掩膜补偿方法和蒸镀系统与流程

技术特征：
1.一种掩膜补偿方法，其特征在于，包括：提供掩膜板，所述掩膜板上具有至少一个掩膜开口，每个所述掩膜开口均为多边形，且具有多个拐角；调整所述掩膜开口的形状，并在所述掩膜开口的至少部分拐角处形成外扩部；将所述掩膜板与待蒸镀层对合，所述掩膜开口与所述待蒸镀层的待蒸镀口对应。2.根据权利要求1所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述调整所述掩膜开口的形状，并在所述掩膜开口的至少一个拐角处形成外扩部的步骤中，包括：所述掩膜开口包括多个依次首尾连接的直线段，相邻两个所述直线段之间通过弧线段连接，所述弧线段形成所述掩膜开口的拐角；调整所述拐角的形状，使所述弧线段朝远离所述掩膜开口的中心的方向偏移，并形成所述外扩部。3.根据权利要求2所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述弧线段与所述直线段的连接处设置有圆弧过渡段。4.根据权利要求2所述的掩膜补偿方法，其特征在于，相邻两个所述直线段之间的倒圆线位于所述弧线段靠近所述掩膜开口的中心一侧，所述弧线段的曲率半径等于所述倒圆线的曲率半径。5.根据权利要求4所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述弧线段的圆心、所述倒圆线的圆心以及所述掩膜开口的中心均位于同一条直线。6.根据权利要求4所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述将所述掩膜板与待蒸镀层对合，所述掩膜开口与所述待蒸镀层的待蒸镀口对应的步骤中，包括：所述待蒸镀层上设置有多个所述待蒸镀口，多个所述掩膜开口与多个所述待蒸镀口一一对应设置。7.根据权利要求6所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述将所述掩膜板与待蒸镀层对合，所述掩膜开口与所述待蒸镀层的待蒸镀口对应的步骤中，包括：在同一所述掩膜开口中，相邻的所述倒圆线和所述弧线段之间的最大间距为第一间距；相邻两个所述待蒸镀口之间的最小间距为第二间距；所述第一间距与所述第二间距的比值范围为3
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20％。8.根据权利要求1
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7中任一项所述的掩膜补偿方法，其特征在于，在所述掩膜开口的多个所述拐角中，形成有所述外扩部的所述拐角相对设置。9.根据权利要求1
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7中任一项所述的掩膜补偿方法，其特征在于，所述掩膜开口为平行四边形；优选的，所述掩膜开口为菱形或长方形；优选的，所述掩膜开口为正方形。10.一种蒸镀系统，其特征在于，包括掩膜板和待蒸镀层，所述掩膜板与所述待蒸镀层对合，所述掩膜板通过权利要求1
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9中任一项所述的掩膜补偿方法进行补偿调整。

技术总结
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜补偿方法和蒸镀系统，旨在解决现目前的掩膜板制备的OLED产品的良率较低的问题。该掩膜补偿方法，通过提供具有至少一个掩膜开口的掩膜板；并在该掩膜板的掩膜开口的拐角处形成外扩部，外扩部可以用于增大掩膜开口的开口面积，从而提高相对于待蒸镀口的允许偏移量；将掩膜板与待蒸镀层对合进行蒸镀，不仅可以提高蒸镀精度，还可以提高掩膜板制备的OLED产品的良率。率。率。


技术研发人员：张庆宇 张浩瀚 曹方义 赵理 肖一鸣
受保护的技术使用者：合肥维信诺科技有限公司
技术研发日：2021.07.21
技术公布日：2021/10/26