光源装置、投影仪及机械加工装置的制作方法

1.本发明涉及光源装置、投影仪及机械加工装置。


背景技术：

2.已知有使从多个半导体激光光源射出的各激光束入射至光纤并复用为一束的复用光学系统(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的复用光学系统(以下称为“现有例1的复用光学系统”)由如下部分构成：多个半导体激光光源，配置为矩阵状；多个准直透镜，使从各半导体激光光源射出的激光束成为平行光；第1聚光透镜(柱面透镜)，在包含慢(slow)轴方向的面内及包含快(fast)轴方向的面内的仅一方中将通过准直透镜的激光束聚光；第2聚光透镜(变形透镜)，与第1聚光透镜一起在上述2个面内的双方将通过第1聚光透镜的激光束聚光；光纤，供通过第2聚光透镜的各激光束入射。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2007
‑
163947号公报


技术实现要素：

6.发明要解决的技术问题
7.作为复用光学系统，除了现有例1的复用光学系统以外，例如，也能够考虑如图7所示的复用光学系统(以下称为“现有例2的复用光学系统”)。现有例2的复用光学系统具备：多个半导体激光光源20；准直透镜30；缩小光学系统40，将快轴侧的各激光束的宽度缩小；多个反射镜70，将慢轴侧的各激光束的间隔变窄，即，使各激光束接近光纤60的光轴侧；聚光透镜50；光纤60。
8.缩小光学系统40由平凸透镜401与平凹透镜402构成。
9.此外，各反射镜70沿慢轴方向隔开间隔配置。在现有例2的复用光学系统的情况下，根据各反射镜70的大小的不同，沿慢轴侧相邻的半导体激光光源20彼此的间隔受其大小的影响变宽。另外，根据复用光学系统的使用用途不同，存在半导体激光光源20彼此的间隔较窄比较宽更为优选的情况。
10.此外，在慢轴侧中，通过准直器后的光束直径(宽度)小于快轴侧，因此准直光束的扩散角变得大于快轴侧。由此，在慢轴侧，向光纤的入射变得不充分(困难)。其结果为，光纤的输出降低。
11.本发明的目的在于，提供一种能够尽可能减小激光二极管元件彼此的间隔并且能够充分进行在慢轴方向上的激光向导光体的入射的光源装置、投影仪及机械加工装置。
12.用于解决上述技术问题的方案
13.本发明的方案涉及一种光源装置，具备：
14.光源，具有多个激光二极管元件及收纳该各激光二极管元件的封装；
15.准直器，配置在从所述各激光二极管元件发出的激光的光路上；
16.聚光透镜，相对于所述准直器配置在所述各激光二极管元件的光轴方向下游侧，将所述激光聚光；
17.导光体，相对于所述聚光透镜配置在所述光轴方向下游侧；
18.放大光学系统，配置在所述准直器与所述聚光透镜之间，使得透过所述准直器的所述激光的慢轴方向的光束直径接近快轴方向的光束直径。
19.本发明的方案涉及具备上述光源装置的投影仪。
20.本发明的方案涉及具备上述光源装置的机械加工装置。
21.发明效果
22.根据本发明，能够尽可能地装填激光二极管元件，即无间隙地紧密配置激光二极管。由此，能够尽可能缩小激光二极管元件彼此的间隔，能够将各激光二极管元件的激光相对于导光体的入射角抑制得较小。由此，无论各激光二极管元件的位置如何，从该激光二极管元件发出的激光变得容易入射至导光体。
附图说明
23.图1是示出本发明的光源装置的第1实施方式的概略构成图。
24.图2是具备如图1所示的光源装置的光源的纵向剖视图。
25.图3是从箭头a方向观察图2中的光源的图。
26.图4是示出如图1所示的光源装置的慢轴侧的激光的扩散状态的图。
27.图5是示出省略了放大光学系统的情况下的慢轴侧的激光的扩散状态的图。
28.图6是示出本发明的光源装置的第2实施方式的概略构成图。
29.图7是现有例2的复用光学系统的概略构成图。
具体实施方式
30.以下，基于附图所示的优选实施方式对本发明的光源装置、投影仪及机械加工装置进行详细说明。
31.<第1实施方式>
