显示面板及其制备方法与流程

1.本技术涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法。


背景技术：

2.目前，因有机发光二极管(organic light
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emitting diode，oled)的不同颜色发光效率具有明显的差异，其中效率最高的是绿色发光材料，最低的是蓝色发光材料(绿色发光材料的发光效率约是蓝色发光材料的发光效率15～30倍)，在oled显示时，为了避免不同子像素(绿色子像素和蓝色子像素)发光效率差异过大引起的色偏，通常是使用系统算法调整绿色子像素和蓝色子像素的驱动电流来平衡出光效率差距，对蓝色子像素而言，像素驱动电流提高，效率会提升，但是会引起材料寿命的衰减。
3.因此，目前急需一种显示面板，可以降低蓝色子像素和绿色子像素之间的出光效率差异，并且不影响其寿命。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供一种显示面板及其制备方法，以解决蓝色子像素和绿色子像素之间的出光效率不平衡问题。
5.本技术提供一种显示面板，包括：
6.阵列基板；
7.阳极层，所述阳极层设置于所述阵列基板上，所述阳极层包括第一阳极和第二阳极，所述第一阳极与所述第二阳极之间具有间隙，所述第一阳极包括第一反射部，所述第二阳极包括第二反射部，所述第一反射部的反射率小于所述第二反射部的反射率；以及
8.发光层，所述发光层设置于所述阳极层上，所述发光层包括绿色发光部和蓝色发光部，所述绿色发光部设置在所述第一阳极上，所述蓝色发光部设置在所述第二阳极上。
9.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第二反射部靠近所述发光层的表面具有粗糙结构。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一反射部的材料的反射率小于65％，所述第二反射部的材料的反射率大于88％。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一反射部的材料包括钼、钛和铜中的一种或几种组合，所述第二反射部的材料包括银和铝中的一种或两种组合。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一阳极部还包括附加导电部，所述附加导电部位于所述第一反射部上，所述第二阳极部还包括第一导电部和第二导电部，所述第一导电部和所述第二导电部依次层叠设置于所述第二反射部上。
13.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一导电部、所述第二导电部和所述附加导电部的厚度均小于400埃。
14.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一导电部和所述第二导电部的厚度之和为400埃
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1200埃。
15.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第二阳极部还包括第一附加反射部，所述第一附加反射部设置于所述第二反射部和所述阵列基板之间。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第二阳极部还包括第一附加反射部，所述第一附加反射部设置于所述第二反射部和所述阵列基板之间。
17.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第二导电部覆盖所述第二反射部和所述第一导电部。
18.本技术还提供一种显示面板的制备方法，包括：
19.提供一阵列基板；
20.在所述阵列基板上形成阳极层，所述阳极层包括第一阳极和第二阳极，所述第一阳极与所述第二阳极之间具有间隙，所述第一阳极包括第一反射部，所述第二阳极包括第二反射部，所述第一反射部的反射率小于所述第二反射部的反射率；以及
21.在所述阳极层上形成发光层，所述发光层包括绿色发光部和蓝色发光部，所述绿色发光部设置在所述第一阳极上，所述蓝色发光部设置在所述第二阳极上。
22.本技术公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括阵列基板、阳极层以及发光层，阳极层设置于阵列基板上，阳极层包括第一阳极和第二阳极，第一阳极与第二阳极之间具有间隙，第一阳极包括第一反射部，第二阳极包括第二反射部，所述第一反射部的反射率小于所述第二反射部的反射率，发光层设置于阳极层上，发光层包括绿色发光部和蓝色发光部，绿色发光部设置在第一阳极上，蓝色发光部设置在第二阳极上。在本技术中，绿色发光部对应的第一阳极采用低反射率的材料形成，降低了绿色发光部区域的出光效率，而蓝色发光部对应的第二阳极采用高反射率的材料形成，提高了蓝色发光部区域的出光效率，进而平衡了绿色发光部区域和蓝色发光部区域的出光效率，进而提高了显示面板的显示均匀性。
