一种法拉第系统及离子注入设备的制作方法

技术特征：
1.一种法拉第系统，其特征在于，包含：法拉第杯，所述法拉第杯位于真空腔的内部以用于聚集离子束并产生相应电流；导螺杆，用于限定所述真空腔的壳体上设置有第一孔，所述导螺杆的一端与所述法拉第杯连接，另一端穿过所述第一孔延伸至所述真空腔的外部；马达，所述马达可操作地连接至所述导螺杆，以驱使所述导螺杆带动所述法拉第杯沿着垂直于所述离子束的路径的方向移动；密封装置，所述密封装置设置于所述导螺杆与所述壳体的连接处以隔绝所述真空腔与外部环境，其中，所述密封装置包含密封于所述真空腔和所述外部环境之间的密封腔；以及真空度检测装置，所述真空度检测装置连接至所述密封腔并配置为检测所述密封腔内的真空度。2.根据权利要求1所述的法拉第系统，其特征在于，所述密封装置包含：侧壁，所述侧壁自所述壳体沿着所述导螺杆的轴线方向朝所述外部环境延伸；端壁，所述端壁连接并封闭所述侧壁远离所述壳体的一端，并且所述端壁包含允许所述导螺杆延伸穿过的第二孔；第一环形密封件，所述第一环形密封件设置为抵靠所述壳体的外表面、所述侧壁的内表面和所述导螺杆的侧表面；以及第二环形密封件，所述第二环形密封件设置为抵靠所述端壁的内表面、所述侧壁的内表面和所述导螺杆的侧表面；其中，所述第一环形密封件、所述第二环形密封件以及位于所述第一环形密封件和所述第二环形密封件之间的所述侧壁的内表面和所述导螺杆的侧表面限定所述密封腔。3.根据权利要求2所述的法拉第系统，其特征在于，所述侧壁上设置有气孔，所述真空度检测装置通过所述气孔连接至所述密封腔。4.根据权利要求3所述的法拉第系统，其特征在于，所述法拉第系统进一步包含真空泵，所述真空泵通过所述气孔连接至所述密封腔。5.根据权利要求4所述的法拉第系统，其特征在于，所述法拉第系统包含连接所述气孔和所述真空泵的抽气管，所述真空度检测装置与所述抽气管流体连通。6.根据权利要求1所述的法拉第系统，其特征在于，所述法拉第系统进一步包含显示器，所述显示器与所述真空度检测装置通信连接，并配置为显示所述密封腔内的真空度。7.根据权利要求1所述的法拉第系统，其特征在于，所述法拉第系统进一步包含报警装置，所述报警装置与所述真空度检测装置通信连接，并配置为当所述密封腔内的真空度高于预定阈值时发出警报。8.根据权利要求7所述的法拉第系统，其特征在于，所述警报包含声音警报、光学警报中的至少一种。9.根据权利要求2所述的法拉第系统，其特征在于，所述第一环形密封件和所述第二环形密封件为橡胶密封圈。10.一种离子注入设备，其特征在于，包含权利要求1
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9中任一项所述的法拉第系统。

技术总结
本实用新型公开了一种法拉第系统，包含：法拉第杯，导螺杆，马达密封装置以及真空度检测装置。其中，马达驱使导螺杆带动法拉第杯沿着垂直于离子束的路径的方向移动；密封装置包含密封于真空腔和外部环境之间的密封腔；真空度检测装置连接至密封腔并配置为检测密封腔内的真空度。该法拉第系统设置有用于检测密封腔真空度的检测装置以及与之相连的报警装置，以便及时发现边缘密封的密封状态。本实用新型同时提供一种包含该法拉第系统的离子注入设备。备。备。


技术研发人员：黄帅曦 何伟 金明
受保护的技术使用者：和舰芯片制造（苏州）股份有限公司
技术研发日：2021.04.20
技术公布日：2021/10/26