32.参照图1～图5，对本发明的光源装置、投影仪及机械加工装置的第1实施方式进行说明。另外，图1的上侧的构成图示出与激光的快(fast)轴方向α1平行的俯视下的光源装置的各部分的配置构成，图1的下侧的构成图示出与激光的慢(slow)轴方向α2平行的俯视下的光源装置的各部的配置构成。此外，以下，为了方便说明，将图1、图4及图5中的左侧称为“光轴方向上游侧(或左侧)”，将右侧称为“光轴方向下游侧(或右侧)”。此外，有时对光轴方向上游侧简称为“上游侧”，对光轴方向下游侧简称为“下游侧”。
33.图1所示的光源装置1具备从光轴方向上游侧向下游侧依次配置的光源2、准直器3、放大光学系统4、聚光透镜5、导光体6。如下文所述，光源装置1例如能够应用于投影仪、机械加工装置。以下，对各部分的构成进行说明。
34.光源2具有多个ld封装21。由于各ld封装21的构成相同，因此对一个ld封装21的构成进行代表性说明。
35.如图2所示，ld封装21具有激光二极管元件(ld元件)22、光电二极管23、封装24。
36.激光二极管元件22能够照射激光(半导体激光)lb。激光二极管元件22例如由具有
活性层(发光层)、与经由活性层配置的n型覆层及p型覆层的层叠体构成。活性层的两端面分别成为反射面。当向激光二极管元件22沿正向施加电压时，电子从n型覆层流入活性层，并且空穴从p型覆层流入活性层，在活性层内再结合而发光。由于各覆层的折射率低于活性层，因此光在活性层内于所述两端面之间被放大并往返。然后，通过产生受激发射，将该光作为激光lb照射。
37.激光二极管元件22(活性层)所发出的激光lb不是完全的直线光，而是通过衍射在扩散的同时行进。此外，作为层叠体的激光二极管元件22形成为宽度方向大于厚度方向。由此，如图3所示，激光lb的强度分布(远场模式)成为激光lb的快轴方向α1大于慢轴方向α2。
38.封装24将激光二极管元件22与光电二极管23一并收纳。封装24即所谓的can型封装，具有基座241、盖242、罩玻璃243。
39.基座241具有：圆盘状部244，呈圆盘状并支承光电二极管23；支承部245，从圆盘状部244突出形成并支承激光二极管元件22。此外，圆盘状部244在封装24中成为外径扩径至最大的凸缘部。然后，在将ld封装21固定于光源装置1中的规定部位时，能够利用圆盘状部244稳定地固定ld封装21。
40.在基座241固定有盖242。盖242是覆盖由基座241支承的激光二极管元件22及光电二极管23的部件。此外，在盖242形成有供激光lb通过的贯通孔246。
41.作为基座241及盖242的构成材料，没有特别的限定，例如，能够使用铝等金属材料。
42.罩玻璃243是从盖242的内侧覆盖贯通孔246的玻璃板。激光lb能够透过罩玻璃243。另外，封装24也可以省略罩玻璃243。
43.如上构成的ld封装21以矩阵状被配置为沿激光lb的快轴方向α1有多行且沿慢轴方向α2有多列。如图1所示，在本实施方式中，快轴方向α1的ld封装21的配置数为3个，慢轴方向α2的ld封装21的配置数也为3个，但各方向的配置数不限定于此。此外，快轴方向α1的ld封装21的配置数与慢轴方向α2的ld封装21的配置数不限定于相同，也可以不同。
44.此外，沿快轴方向α1相邻的激光二极管元件22彼此的中心间距离(间距)p1和沿慢轴方向α2相邻的激光二极管元件22彼此的中心间距离(间距)p2彼此相等。在图1所示的构成中，沿快轴方向α1相邻的激光二极管元件22彼此相互接触，且沿慢轴方向α2相邻的激光二极管元件22彼此相互接触。在这种情况下，中心间距离p1及中心间距离p2变得与成为所述凸缘部的圆盘状部244的外径φd244相等。另外，激光二极管元件22彼此也可以相互分离。
45.在激光lb的光路上即在激光二极管元件22的光轴上，准直器3与光源2分离地配置。准直器3由多个圆形的透镜(平凸透镜)31构成。
46.各透镜31具有供激光lb入射的入射面311、供激光lb射出的射出面312。入射面311由平面构成。射出面312由弯曲的凸面构成。一般来说，射出面312成为非球面形状，入射面311有时配合射出面312的形状而成为凸面、凹面等。另外，透镜31的有效直径优选为大于外径φd244。
47.此外，各透镜31被配置为逐一面对激光二极管元件22。此外，各透镜31配置在激光二极管元件22的光轴通过该透镜31的中心的位置。由此，能够使从各激光二极管元件22发出的激光lb成为与快轴方向α1、慢轴方向α2的任一方向均平行的平行光。另外，准直器3也
