阳极层4在在阵列基板1上的正投影和聚光部j在阵列基板1上的正投影不重合。
[0047]
可以理解的是，阳极层4通常采用不透光的材料制作，例如银、钛等。为了避免阳极层4对聚光部j造成遮挡，影响聚光部j的聚光效果，阳极层4在在阵列基板1上的正投影和聚光部j在阵列基板1上的正投影不重合，以避免阳极层4阻挡光线进入聚光部j。
[0048]
请参阅图7，在一些可选的实施例中，显示面板还包括走线s，走线s设置于第一平坦层21、第二平坦层22中的至少一层，且走线s通过过孔和阳极层4电连接，走线s在阵列基板1上的正投影和聚光部j在阵列基板1上的正投影不重合。
[0049]
为了提高第一显示区aa1的透光率，走线s可以采用透明材质，例如铟锡氧化物(indium tin oxide，ito)制作，且为了避免走线s对聚光部j造成干扰，走线s在阵列基板1上的正投影和聚光部j在阵列基板1上的正投影不重合，具体可以使走线s绕过聚光部j设置，过孔设于平坦化层2中的至少一层，可以和第一开槽或者第二开槽通过同一掩膜板成型，掩膜板通过“灰阶孔”的形式阻挡部分曝光能量以使平坦化层2形成盲孔。
[0050]
在一些可选的实施例中，还包括设于像素定义层3背离阵列基板1一侧的支撑部5，支撑部5与像素定义层3、平坦化层2中不具有聚光部j的一者的材料相同。
[0051]
需要说明的是，由于支撑部5设于像素定义层3背离阵列基板1一侧，聚光部j需要采用高折射率材料，支撑部5与像素定义层3、平坦化层2中不具有聚光部j的一者的材料相同，即支撑部5采用低折射率材料形成，以避免支撑部5影响外界光线的传播路线，对聚光部j的聚光效果产生不利影响。具体的，当聚光部j由像素定义层3形成时，支撑部5的材料和平坦化层2的材料相同，当聚光部j由平坦化层2形成时，支撑部5的材料和像素定义层3的材料相同。
[0052]
请参阅图8，本发明实施例还提供了一种显示面板制备方法，包括：
[0053]
s110：提供阵列基板1，具有第一区和至少部分围绕第一区设置的第二区；需要说明的是，第一区对应于显示面板的第一显示区aa1，第二区对应于显示面板的第二显示区aa2。
[0054]
s120：在阵列基板1一侧依次形成层叠设置的平坦化层2和像素定义层3，在第一区，平坦化层2和像素定义层3中的至少一者形成有向阵列基板1所在方向凸出的聚光部j。
[0055]
本发明实施例所提供的显示面板制备方法，通过在对应第一区的平坦化层2和像素定义层3中的至少一者形成有向阵列基板1所在方向凸出的聚光部j，以使更大角度范围内的环境光进入第一区，以提高光学元件所能接收到的光量，即提高屏下光学元件的采光率，保证光学元件的工作需求。
[0056]
本发明实施例又提供了一种显示装置，包括：显示面板，显示面板为上述任一实施
例中的显示面板；光学元件，对应显示面板的第一显示区aa1设置。因此，本发明实施例提供的显示装置具有上述任一实施例中显示面板的技术方案所具有的技术效果，与上述实施例相同或相应的结构以及术语的解释在此不再赘述。本发明实施例提供的显示装置可以为手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。
[0057]
以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。
[0058]
还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。