具有含异氰酸酯基团的研磨型树脂的储存稳定的含颜料的含异氰酸酯基团的配制剂及其用途的制作方法

技术特征：
1.储存稳定的含异氰酸酯基团的配制剂，其包含组分：a. 至少一种颜料，b. 任选至少一种含异氰酸酯基团的组分，其具有游离异氰酸酯基团，c. 至少一种润湿剂和/或分散剂，d. 至少一种含异氰酸酯基团的研磨型树脂，其包含游离氰酸酯基团，和e. 任选溶剂，其特征在于所述配制剂在50℃下储存至少3天的时间段后具有基于在合并所有所需组分，特别是组分a.至e.后1小时后测定的所述配制剂的起始粘度计小于500%的粘度升高，其中在每种情况下在20℃和500 [1/s]的剪切速率下进行粘度测定，其中所述含异氰酸酯的配制剂的所有异氰酸酯基团的总和与所述配制剂中的非异氰酸酯基团的所有异氰酸酯反应性基团的总和的摩尔比为至少8:1。2.如前述权利要求任一项中所述的含异氰酸酯基团的配制剂，其特征在于所述含异氰酸酯基团的研磨型树脂d.具有100至5000 mpas的粘度。3.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其含有a. 0.01重量%至45重量%的所述至少一种颜料；b. 0重量%至99重量%的所述至少一种含异氰酸酯基团的组分，其具有游离异氰酸酯基团；c. 0.01重量%至20重量%的所述至少一种润湿剂和/或分散剂；d. 0.1重量%至35重量%的所述至少一种含异氰酸酯基团的研磨型树脂，其包含游离异氰酸酯基团；e. 0重量%至80重量%的溶剂；在每种情况下基于配制剂的总量计，其中配制剂中所有成分的总和不超过100重量%。4.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其中所述含异氰酸酯基团的组分b.选自1,4
‑
丁烷二异氰酸酯（bdi）、1,5
‑
戊烷二异氰酸酯（pdi）、1,6
‑
己烷二异氰酸酯（hdi）、2
‑
甲基
‑
1,5
‑
戊烷二异氰酸酯、1,5
‑
二异氰酸根合
‑
2,2
‑
二甲基戊烷、2,2,4
‑
和2,4,4
‑
三甲基
‑
1,6
‑
己烷二异氰酸酯和1,10
‑
癸烷二异氰酸酯、1,3
‑
和1,4
‑
双(异氰酸根合甲基)苯（苯二甲基二异氰酸酯；xdi）、1,3
‑
和1,4
‑
双(1
‑
异氰酸根合
‑1‑
甲基乙基)苯（tmxdi）、2,4
‑
和2,6
‑
甲苯二异氰酸酯（tdi）、2,4'
‑
和4,4'
‑
二苯甲烷二异氰酸酯（mdi）和1,5
‑
萘二异氰酸酯、1
‑
异氰酸根合
‑
3,3,5
‑
三甲基
‑5‑
异氰酸根合甲基环己烷（异佛尔酮二异氰酸酯；ipdi）、1
‑
异氰酸根合
‑1‑
甲基
‑
4(3)
‑
异氰酸根合甲基环己烷、2,4'
‑
和4,4'
‑
二环己基甲烷二异氰酸酯（h12mdi）或其中至少两种的混合物，和任选地，它们的低聚物和反应产物。5.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其中所述含异氰酸酯基团的研磨型树脂d.选自1,4
‑
丁烷二异氰酸酯（bdi）、1,5
‑
戊烷二异氰酸酯（pdi）、1,6
‑
己烷二异氰酸酯（hdi）、2
‑
甲基
‑
1,5
‑
戊烷二异氰酸酯、1,5
‑
二异氰酸根合
‑
2,2
‑
二甲基戊烷、2,2,4
‑
和2,4,4
‑
三甲基
‑
1,6
‑
己烷二异氰酸酯和1,10
‑
癸烷二异氰酸酯、1,3
‑
和1,4
‑
双(异氰酸根合甲基)苯（苯二甲基二异氰酸酯；xdi）、1,3
‑