附图说明
23.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
24.图1是本技术实施例提供的显示面板的第一种结构示意图。
25.图2是本技术实施例提供的显示面板的扫描电子显微镜图。
26.图3是现有技术中的显示面板的扫描电子显微镜图。
27.图4是本技术实施例提供的显示面板的第二种结构示意图。
28.图5是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。
29.图6
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图12是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程结构示意图。
具体实施方式
30.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施
例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
31.本技术实施例提供一种显示面板及其制备方法。以下分别进行详细说明。
32.请参阅图1，图1是本技术实施例提供的显示面板的第一种结构示意图。本技术提供一种显示面板10。显示面板10包括阵列基板100、阳极层200和发光层300。
33.阵列基板100包括第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管。第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管同层设置。第一薄膜晶体管包括第一源极110。第二薄膜晶体管包括第二源极120。
34.在一实施例中，显示面板10还包括平坦层400。平坦层400设置于阵列基板100上。
35.在一实施例中，显示面板10还包括层间介质层500。层间介质层500设置于平坦层400上。层间介质层500设置有第一通孔510和第二通孔520。第一通孔510贯穿层间介质层500和平坦层400以暴露第一源极110。第二通孔520贯穿层间介质层500和平坦层400以暴露第二源极120。
36.阳极层200设置于层间介质层500上。阳极层200包括第一阳极210和第二阳极220。第一阳极210与第二阳极220之间具有间隙。第一阳极210包括第一反射部211。第一反射部211延伸入第一通孔510以连接第一源极110。第二阳极220包括第二反射部221。第二反射部221延伸入第二通孔520中以连接第二源极120。第一反射部211的反射率小于第二反射部221的反射率。
37.在一实施例中，第一反射部211的材料的反射率小于65％。
38.在一实施例中，第一反射部211的材料包括钼、钛和铜中的一种或几种组合。
39.在一实施例中，第二反射部221的材料的反射率大于88％。
40.在一实施例中，第二反射部221的材料包括银和铝中的一种或两种组合。
41.在一实施例中，第二反射部221远离阵列基板100的表面具有粗糙结构。
42.在本技术中，将第二反射部221远离阵列基板100的表面设置有粗糙结构，进而使得更多光线被反射，进而提高了显示面板10的显示性能。
43.在一实施例中，第一阳极210还包括附加导电部212。附加导电部212位于第一反射部211上。附加导电部212的材料选自氧化铟锡和氧化锌。
44.在一实施例中，附加导电部212的厚度h小于400埃。
45.在一实施例中，附加导电部212的厚度h为1埃
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399埃。具体的，附加导电部212的厚度h可以为1埃、20埃、80埃、180埃、220埃、370埃、390埃或400埃等。
46.请参阅2和图3，图2是本技术实施例提供的显示面板的扫描电子显微镜图。图3是现有技术中的显示面板的扫描电子显微镜图。现有技术中，每次沉积附加导电部212的厚度均大于400埃及以上，如每次沉积附加导电部212的厚度均为500埃，使得后续蚀刻第一反射部211以外区域的附加导电部212有残留和结晶。而在本技术中，将附加导电部212的厚度h设置为小于400埃，即附加导电部212的厚度h为1埃
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399埃，使得后续蚀刻位于第一反射部211以外的附加导电部212无残留和无结晶问题，保证显示面板10的显示效果。
47.在一实施例中，第二阳极220部还包括第一附加反射部222、第一导电部223和第二导电部224。第一附加反射部222与第一反射部211同层设置。第一附加反射部222延伸入第
二通孔520以连接第二源极120。第一附加反射部222的材料包括钼、钛和铜中的一种或几种组合。第二反射部221、第一导电部223和第二导电部224依次层叠设置于第一附加反射部222上。
48.在一实施例中，第一导电部223的厚度h小于400埃。