可由组合透镜构成。
48.在激光lb的光路上且相对于准直器3的下游侧配置有聚光透镜5。准直器3与聚光透镜5相互分离，在准直器3与聚光透镜5之间配置有放大光学系统4。
49.聚光透镜5是使各激光lb向导光体6聚光的透镜。聚光透镜5具有供激光lb入射的入射面51与供激光lb射出的射出面52。入射面51由弯曲的凸面构成。射出面52由平面构成。另外，由聚光透镜5聚光的激光lb彼此也能够与图1所示的状态不同而相互重合。
50.在激光lb的光路上且相对于聚光透镜5的下游侧配置有导光体6。导光体6呈长条状，具有成为入射面61的上游侧的端面与成为射出面62的下游侧的端面。由聚光透镜5聚光的多束激光lb一并入射至入射面61。该激光lb能够通过导光体6内被引导至射出面62并从该射出面62射出。作为导光体6没有特别的限定，例如能够使用光纤、光波导等。
51.如前文所述，在现有例2的复用光学系统中，沿慢轴侧相邻的半导体激光光源彼此的间隔变宽。在这种情况下，半导体激光光源位于光纤的光轴越靠外侧，即离光纤的光轴越远，激光束相对于光纤的入射面的入射角就变得越大。然后，根据该入射角的大小，激光束变得容易由光纤的入射面反射而有可能无法入射至该入射面。结果使光纤的输出降低。
52.于是，在光源装置1中，构成为消除这样的不良状况。以下，对该构成及作用进行说明。
53.如图1所示，光源装置1具备放大光学系统4。
54.在放大光学系统4的前后，激光lb的快轴方向α1的光束直径(光束宽度)维持恒定，慢轴方向α2的光束直径(光束宽度)被放大。另外，作为各光束直径，能够使用在激光lb的强度达到峰值的1/e2的两点间测量而得的测量值。
55.即，在快轴方向α1，透过放大光学系统4前的光束直径wα1
‑
1与透过放大光学系统4后的光束直径wα1
‑
2相等。另一方面，在慢轴方向α2，透过放大光学系统4前的光束直径wα2
‑
1成为透过放大光学系统4后的光束直径wα2
‑
2，该光束直径wα2
‑
2大于光束直径wα2
‑
1。此外，光束直径wα2
‑
2优选为与光束直径wα1
‑
2相等。
56.如此，放大光学系统4被配置在准直器3与聚光透镜5之间，使得将透过了准直器3的激光lb的慢轴方向α2的光束直径wα2
‑
1放大从而接近快轴方向α1的光束直径wα1
‑
2。
57.作为放大光学系统4的具体构成，在本实施方式中，放大光学系统4为具有第1透镜41与第2透镜42的构成。第1透镜41及第2透镜42分别为仅在慢轴方向α2上具有屈光力(power)的柱面透镜。此外，第1透镜41与第2透镜42从光轴方向上游侧向下游侧依次配置。
58.第1透镜41与准直器3分离地配置。第1透镜41具有供激光lb入射的入射面411、供激光lb射出的射出面412。在入射面411中具有以使深度沿慢轴方向α2连续变化的方式形成的多个凹面413。另一方面，射出面412由平面构成。各第1透镜41的光轴配置为与各激光二极管元件22的光轴一致。通过这样的入射面411及射出面412，第1透镜41成为在慢轴方向α2上比在快轴方向α1上更具有屈光力的柱面透镜。由此，激光lb在快轴方向α1中保持平行光的状态，在慢轴方向α2中被放大。
59.另外，在本实施方式中，第1透镜41的入射面411具有凹面413，射出面412由平面构成，但不限于此，例如，也可以是射出面412具有凹面413，入射面411由平面构成。
60.在第1透镜41的下游侧，第2透镜42与第1透镜41分离地配置。第2透镜42具有供激光lb入射的入射面421与供激光lb射出的射出面422。入射面421由平面构成。另一方面，射
出面422具有以使突出高度沿慢轴方向α2连续变化的方式形成的凸面423。各第2透镜42的光轴配置为与各激光二极管元件22的光轴一致。第2透镜42通过这样的入射面421及射出面422成为柱面透镜，能够在慢轴方向α2中将激光lb整形为平行光。
61.然后，通过第1透镜41及第2透镜42，能够将透过放大光学系统4后的慢轴方向α2的光束直径wα2
‑
2放大从而大于透过放大光学系统4前的慢轴方向α2的光束直径wα2
‑
1。该放大范围更优选为例如1.5倍～6.0倍的范围。由此，能够使慢轴方向α2的光束直径wα2