和1,4
‑
双(1
‑
异氰酸根合
‑1‑
甲基乙基)苯（tmxdi）、2,4
‑
和2,6
‑
甲苯二异氰酸酯（tdi）、2,4'
‑
和4,4'
‑
二苯甲烷二异氰酸酯（mdi）和1,5
‑
萘二异氰酸酯、1
‑
异氰酸根合
‑
3,3,5
‑
三甲基
‑5‑
异氰酸根合甲基环己烷（异佛尔酮二异氰酸酯；ipdi）、1
‑
异氰酸根合
‑1‑
甲基
‑
4(3)
‑
异氰酸根合甲基环己烷、2,4'
‑
和4,4'
‑
二环己基甲烷二异氰酸
酯（h12mdi）或其中至少两种的混合物，和任选地，它们的低聚物和/或反应产物。6.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其中含异氰酸酯基团的组分b.和含异氰酸酯基团的研磨型树脂d.由脂族或脂环族异氰酸酯或其混合物组成。7.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其中所述配制剂在室温下具有至少一种下列性质：(a) 1至200 mpas的起始粘度；(b) 30至1000 mpas的起始粘度；(c) 50至2000 mpas的起始粘度；(d) 1000至100000 mpas的起始粘度；(e) 基于配制剂的总量计小于60重量%且大于3%的异氰酸酯基团含量，其中所述配制剂具有选自(a)至(d)的一种性质以及性质(e)。8.如前述权利要求任一项中所述的配制剂，其中基于借助动态光散射测得的流体力学直径的强度加权调和均数（z均值），所述配制剂具有基于配制剂的原始粒度计小于500%的在50℃和标准压力下储存3天的时间段时的粒度升高。9.制备含异氰酸酯基团的配制剂的方法，其至少包括步骤：i. 在至少一种润湿剂和/或分散剂c.存在下将至少一种颜料a.分散在至少一种具有游离异氰酸酯基团的含异氰酸酯基团的研磨型树脂d.中，以获得颜料分散体，ii. 任选用溶剂e.稀释获自步骤i.的颜料分散体，iii. 任选混合来自步骤i.或步骤ii.的颜料分散体与含异氰酸酯基团的组分b.以获得含异氰酸酯基团的配制剂，其中所述配制剂中的异氰酸酯基团的总和与非异氰酸酯基团的所有异氰酸酯反应性基团的总和的摩尔比为至少8:1。10.如权利要求9中所述的制备含异氰酸酯基团的配制剂的方法，其中在60分钟内进行最初制备所得的颜料分散体i.的进一步加工以形成含异氰酸酯基团的配制剂iii.。11.如权利要求1至8任一项中所述的或如权利要求9或10中所述制备的配制剂用于涂覆基底表面以获得涂覆物体的用途。12.可如权利要求11中所述获得的涂覆物体。13.如权利要求11或12任一项中所述的物体，其中所述物体的材料选自纺织品、木材、塑料、玻璃、陶瓷、碳、金属或其中至少两种的组合。14.如权利要求1至8任一项中所述的或如权利要求9至10中所述制备的配制剂作为油墨的用途。15.多异氰酸酯作为用于储存稳定的含异氰酸酯基团的配制剂，特别是用于如权利要求1至8任一项中所述的配制剂的研磨型树脂d.的用途。

技术总结
本发明涉及储存稳定的含颜料的含异氰酸酯基团的配制剂，其包含至少一种颜料a.至少一种含异氰酸酯基团的组分b.至少一种润湿剂和/或分散剂c.至少一种含异氰酸酯基团的研磨型树脂d.和任选溶剂e.其中所述配制剂在50℃下储存至少3天的时间段后具有小于500%的粘度升高。本发明还涉及此类配制剂的制备及其用途。本发明还涉及此类配制剂的制备及其用途。


技术研发人员：J
受保护的技术使用者：科思创德国股份有限公司
技术研发日：2020.02.24
技术公布日：2021/10/19