光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜的制作方法

技术特征：
1.一种光学构件保护膜用粘合剂组合物，包含：具有羟基和羧基中的至少一者并且重均分子量超过20万且为200万以下的范围的(甲基)丙烯酸系聚合物a，具有羟基和羧基中的至少一者、玻璃化转变温度为0℃以上且45℃以下的范围并且重均分子量为6000以上且15万以下的范围的(甲基)丙烯酸系聚合物b，玻璃化转变温度为－30℃以下并且重均分子量为6000以上且15万以下的范围的(甲基)丙烯酸系聚合物c，和异氰酸酯系交联剂d；相对于100质量份的所述(甲基)丙烯酸系聚合物a，所述(甲基)丙烯酸系聚合物b的含量为7质量份以上且70质量份以下的范围，相对于100质量份的所述(甲基)丙烯酸系聚合物a，所述(甲基)丙烯酸系聚合物c的含量为0.5质量份以上且5质量份以下的范围。2.根据权利要求1所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物a具有羟基并且羟值为0.3mgkoh/g以上且40mgkoh/g以下的范围。3.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物a具有羧基并且酸值为0.7mgkoh/g以上且24mgkoh/g以下的范围。4.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物b具有羟基并且羟值为0.3mgkoh/g以上且40mgkoh/g以下的范围。5.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物b具有羧基并且酸值为0.7mgkoh/g以上且24mgkoh/g以下的范围。6.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物c的羟值为40mgkoh/g以下。7.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，所述(甲基)丙烯酸系聚合物c的重均分子量比所述(甲基)丙烯酸系聚合物b的重均分子量小。8.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，包含防静电剂。9.根据权利要求1或权利要求2所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物，其中，包含聚醚改性有机硅化合物。10.一种光学构件保护膜，具备基材与粘合剂层，所述粘合剂层设置于所述基材上且由权利要求1～权利要求9中任一项所述的光学构件保护膜用粘合剂组合物形成。

技术总结
本发明是一种光学构件保护膜用粘合剂组合物和光学构件保护膜，所述光学构件保护膜用粘合剂组合物包含：具有羟基和羧基中的至少一者并且重均分子量超过20万且为200万以下的范围的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，具有羟基和羧基中的至少一者、玻璃化转变温度为0℃～45℃且重均分子量为6000～15万的(甲基)丙烯酸系聚合物(B)，玻璃化转变温度为－30℃以下且重均分子量为6000～15万的(甲基)丙烯酸系聚合物(C)，和异氰酸酯系交联剂(D)；相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100质量份，(甲基)丙烯酸系聚合物(B)的含量为7质量份～70质量份，相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100质量份，(甲基)丙烯酸系聚合物(C)的含量为0.5质量份～5质量份。份。


技术研发人员：池元智拾 藤川春奈 鸭井彬 狩野肇
受保护的技术使用者：日本电石工业株式会社
技术研发日：2021.03.22
技术公布日：2021/9/24