‑
1接近与慢轴方向α2的光束直径wα2
‑
2同等大小的快轴方向α1的光束直径wα1
‑
2。
62.此外，放大光学系统4优选配置为透过准直器3后的快轴方向α1的光束直径wα1
‑
1与封装24的外径φd244相等，或者与中心间距离p1相等。另外，如前文所述，在本实施方式中，由于沿快轴方向α1相邻的激光二极管元件22彼此相互接触，因此中心间距离p1与外径φd244大小相同。
63.由此，在光源2中，能够尽可能使ld封装21在快轴方向α1上装填，即，无间隙地紧密(稠密地)配置。此外，在慢轴方向α2也同样地能够紧密配置。
64.通过如上所述地构成的放大光学系统4，能够尽可能地减小ld封装21(激光二极管元件22)彼此的间隔。由此，能够将各ld封装21尽可能地接近导光体6的光轴而配置。并且，也能够使各ld封装21的激光lb相对于导光体6的入射面61的入射角在快轴方向α1、慢轴方向α2的任一方向上均抑制得较小。由此，无论各ld封装21的位置如何，均使从该ld封装21发出的激光lb变得容易入射至导光体6的入射面61。并且，在快轴方向α1的激光lb向导光体6的入射理所当然地能够充分进行，慢轴方向α2的激光lb向导光体6的入射也能够充分进行(以下，将该效果称为“入射容易性”)。此外，该入射容易性在ld封装21的配置数比图1所示的构成增加了的情况下也同样能维持。由此，根据光源装置1的用途，能够充分地确保导光体6中的输出。
65.此外，光源装置1能够省略现有例2的复用光学系统中使用的反射镜。由此，能够将激光lb的光路长缩短至短于现有例2的复用光学系统，入射容易性得到提高。此外，由于省略了反射镜，对应地能够实现光源装置1的小型化。
66.如前文所述，第2透镜42是将激光lb整形为平行光的透镜。理想情况下激光lb通过第2透镜42而成为平行光，但严格来说，如图4所示，虽然细微但该激光lb仍具有扩散角θ1(发散角)从而逐渐地放大。
67.与此相对地，如图5所示，在省略了放大光学系统4的情况下，激光lb的扩散角(发散角)θ2变得大于扩散角θ1，且比图4所示的状态更大幅地放大，从而并不优选。
68.在第2透镜42中，优选将透过第2透镜42后的激光lb的扩散角θ1设定为1mm rad以下。由此，能够尽可能抑制扩散角θ1产生的影响(例如导光体6中的复用率降低等)。
69.<第2实施方式>
70.以下，参照图6对本发明的光源装置、投影仪及机械加工装置的第2实施方式进行说明，以与前述实施方式的不同点为中心进行说明，对同样的事项省略其说明。
71.本实施方式除了光源装置具备缩小光学系统以外与所述第1实施方式相同。
72.如图6所示，光源装置1具备配置于放大光学系统4(准直器3)与聚光透镜5之间的缩小光学系统7。缩小光学系统7将透过放大光学系统4(准直器3)后的快轴方向α1的光束直径wα1
‑
2缩小为比该光束直径wα1
‑
2更小的光束直径wα2
‑
3。
73.在光源装置中，根据用途有时希望将沿快轴方向α1的ld封装21的配置数设为比图6所示的构成要多。在这种情况下，通过将缩小光学系统7配置在放大光学系统4与聚光透镜5之间，能够使来自各ld封装21的激光lb朝向聚光透镜5从而充分地入射。
74.缩小光学系统7具有缩小用第1透镜71与缩小用第2透镜72。
75.缩小用第1透镜71具有供激光lb入射的入射面711、供激光lb射出的射出面712。入射面711具有以使突出高度沿快轴方向α1连续变化的方式而形成的凸面713。凸面713配置在聚光透镜5的光轴通过该凸面713的中心的位置。另一方面，射出面712构成为平面。
76.在缩小用第1透镜71的下游侧，缩小用第2透镜72被配置为与缩小用第1透镜分离。缩小用第2透镜72具有供激光lb入射的入射面721与供激光lb射出的射出面722。入射面721具有以使深度沿快轴方向α1连续变化的方式形成的凹面723。凹面723与凸面713同样地配置在聚光透镜5的光轴通过该凹面723的中心的位置。另一方面，射出面722由平面构成。
77.另外，在本实施方式中，缩小用第2透镜72的入射面721具有凹面723，射出面722由平面构成，但不限于此，例如，也可以是射出面722具有凹面413，入射面721由平面构成。
