一种抗串扰OLED显示面板结构的制作方法

一种抗串扰oled显示面板结构
技术领域
1.本实用新型涉及oled显示技术领域，尤其涉及一种抗串扰oled显示面板结构。


背景技术：

2.在显示中，尤其是微显示中，随着像素尺寸的减小，像素间的电学串扰越来越严重，当仅需单个子像素发光时，载流子会横向扩散至相邻阳极的间隔处，严重的情况下甚至会导致邻近的子像素发光。载流子扩散到非发光子像素时会影响器件效率，同时相邻子像素串扰影响色准，从而影响产品品质。所以如何对现有的oled显示面板的结构进行处理来改善电学串扰对于显示和微显示很有意义。


技术实现要素：

3.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种抗串扰oled显示面板结构，可实现部分区域发光层和阴极膜层自动断线，减少横向电流的传输路径，改善了电学串扰，解决了电学串扰导致色域低的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：所述抗串扰oled显示面板结构，包括由内而外依次设置的驱动电路层、子像素定义层、发光层、阴极膜层和封装层，所述驱动电路层包括衬底及其上设置的多个阳极，相邻两个阳极之间设置所述子像素定义层和/或断线隔离区，两个子像素定义层之间设置所述断线隔离区。
5.进一步地，多个阳极之间涂布光刻胶层后通过曝光、显影和烘烤工艺处理后形成所述子像素定义层和断线隔离区。
6.进一步地，所述子像素定义层的外表面圆滑过渡，所述发光层和阴极膜层覆盖所述子像素定义层的区域分别设置圆滑过渡区。
7.进一步地，所述断线隔离区的底部蒸镀沉积有有机层，所述阳极的截面设置为倒梯形，所述有机层的截面设置为等腰梯形，所述有机层的厚度小于所述阳极的厚度。
8.进一步地，两个相邻阳极及其上的发光层、阴极膜层和之间的有机发光层围成的上方区域沉积所述封装层。
9.本实用新型的有益效果是：
10.1、本实用新型通过在相邻两个阳极之间设置子像素定义层和/或断线隔离区，两个子像素定义层之间设置断线隔离区，在断线隔离区，发光层和阴极膜层覆盖不完全，可以将横向电流完全隔断，减弱了横向电流导致的串扰；在有子像素定义层的区域，发光层和阴极膜层正常沉积，电流可以正常传输，使发光层正常发光。
11.2、本实用新型在多个阳极之间涂布光刻胶层，然后通过曝光、显影和烘烤工艺处理后形成子像素定义层和断线隔离区，通过传统的制备工艺即将像素定义层设置成各独立的子像素定义层，工艺流程没有增加，工艺复杂程度不变。
12.3、本实用新型通过将阳极设置成截面为倒梯形的底切阳极，由于发光层和阴极膜层覆盖不完全，可使蒸镀发光层时，发光层和阴极膜层在没有子像素定义层的地方断开，实
现了断线隔离区的形成。
13.综上，该抗串扰oled显示面板结构制作工艺简单，实现了部分区域发光层和阴极膜层自动断线，减少了横向电流的传输路径，改善了电学串扰，解决了电学串扰导致色域低的问题。
附图说明
14.下面对本实用新型说明书各幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：
15.图1为本实用新型的结构示意图；
16.图2为本实用新型中子像素定义层一种布置结构的俯视图；
17.图3为本实用新型中子像素定义层另一种布置结构的俯视图；
18.上述图中的标记均为：1.驱动电路层，11.衬底，12.阳极，2.子像素定义层，3.发光层，31.圆滑过渡区，4.阴极膜层，5.封装层，6.断线隔离区，7.有机层。
具体实施方式
19.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
20.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
21.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
22.实施例1：
23.如图1和图2所示，一种抗串扰oled显示面板结构，包括由内而外依次设置的驱动电路层1、子像素定义层2、发光层3、阴极膜层4和封装层5，驱动电路层1包括衬底11及其上设置的多个阳极12，相邻两个阳极12之间设置子像素定义层2或断线隔离区6，两个子像素定义层2之间设置断线隔离区6，在断线隔离区6，发光层3和阴极膜层4覆盖不完全，可以将横向电流完全隔断，减弱了横向电流导致的串扰；在有子像素定义层2的区域，发光层3和阴极膜层4正常沉积，电流可以正常传输，使发光层3正常发光。
24.具体地，其中的多个阳极12之间涂布光刻胶层后通过曝光、显影和烘烤工艺处理后形成子像素定义层2和断线隔离区6，通过传统的制备工艺即将像素定义层设置成各独立的子像素定义层，工艺流程没有增加，工艺复杂程度不变。
25.具体地，其中的子像素定义层2的外表面圆滑过渡，发光层3和阴极膜层4覆盖子像素定义层2的区域分别设置圆滑过渡区31，使发光层3和阴极膜层4蒸镀后结构更稳定，防止了蒸镀后开裂的问题。
26.具体地，其中的断线隔离区6的底部蒸镀沉积有有机层7，有机层7的材料与发光层3的材质相同，有机层7为发光层3时整面蒸镀产生的，阳极12的截面设置为倒梯形，由于发光层3和阴极膜层4覆盖不完全，可使蒸镀发光层3时，发光层3和阴极膜层4在没有子像素定义层2的地方断开，实现了断线隔离区6的形成。
27.具体地，两个相邻阳极12及其上的发光层3、阴极膜层4和之间的有机发光层3围成的上方区域沉积封装层5，起到防水防尘隔离的效果。
28.上述抗串扰oled显示面板结构的制备方法为：首先，制备阳极4：调试阳极4刻蚀工艺，减少刻蚀过程中的侧壁保护，可以调试出截面为倒梯形的底切形貌；然后，使用聚酰亚胺光刻胶涂布形成子像素定义层2和断线隔离区6：在多个阳极12之间涂布光刻胶层后通过部分子像素定义层2曝光、显影液显影，烘烤固化有机胶处理后形成子像素定义层2和断线隔离区6；最后，在两个相邻阳极12及其上的发光层3、阴极膜层4和之间的有机发光层3围成的上方区域沉积封装层5。
29.实施例2：
30.与实施例1不同之处在于，相邻两个阳极12之间设置子像素定义层2和断线隔离区6，子像素定义层2的数量增加，覆盖在阳极12上的覆盖面更大，发光效果更好。
31.综上，该抗串扰oled显示面板结构制作工艺简单，实现了部分区域发光层和阴极膜层自动断线，减少了横向电流的传输路径，改善了电学串扰，解决了电学串扰导致色域低的问题。
32.以上所述，只是用图解说明本实用新型的一些原理，本说明书并非是要将本实用新型局限在所示所述的具体结构和适用范围内，故凡是所有可能被利用的相应修改以及等同物，均属于本实用新型所申请的专利范围。