49.在一实施例中，第一导电部223的厚度h为1埃
‑
399埃。具体的，第一导电部223的厚度h可以为1埃、50埃、120埃、210埃、330埃、370埃、390埃或399埃等。
50.在一实施例中，第二导电部224的厚度和附加导电部212的厚度h相同，即为1埃
‑
399埃。
51.在本技术中，将附加导电部212、第一导电部223和第二导电部224的厚度设置为均小于400埃，使得后续蚀刻时，第一反射部211以及第二反射部221以外的区域无残留，保证了显示面板10的显示品质。
52.在一实施例中，第二阳极220中的第一导电部223和第二导电部224可以为多层。
53.在一实施例中，第一导电部223和第二导电部224的厚度之和为400埃
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1200埃。
54.在一实施例中，显示面板10还包括像素定义层600。像素定义层600设置于阵列基板100和阳极层200上。像素定义层600设置有第一过孔610和第二过孔620。第一过孔610贯穿像素定义层600以暴露附加导电部212。第二过孔620贯穿像素定义层600以暴露第二导电部224。
55.发光层300设置于阳极层200上。发光层300包括绿色发光部310和蓝色发光部320。绿色发光部310设置在第一过孔610中。蓝色发光部320设置在第二过孔620中。
56.在本技术中，绿色发光部310对应的第一阳极210采用低反射率的材料形成，降低了绿色发光部310区域的出光效率，即降低了绿色子像素的出光效率，而蓝色发光部320对应的第二阳极220采用高反射率的材料形成，提高了蓝色发光部320区域的出光效率，即，提高了蓝色子像素的出光效率，进而平衡了绿色子像素和蓝色子像素之间的出光效率，进而提高了显示面板10的显示均匀性。将第二反射部221靠近发光层300的一面设置有粗糙结构，进一步提高了蓝色子像素的出光效率，进而进一步提高了显示面板10的显示均匀性。将附加导电部212、第一导电部223和第二导电部224的厚度均设置为1埃
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399埃，使得后续蚀刻时，蚀刻第一反射部211以及第二反射部221以外的第一导电部223和第二导电部224区域无残留，保证了显示面板10的显示品质。
57.请参阅图4，图4是本技术实施例提供的显示面板的第二种结构示意图。需要说明的是，第二种结构和第一种结构的不同之处在于：
58.第二阳极220中不设置有第一附加反射部222。第二反射部221延伸入第二通孔520与第二源极120连接。
59.在本技术中，第二阳极220中不设置有第一附加反射部222，保证显示面板10显示均匀性的同时，降低了生产成本。
60.请参阅图5和图6
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图12，图5是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程图。图6
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图12是本技术实施例提供的显示面板的制备方法的流程结构示意图。
61.b11、提供一阵列基板。
62.请参阅图6。具体的，阵列基板100包括第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管。第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管同层设置。第一薄膜晶体管包括第一源极110。第二薄膜晶体管
包括第二源极120。
63.在一实施例中，在步骤b11之后，还包括：
64.在阵列基板100上设置平坦层400。
65.在一实施例中，在阵列基板100上设置平坦层400的步骤之后，还包括：
66.在平坦层400上形成层间介质层500。层间介质层500设置有第一通孔510和第二通孔520。第一通孔510贯穿层间介质层500和平坦层400以暴露第一源极110。第二通孔520贯穿层间介质层500和平坦层400以暴露第二源极120。
67.b12、在阵列基板上形成阳极层，阳极层包括第一阳极和第二阳极，第一阳极与第二阳极之间具有间隙，第一阳极包括第一反射部，第二阳极包括第二反射部，第一反射部的反射率小于第二反射部的反射率。
68.请参阅图6和图7。具体的，在阵列基板100上依次层叠设置第一反射部211的材料、第二反射部221的材料以及第一导电层201的材料形成第一中间产品598。第一反射部211的材料即为第一反射层202的材料。第二反射部221的材料即为第二反射层203的材料。然后，提供一第一光阻层593。第一光阻层593包括第一部分591和第二部分592。第一部分591的厚度w小于第二部分592的厚度t。
69.请参阅图7