78.通过这样的缩小用第1透镜及缩小用第2透镜，能够以简单的构成将光束直径wα1
‑
2缩小为光束直径wα2
‑
3。
79.<应用例1>
80.对光源装置1的应用例进行说明。
81.光源装置1能够应用于将图像等投影到幕布上的投影仪。投影仪具备光源装置1。在这种情况下，光源装置1构成为分别照射波长互不相同的红色系、绿色系及蓝色系的激光lb。由此，光源装置1能够投影彩色图像。
82.<应用例2>
83.对光源装置1的另一应用例进行说明。
84.光源装置1能够应用于进行激光加工的机械加工装置。机械加工装置具备光源装置1。在这种情况下，光源装置1构成为分别照射波长互不相同的例如蓝色系的激光lb。由此，光源装置1例如能够进行将金属板切断的激光加工。
85.以上，对本发明的光源装置、投影仪及机械加工装置的图示的实施方式进行了说明，但本发明不限定于此，构成光源装置、投影仪及机械加工装置的各部分可置换为能够发挥同样的功能的任意构成。此外，也可以附加任意的构成物。
86.此外，本发明的光源装置、投影仪及机械加工装置也可以组合所述各实施方式中的任意2个以上的构成(特征)而得。
87.此外，放大光学系统4在所述各实施例中为具有第1透镜41及第2透镜42的构成，但不限定于此，例如，作为放大光学系统4，也可以使用变形棱镜对。
88.[方案]
[0089]
本领域技术人员可以理解，上述多个示例性的实施方式是以下的方案的具体例。
[0090]
(第1项)一方案的光源装置具备：
[0091]
光源，具有多个激光二极管元件及收纳该各激光二极管元件的封装；
[0092]
准直器，配置在从所述各激光二极管元件发出的激光的光路上；
[0093]
聚光透镜，相对于所述准直器配置在所述各激光二极管元件的光轴方向下游侧，将所述激光聚光；
[0094]
导光体，相对于所述聚光透镜配置在所述光轴方向下游侧；
[0095]
放大光学系统，配置在所述准直器与所述聚光透镜之间，使得透过所述准直器的所述激光的慢轴方向的光束直径接近快轴方向的光束直径。
[0096]
根据第1项所述的光源装置，能够尽可能地装填激光二极管元件，即无间隙地紧密配置激光二极管元件。由此，能够尽可能地缩小激光二极管元件彼此的间隔，能够将各激光二极管元件的激光相对于导光体的入射角抑制得较小。由此，无论各激光二极管元件的位置如何，均使从该激光二极管元件发出的激光变得容易入射至导光体。
[0097]
(第2项)在第1项所述的光源装置中，
[0098]
相邻的所述激光二极管元件彼此的中心间距离在所述快轴方向与所述慢轴方向上彼此相等，
[0099]
所述放大光学系统配置为，透过所述准直器后的所述快轴方向的光束直径与所述封装的外径相等或者与所述中心间距离相等。
[0100]
根据第2项所述的光源装置，能够尽可能地装填激光二极管元件，即无间隙地紧密配置激光二极管元件。
[0101]
(第3项)在第1项或第2项所述的光源装置中，
[0102]
所述放大光学系统将透过所述准直器后的所述慢轴方向的光束直径以透过所述准直器前的所述慢轴方向的光束直径的1.5～6.0倍的范围放大。
[0103]
根据第3项所述的光源装置，能够使慢轴方向的光束直径w接近快轴方向的光束直径。
[0104]
(第4项)在第1项～第3项中的任一项所述的光源装置中，
[0105]
所述放大光学系统具备：第1透镜，供所述激光入射的入射面具有凹面，供所述激光射出的射出面由平面构成；
[0106]
第2透镜，相对于所述第1透镜配置在所述光轴方向下游侧，供所述激光入射的入射面由平面构成，供所述激光射出的射出面具有凸面。
[0107]
根据第4项所述的光源装置，例如，第1透镜成为在慢轴方向比快轴方向更具有屈光力的透镜，第2透镜成为将从第1透镜射出的光整形为平行光的透镜。
[0108]
(第5项)在第4项所述的光源装置中，
[0109]
所述第1透镜是在所述慢轴方向比在所述快轴方向更具有屈光力的透镜；
[0110]
所述第2透镜是将从所述第1透镜射出的光整形为平行光的透镜。
[0111]
根据第5项所述的光源装置，能够以简单的构成使透过准直器的激光的慢轴方向的光束直径接近快轴方向的光束直径。
[0112]
(第6项)在第5项所述的光源装置中，
[0113]
所述第2透镜将透过该第2透镜后的所述激光的扩散角设定为1mm rad以下。
