一种等离子蚀刻设备的制作方法

技术特征：
1.一种等离子蚀刻设备，其特征在于，包括：基座(100)；蚀刻腔(101)，设置在所述基座(100)上，用于容置电路板，并且所述蚀刻腔(101)的一端敞开；门板(102)，设置在所述蚀刻腔(101)上敞开的一端，所述门板(102)的一侧或两侧设置有限位杆(103)；支架(104)，设置在所述基座(100)上，设置有与所述限位杆(103)相配合的限位孔(105)；其中，所述限位孔(105)为腰孔且沿竖向设置，所述限位孔(105)的下端朝向靠近所述蚀刻腔(101)的方向倾斜延伸，所述门板(102)连接有驱动机构(106)，所述驱动机构(106)用于驱使所述门板(102)沿所述限位孔(105)的轴线方向移动以压紧或远离所述蚀刻腔(101)。2.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述限位孔(105)倾斜延伸的下端呈弧形过渡。3.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述支架(104)有两个并且分设在所述门板(102)的两侧，两个所述支架(104)之间通过固定板(107)连接，所述驱动机构(106)沿竖向朝下安装在所述固定板(107)上，所述驱动机构(106)的输出端与所述门板(102)活动连接。4.根据权利要求3所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述门板(102)上远离所述蚀刻腔(101)的一端设置有朝外延伸的牵引块(108)，所述驱动机构(106)的输出端设置有轴承安装块(109)，所述轴承安装块(109)上设置有至少两个活动轴承(110)，两个所述活动轴承(110)分设在所述牵引块(108)的上下两端。5.根据权利要求4所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述牵引块(108)水平设置，所述牵引块(108)可沿水平方向朝向靠近或远离所述蚀刻腔(101)移动。6.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，还包括沿竖向设置的导轨(111)以及设置在所述导轨(111)上的滑块(112)，所述滑块(112)上设置有具有通孔(116)的辅助升降块(113)，所述门板(102)上具有穿过所述通孔(116)设置的杆件(114)。7.根据权利要求1所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻腔(101)上敞开的一端开设有与所述门板(102)相配合的密封槽(115)。8.根据权利要求7所述的一种等离子蚀刻设备，其特征在于，所述门板(102)上相对靠近所述蚀刻腔(101)的一端和/或所述密封槽(115)上设置有密封垫片。

技术总结
本实用新型涉及电路板加工设备技术领域，尤其涉及一种等离子蚀刻设备，包括：基座；蚀刻腔，设置在基座上，用于容置电路板，并且蚀刻腔的一端敞开；门板，设置在蚀刻腔上敞开的一端，门板的一侧或两侧设置有限位杆；支架，设置在基座上，设置有与限位杆相配合的限位孔；本实用新型的门板能够沿腰孔的轴线方向移动，而腰孔的下端朝向靠近蚀刻腔的方向倾斜延伸，进而保证门板在移动过程中的准确性和稳定性，即门板可以在下降过程中朝向靠近蚀刻腔的方向移动进而压紧以封闭甚至密封蚀刻腔，避免发生泄漏的问题而影响蚀刻的质量和车间的生产环境。漏的问题而影响蚀刻的质量和车间的生产环境。漏的问题而影响蚀刻的质量和车间的生产环境。


技术研发人员：赵义党 李志强 李志华 廖文晗 贝亮
受保护的技术使用者：珠海恒格微电子装备有限公司
技术研发日：2021.03.09
技术公布日：2021/10/18