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图9。对第一中间产品598进行湿蚀刻形成第二中间产品599。即，第一部分591对应的第一反射层202的材料形成第一反射部211。第二部分592对应的第一反射层202的材料形成第一附加反射部222。第一部分591对应的第二反射层203的材料形成第二附加反射部213。第二部分592对应的第二反射层203的材料形成第二反射部221。第一部分591对应的第一导电层201的材料形成牺牲部214。第二部分592对应的第一导电层201的材料形成第一导电部223。即，第一附加反射部222、第二反射部221和第一导电部223依次层叠设置。第一反射部211、第二附加反射部213和牺牲部214依次层叠设置。
70.其中，第一导电部223的厚度h小于400埃。即第一导电层201的材料沉积的厚度小于400埃。
71.请继续参阅图8和图9。然后，去除第一部分591，此时，第二部分592的厚度减薄。然后，对第二中间产品599进行湿蚀刻，去除第二附加反射部213以及牺牲部214，然后，去除第二部分592。
72.请参阅图10。然后，在层间介质层500、第一反射部211、第一附加反射部222、第二反射部221以及第一导电部223上设置第二导电层204的材料。
73.请参阅图11。提供一第二光阻层594，对第二导电层204的材料蚀刻形成附加导电部212和第二导电部224，然后，去除第二光阻层594。附加导电部212位于第一反射部211上，第二导电部224位于第一导电部223上。
74.其中，附加导电部212的厚度h小于400埃。第二导电部224的厚度与附加导电部212的厚度h相同，第二导电层204的材料沉积的厚度小于400埃。
75.第一反射部211和附加导电部212构成阳极层200的第一阳极210。第一附加反射部222、第二反射部221、第一导电部223和第二导电部224构成阳极层200的第二阳极220。
76.在一实施例中，第二反射部221远离阵列基板100的表面具有粗糙结构。
77.在本技术中，将第二反射部221远离阵列基板100的表面设置有粗糙结构，提高了第二反射部221的表面积，进而使得更多光线被反射，进而提高了显示面板10的显示性能。
78.在本技术中，将第一导电部223、第二导电部224、附加导电部212的厚度设置均小于400埃，使得后续蚀刻无残留和无结晶问题，保证显示面板10的品质和显示效果。
79.在一实施例中，在步骤b13之后，还包括：
80.请参阅图12。在层间介质层500和阳极层200上设置像素定义层600。像素定义层600设置有第一过孔610和第二过孔620。第一过孔610贯穿像素定义层600以暴露第一阳极210。第二过孔620贯穿像素定义层600以暴露第二阳极220。
81.b13、在阳极层上形成发光层，发光层包括绿色发光部和蓝色发光部，绿色发光部设置在第一阳极上，蓝色发光部设置在第二阳极上。
82.请继续参阅图12。具体的，在第一过孔610中设置发光层300的绿色发光部310。在第二过孔620中设置发光层300的蓝色发光部320。
83.在本技术中，第一阳极210的第一反射部211、第二阳极220的第一附加反射部222、第二阳极220的第二反射部221以及第二阳极220采用一道掩模版就可以形成，简化了显示面板10的制备工艺，提高了生产效率。绿色发光部310对应的第一阳极210采用低反射率的材料形成，降低了绿色发光部310区域的出光效率，即降低了绿色子像素的出光效率，而蓝色发光部320对应的第二阳极220采用高反射率的材料形成，提高了蓝色发光部320区域的出光效率，即，提高了蓝色子像素的出光效率，进而平衡了绿色子像素和蓝色子像素之间的出光效率差异，进而提高了显示面板10的显示均匀性。将第二反射部221靠近发光层300的一面设置有粗糙结构，进一步提高了蓝色子像素的出光效率，进而进一步提高了显示面板10的显示均匀性。将附加导电部212、第一导电部223和第二导电部224每次沉积的厚度设置为均小于400埃，使得后续蚀刻时，蚀刻第一反射部211以及第二反射部221以外的区域无残留，保证了显示面板10的显示品质。
84.本技术公开了一种显示面板10及其制备方法，显示面板10包括阵列基板100、阳极层200以及发光层300，阳极层200设置于阵列基板100上，阳极层200包括第一阳极210和第二阳极220，第一阳极210与第二阳极220之间具有间隙，第一阳极210包括第一反射部211，第二阳极220包括第二反射部221，第一反射部211的反射率小于第二反射部221的反射率，发光层300设置于阳极层200上，发光层300包括绿色发光部310和蓝色发光部320，绿色发光部310设置在第一阳极210上，蓝色发光部320设置在第二阳极220上。在本技术中，绿色发光部310对应的第一阳极210采用低反射率的材料形成，降低了绿色发光部310区域的出光效率，而蓝色发光部320对应的第二阳极220采用高反射率的材料形成，提高了蓝色发光部320区域的出光效率，进而平衡了绿色发光部310区域和蓝色发光部320区域的出光效率，进而提高了显示面板10的显示均匀性。
85.以上对本技术实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。