一种漫反射型标定板及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于包括以下步骤：第一次研磨：使用20%-60%dn95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面研磨10-40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面；或者对抛光片/原版玻璃的下表面研磨10-40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为平面；或者同时对抛光片/原版玻璃的上表面和下表面研磨10-40min，得到两个第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面；制作图形：在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形，依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀，制得金属铬层图形；精密切割：进行精密切割，尺寸精度为
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0.05mm。2.根据权利要求1所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于在第一次研磨步骤和制作图形步骤之间还包括抛光步骤：使用10-30%dn95粒径为0.5-1.5微米的氧化铈抛光溶液，对一个第一研磨面进行10-120min的抛光，得到抛光面。3.根据权利要求2所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：同时对另一个第一研磨面进行抛光，得到另一个抛光面，再对其中一个抛光面进行第二次研磨，得到第二研磨面。4.根据权利要求3所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：所述第二次研磨步骤在抛光步骤和制作图形步骤之间，或者在精密切割步骤之后。5.根据权利要求1所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：对抛光片/原版玻璃的下表面的第一次研磨步骤在精密切割步骤之后。6.根据权利要求3所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：第一研磨面和/或第二研磨面表面粗糙度ra为1-5微米，且表面微粒径为6-8微米。7.根据权利要求2-4任意一项所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：抛光面表面粗糙度ra为0.005-0.015nm。8.根据权利要求1-6任意一项所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：镀膜工艺为抛光片/原版玻璃经过超声清洗干燥后，放入磁控溅射真空室中，采用直流磁控溅射工艺，在玻璃基体的前表面镀制一层80-120nm铬膜，溅射过程中的工艺气体中ar\n2\o2\co2的比例为5-80：0-50：0-60：0-80，真空度为1-8
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10-6，溅射功率为0.2-5kw，得到铬膜基板；涂胶工艺为采用旋涂工艺旋涂，得到胶厚为100-500nm的光刻胶膜，均匀性可达
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0.5%，分辨率可达1微米；光刻工艺为使用具有i线高分辨率镜头的进口光刻机进行曝光工艺；显影腐蚀为曝光后，在精准的全自动显影腐蚀设备上，先利用0.01%-0.3%tmah对曝光光刻胶进行反应去除，溶液温度控制在23-25℃，显影时间控制在10-25s，再利用专用腐蚀液对显影去除光刻胶后裸露出来的铬层进行去除腐蚀，腐蚀时间为40-60s、溶液温度为23-25℃。9.根据权利要求1-6任意一项所述的一种漫反射型标定板的制备方法，其特征在于：研磨时施加的压力为100-500kgf ；研磨在聚氨酯和阻尼布上进行；抛光时施加的压力为100-300kgf 。
10.一种根据权利要求1-9任意一项所述的制备方法制得的漫反射型标定板。

技术总结
本发明公开了一种漫反射型标定板的制备方法，包括以下步骤：使用20%-60%DN95粒径10微米以下的金刚砂溶液，对抛光片/原版玻璃的上表面和/或下表面研磨10-40min，得到第一研磨面，抛光片/原版玻璃的上表面为第一研磨面或平面；在抛光片/原版玻璃的上表面采用半导体掩模版图形制作工艺流程加工制作图形，依次进行镀膜、涂胶、光刻、显影和腐蚀，制得金属铬层；进行精密切割，尺寸精度为


技术研发人员：邓辉 陈保国 范海文
受保护的技术使用者：长沙韶光铬版有限公司
技术研发日：2020.04.28
技术公布日：2021/10/28