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一种水性涂料分散研磨系统的制作方法

2021-10-24 16:57:00 来源:中国专利 TAG:水性 涂料 研磨 分散 生产


1.本实用新型涉及水性涂料生产技术领域,具体为一种水性涂料分散研磨系统。


背景技术:

2.水性涂料包括水溶性涂料、水稀释性涂料、水分散性涂料(乳胶涂料)3种,水溶性涂料是以水溶性树脂为成膜物,以聚乙烯醇及其各种改性物为代表,除此之外还有水溶醇酸树脂、水溶环氧树脂及无机高分子水性树脂等,专利申请号为cn201921996665.7的实用新型公开了一种水性涂料的分散研磨生产系统,属于涂料制备领域。包括相连通的分散搅拌单元和研磨单元,分散搅拌单元包括搅拌釜和分散转轴,分散转轴底部设有分散盘,分散盘包括盘体,上述系统克服目前涂料分散研磨生产便利性不足的问题,拟提供一种水性涂料的分散研磨生产系统,可以有效保证涂料加工质量,操作便利性得到提升;
3.上述系统在分散搅拌单元和研磨单元之间设置有过滤筒,过滤筒内设置有初过滤网,在对材料进行过滤的过程中,由于初过滤网为固定设置,凝聚在一起的块状材料容易对初过滤网造成堵塞,过滤网堵塞后使得材料无法进入到下一生产单元,从而影响生产进度。


技术实现要素:

4.为了解决上述现有技术中存在问题,本实用新型提供一种水性涂料分散研磨系统。
5.为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案:
6.一种水性涂料分散研磨系统,包括配料装置、分散搅拌装置和过滤装置,所述分散搅拌装置分别与所述配料装置与所述过滤装置连通,所述过滤装置与所述分散搅拌装置的出料口连通;
7.所述过滤装置内部的一侧设置有电机,所述电机的输出端设置有凸轮,所述过滤装置内部的另一侧设置有弹性件,所述弹性件与移动板的一端固定连接,所述移动板的另一端设置有滚轮,所述滚轮与所述凸轮接触,所述移动板上可拆卸设置有过滤筒,所述过滤筒的正下方设置有集料槽;
8.所述过滤装置的顶部开设有进料口,所述进料口设置于所述过滤筒的正上方。
9.进一步的,所述移动板的中部开设有通孔,所述过滤筒嵌入设置于通孔内部。
10.进一步的,所述进料口的底部设置有导流管,所述导流管为软管,所述导流管的一端与所述进料口连接,所述导流管的另一端延伸至所述过滤筒的内部。
11.进一步的,所述集料槽的底部开设有出料口,所述出料口处设置有阀门。
12.进一步的,所述过滤装置的内壁设置有滑道,所述移动板在滑道上水平滑动。
13.进一步的,所述弹性件包括凹槽和弹簧,所述弹簧嵌入设置于所述凹槽的内部,所述弹簧于所述移动板。
14.进一步的,所述出料口与研磨装置连通。
15.进一步的,所述研磨装置与接料装置连通。
16.与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:
17.通过电机带动凸轮转动,凸轮与滚轮滚动接触,通过滚轮顶动移动板,使得移动板带动内部嵌入的过滤筒晃动,过滤筒的底部及侧壁底部均为滤网,在晃动的过程中,可以保证材料的可通过滤网的同时避免材料对过滤网造成堵塞。
附图说明
18.图1显示为本实用新型的过滤装置示意图;
19.图2显示为本实用新型的系统整体示意图;
具体实施方式
20.为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
21.下面结合实施例对本实用新型作进一步的描述,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,并不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的其他所有实施例,都属于本实用新型的保护范围。
22.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“逆时针”、“顺时针”“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
23.实施例:
24.一种水性涂料分散研磨系统,包括配料装置100、分散搅拌装置200和过滤装置300,分散搅拌装置200分别与配料装置100与过滤装置300连通,过滤装置300与分散搅拌装置200的出料口连通;
25.如图1

2所示,具体实施时,配料装置100用于配置各种原材料,配置好的材料加入到分散搅拌装置200的内部进行搅拌,经过搅拌的材料进入到过滤装置300的内部进行过滤,经过过滤后的材料进入到进一步的加工装置内进行处理。
26.过滤装置300内部的一侧设置有电机301,电机301的输出端设置有凸轮302,过滤装置300内部的另一侧设置有弹性件303,弹性件303与移动板304的一端固定连接,弹性件303包括凹槽3031和弹簧3032,弹簧3032嵌入设置于凹槽3031的内部,弹簧3032于移动板304,过滤装置300的内壁设置有滑道,移动板304在滑道上水平滑动,移动板304的另一端设置有滚轮309,滚轮309与凸轮302接触,移动板304上可拆卸设置有过滤筒305,移动板304的中部开设有通孔,过滤筒305嵌入设置于通孔内部,过滤筒305的正下方设置有集料槽310;
27.如图1

