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硅锗的ITH结构分子筛及其合成方法与流程

2021-10-22 22:33:00 来源:中国专利 TAG:分子筛 合成 结构 方法 硅锗

技术特征:
1.一种硅锗的ith结构分子筛的合成方法,其特征在于,所述硅锗的ith结构分子筛为在硅锗体系下采用水热法合成,合成所用的模板剂选自1,1,6,6-四甲基-1,6-二氮基杂十三元环-1,6-二季铵碱、1,1,6,6-四甲基-1,6-二氮基杂十一元环-1,6-二季铵碱和1,1,5,5-四甲基-1,5-二氮杂十一元环-1,5-二季铵碱中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的硅锗的ith结构分子筛的合成方法,其中,所述合成方法包括:提供初始凝胶混合物,所述初始凝胶混合物含有硅源、锗源、模板剂、氟源和可选的水;将所述初始凝胶混合物进行晶化;将晶化产物进行固液分离,将得到的固相进行洗涤,干燥以及可选的焙烧。3.根据权利要求1或2所述的合成方法,其中,所述硅源以sio2计,所述锗源以geo2计,所述氟源以hf计,所述初始凝胶混合物中,硅源、锗源、模板剂、氟源和水的摩尔比为1:0.1-0.8:0.1-0.3:0.1-0.5:3-20;优选地,所述初始凝胶混合物中,硅源、锗源、模板剂、氟源和水的摩尔比优选为1:0.1-0.3:0.15-0.3:0.1-0.5:5-12。4.根据权利要求2所述的合成方法,其中,所述晶化为两段晶化过程,包括第一段晶化和第二段晶化;第一段晶化在自生压力以及80-130℃下晶化0.5-2天,第二段晶化在自生压力以及140-200℃下晶化4-7天;优选,第一段晶化在自生压力以及100-120℃下晶化0.5-1天,第二段晶化在自生压力以及140-170℃下晶化5-6天。5.根据权利要求2所述的合成方法,其中,所述晶化为单段晶化过程,所述晶化在自生压力下140-200℃晶化5-8天;优选地,所述晶化在自生压力下150-180℃晶化6-7天。6.根据权利要求2、4或5所述的合成方法,其中,所述晶化为动态晶化,动态晶化的条件包括:旋转速度为15rpm-40rpm。7.根据权利要求3所述的合成方法,其中,所述硅源选自硅溶胶、固体硅胶、式(2)所示的含硅化合物和水玻璃中的至少一种,式(2)中,r、r2、r3和r4各自为c
1-c4的烷基,所述含硅化合物优选为正硅酸乙酯。8.根据权利要求3所述的合成方法,其中,所述氟源为氢氟酸和/或氟化铵,优选为氢氟酸。9.根据权利要求2所述的合成方法,其中,将得到的固相进行干燥的温度为90-120℃,焙烧的温度为400-700℃。10.根据权利要求1-9中任意一项所述的方法合成的硅锗的ith结构分子筛。

技术总结
本发明涉及分子筛合成领域,公开了一种硅锗的ITH结构分子筛及其合成方法,所述方法包括将硅源、锗源、模板剂、氟源和可选的水形成晶化混合物,晶化,回收分子筛。本发明提供的合成方法简单、合成路线绿色友好、晶化时间短,合成的硅锗的ITH结构分子筛具有较高的结晶度与热稳定性。稳定性。稳定性。


技术研发人员:谢明观 郑爱国 王永睿 慕旭宏 杨吉春 刘长令
受保护的技术使用者:中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院
技术研发日:2020.04.17
技术公布日:2021/10/21
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