导电图案结构及其制备方法与图案化的基底与流程

技术特征：
1.一种导电图案结构的制备方法，其特征在于，包括：提供基底；在所述基底表面的第一预设区域和第二预设区域分别进行第一飞秒激光扫描和第二飞秒激光扫描，在所述基底表面形成预设三维图案，得到图案化的基底；将导电墨水铺展于所述图案化的基底表面上，固化后形成导电图案结构。2.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述在所述基底表面的第一预设区域和第二预设区域分别进行第一飞秒激光扫描和第二飞秒激光扫描包括：将所述基底表面预先划分为第一预设区域和第二预设区域；对所述第一预设区域进行所述第一飞秒激光扫描，未被第一飞秒激光扫描到的所述基底表面区域为第二预设区域；对所述第二预设区域进行所述第二飞秒激光扫描，使所述第二预设区域相对所述第一预设区域向所述基底的外侧凸出形成预设三维图案，其中，第一飞秒激光扫描的扫描次数大于第二飞秒激光扫描的扫描次数。3.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述将导电墨水铺展于所述图案化的基底表面上包括：提供导电墨水；将导电墨水置于在所述图案化的基底表面的预设位置，经过预设时间后导电墨水铺展于所述图案化的基底表面上；其中，所述图案化的基底表面的形状为矩形或圆形，所述预设位置为所述图案化的基底表面的中心位置。4.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述导电墨水的制备方法包括：提供聚(3，4～乙烯二氧噻吩)与聚苯乙烯磺酸盐的水溶液；向所述水溶液中添加二甲基亚砜，得到半成的配制溶液，其中，所述半成的配制溶液中二甲基亚砜的质量百分数为1％～10％；再将所述半成的配制溶液与水按质量比1:0.5～2进行混合，超声分散10～20min之后，得到所述导电墨水。5.根据权利要求4所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述固化后形成导电图案结构包括：将铺展有所述导电墨水的基底置于90～120℃环境6～10分钟，使所述导电墨水固化形成导电图案结构。6.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述第一飞秒激光扫描的工艺参数包括：扫描速度设置为300～500mm/s、波长设置为450～600nm、填充密度设置为0.01mm、功率设置为3000～5000mw和扫描次数设置为3～6次；所述第二飞秒激光扫描的工艺参数包括：扫描速度为300～500mm/s，波长设置为450～600nm、填充密度设置为0.02mm、功率设置为1500～3000mw、扫描次数设置为1～2次。7.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述预设三维图案包括阵列排布的多个三维结构单元，所述三维结构单元的截面形状为正方形、三角形、条纹中的一种或多种；
所述三维结构单元的高度为0.03～0.06mm，所述截面形状包括长度为0.2～0.4mm的边。8.根据权利要求1所述的导电图案结构的制备方法，其特征在于，所述基底为硅片。9.一种图案化的基底，其特征在于，所述基底的表面具有第一预设区域和第二预设区域，其中，所述第二预设区域相对所述第一预设区域向所述基底的外侧凸出在基底上形成预设三维图案；第一预设区域的表面和第二预设区域的表面均具有通过飞秒激光扫描加工形成的粗糙表面。10.一种导电图案结构，其特征在于，包括如权利要求9所述的图案化的基底和导电结构，所述导电结构构成的导电图案与所述的图案化的基底上的预设三维图案相配合，且所述导电图案结构为导电墨水固化后形成。

技术总结
本申请公开一种导电图案结构及其制备方法与图案化的基底。在导电图案结构的制备方法中，通过飞秒激光扫描基底表面，使基底表面形成高精度的预设三维图案，再以高精度的预设三维图案制备导电图案结构，可以提高导电图案结构的精度；同时在飞秒激光扫描过程中会使基底由平整表面转变为粗糙表面，有利于提高导电墨水在基底上的润湿性，从而有利于导电墨水铺展于所述图案化的基底表面上，提高导电图案结构的良率。的良率。的良率。


技术研发人员：张良静 王萌 张智滔 龙嘉钊 陈皓弘
受保护的技术使用者：深圳技术大学
技术研发日：2021.07.06
技术公布日：2021/10/23