[0114]
根据第6项所述的光源装置，由此，能够尽可能地抑制激光的扩散角产生的影响(例如导光体中的复用率降低等)。
[0115]
(第7项)在第1项～第6项中的任一项所述的光源装置中，
[0116]
具备缩小光学系统，配置于所述准直器与所述聚光透镜之间，将透过所述准直器后的所述快轴方向的光束直径缩小。
[0117]
在光源装置中，根据用途有期望将沿快轴方向的激光二极管元件的配置数增加的
情况。在这种情况下，根据第7项所述的光源装置，能够使来自各激光二极管元件的激光朝向聚光透镜从而充分入射。
[0118]
(第8项)在第7项所述的光源装置中，
[0119]
所述缩小光学系统具有：缩小用第1透镜，供所述激光入射的入射面具有凸面，供所述激光射出的射出面由平面构成；
[0120]
缩小用第2透镜，相对于所述缩小用第1透镜配置在所述光轴方向下游侧，供所述激光入射的入射面具有凹面，供所述激光射出的射出面由平面构成。
[0121]
根据第8项所述的光源装置，能够以简单的构成将透过所述准直器后的快轴方向的光束直径缩小。
[0122]
(第9项)一方案的投影仪具备第1项～第8项的任一项所述的光源装置。
[0123]
根据第9项所述的投影仪，能够尽可能地装填激光二极管元件，即无间隙地紧密配置激光二极管元件。由此，能够尽可能地缩小激光二极管元件彼此的间隔，能够将各激光二极管元件的激光相对于导光体的入射角抑制得较小。由此，无论各激光二极管元件的位置如何，均使从该激光二极管元件发出的激光变得容易入射至导光体。
[0124]
(第10项)一方案的机械加工装置具备第1项～第8项的任一项所述的光源装置。
[0125]
根据第10项所述的机械加工装置，能够尽可能地装填激光二极管元件，即无间隙地紧密配置激光二极管元件。由此，能够尽可能地缩小激光二极管元件彼此的间隔，能够将各激光二极管元件的激光相对于导光体的入射角抑制得较小。由此，无论各激光二极管元件的位置如何，均使从该激光二极管元件发出的激光变得容易入射至导光体。
[0126]
附图标记说明
[0127]
1 光源装置
[0128]
2 光源
[0129]
21 ld封装
[0130]
22 激光二极管元件(ld元件)
[0131]
23 光电二极管
[0132]
24 封装
[0133]
241 基座
[0134]
242 盖
[0135]
243 罩玻璃
[0136]
244 圆盘状部
[0137]
245 支承部
[0138]
246 贯通孔
[0139]
3 准直器
[0140]
31 透镜
[0141]
311 入射面
[0142]
312 射出面
[0143]
4 放大光学系统
[0144]
41 第1透镜
[0145]
411 入射面
[0146]
412 射出面
[0147]
42 第2透镜
[0148]
421 入射面
[0149]
422 射出面
[0150]
423 凸面
[0151]
5 聚光透镜
[0152]
51 入射面
[0153]
52 射出面
[0154]
6 导光体
[0155]
61 入射面
[0156]
62 射出面
[0157]
7 缩小光学系统
[0158]
71 缩小用第1透镜
[0159]
711 入射面
[0160]
712 射出面
[0161]
713 凸面
[0162]
72 缩小用第2透镜
[0163]
721 入射面
[0164]
722 射出面
[0165]
723 凹面
[0166]
20 半导体激光光源
[0167]
30 准直透镜
[0168]
40 缩小光学系统
[0169]
50 聚光透镜
[0170]
60 光线
[0171]
70 反射镜
[0172]
φd244 外径
[0173]
lb 激光(半导体激光)
[0174]
p1 中心间距离(间距)
[0175]
p2 中心间距离(间距)
[0176]
wα1－1 光束直径
[0177]
wα1－2 光束直径
[0178]
wα1－3 光束直径
[0179]
wα2－1 光束直径
[0180]
wα2－2 光束直径
[0181]
α1 快轴方向
[0182]
α2 慢轴方向
[0183]
θ1 扩散角(发散角)
[0184]
θ2 扩散角(发散角)。