2所示,具体实施时,通过电机301带动凸轮302转动,当凸轮302转动时对移动板304进行顶动,使得移动板304沿着滑道滑动,当移动板304发生位移时,移动板304对弹簧3032进行挤压,弹簧3032在凹槽3031的内部收缩,弹簧3032通过其自身弹性复位时带动移动板304位移,从而使得移动板304带动过滤筒305往复运动,在过滤筒305晃动的过程中将其内部的材料进行过滤,同时可避免聚集性的材料堵塞,经过过滤的材料通过过滤筒305后落入到集料槽310的内部进行收集,以便于进入下一道工序进行进一步的加工。
28.过滤装置300的顶部开设有进料口306,进料口306设置于过滤筒305的正上方,进料口306用于分散搅拌装置200将其搅拌后的材料投入到过滤装置300内。
29.进一步的,进料口306的底部设置有导流管307,导流管307为软管,导流管307的一端与进料口306连接,导流管307的另一端延伸至过滤筒305的内部,导流管307在输送材料的过程中起到导流的作用,避免材料落入过滤筒305的外部。
30.进一步的,集料槽310的底部开设有出料口308,出料口308处设置有阀门,出料口308用于排料,通过阀门控制其通断。
31.进一步的,出料口308与研磨装置400连通,经过过滤后的材料进入到研磨装置400内进行研磨。
32.进一步的,研磨装置400与接料装置500连通,经过研磨装置400研磨后进入到接料装置500内统一收集。
33.以上仅为本实用新型的较佳实施例而已,当然不能以此来限定本实用新型之权利范围,因此依本实用新型权利要求所作地等同变化,仍属本实用新型所涵盖的范围。


技术特征:
1.一种水性涂料分散研磨系统,包括配料装置(100)、分散搅拌装置(200)和过滤装置(300),所述分散搅拌装置(200)分别与所述配料装置(100)与所述过滤装置(300)连通,其特征在于,所述过滤装置(300)与所述分散搅拌装置(200)的出料口连通;所述过滤装置(300)内部的一侧设置有电机(301),所述电机(301)的输出端设置有凸轮(302),所述过滤装置(300)内部的另一侧设置有弹性件(303),所述弹性件(303)与移动板(304)的一端固定连接,所述移动板(304)的另一端设置有滚轮(309),所述滚轮(309)与所述凸轮(302)接触,所述移动板(304)上可拆卸设置有过滤筒(305),所述过滤筒(305)的正下方设置有集料槽(310);所述过滤装置(300)的顶部开设有进料口(306),所述进料口(306)设置于所述过滤筒(305)的正上方。2.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述移动板(304)的中部开设有通孔,所述过滤筒(305)嵌入设置于通孔内部。3.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述进料口(306)的底部设置有导流管(307),所述导流管(307)为软管,所述导流管(307)的一端与所述进料口(306)连接,所述导流管(307)的另一端延伸至所述过滤筒(305)的内部。4.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述集料槽(310)的底部开设有出料口(308),所述出料口(308)处设置有阀门。5.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述过滤装置(300)的内壁设置有滑道,所述移动板(304)在滑道上水平滑动。6.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述弹性件(303)包括凹槽(3031)和弹簧(3032),所述弹簧(3032)嵌入设置于所述凹槽(3031)的内部,所述弹簧(3032)于所述移动板(304)。7.根据权利要求1所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述出料口(308)与研磨装置(400)连通。8.根据权利要求7所述的一种水性涂料分散研磨系统,其特征在于,所述研磨装置(400)与接料装置(500)连通。

技术总结
本实用新型公开了一种水性涂料分散研磨系统,包括配料装置、分散搅拌装置,过滤装置,所述分散搅拌装置分别与所述配料装置与所述过滤装置连通,所述过滤装置与所述分散搅拌装置的出料口连通;通过电机带动凸轮转动,凸轮与滚轮滚动接触,通过滚轮顶动移动板,使得移动板带动内部嵌入的过滤筒晃动,过滤筒的底部及侧壁底部均为滤网,在晃动的过程中,可以保证材料的可通过滤网的同时避免材料对过滤网造成堵塞。造成堵塞。造成堵塞。


技术研发人员:陈文斌
受保护的技术使用者:成都优品化工有限公司
技术研发日:2020.12.04
技术公布日:2021/10/23
再多了解一些

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