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采用气动旋转的等离子体处理装置的制作方法

2021-10-24 05:02:00 来源:中国专利 TAG:等离子体 装置 喷头 表面处理 旋转

技术特征:
1.采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,包括具有第一腔室的壳体和中空转轴,壳体上设有连通第一腔室且同轴设置的第一轴孔和第二轴孔,中空转轴定位在第一轴孔和第二轴孔上旋转,中空转轴的外侧设有轴环部,轴环部上设有沿中空转轴的轴线方向呈圆周对称的多个叶片槽,叶片槽内设有活动的叶片,轴环部位于在第一腔室中旋转;壳体上设有连通第一腔室的进气孔与出气孔,在第一腔室中设有套设在轴环部外围的内壳,内壳的内侧壁圆周面与轴环部的外侧壁圆周面呈偏心设置,内壳与轴环部之间形成气流通道,气流通道的两端分别连通进气孔与出气孔;中空转轴的输出端连接套筒,套筒上安装有喷嘴。2.根据权利要求1所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,内壳的内侧壁圆周面大于轴环部外侧壁圆周面,内壳的内侧壁圆周面与轴环部外侧壁圆周面相切接触。3.根据权利要求2所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,内壳侧面的设有第一通孔,其端面设有第一通气槽,第一气孔连通第一通气槽与内壳的侧面,并与壳体的进气孔相通,第一通气槽连通气流通道;内壳还设有贯通侧壁的第二通孔,第二通孔连通气流通道与出气孔。4.根据权利要求1至3任一项所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,壳体包括有上壳、中壳和下壳,上壳和下壳分别安装在中壳的上端面与下端面,进气孔与出气孔设置在中壳上。5.根据权利要求4所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,中壳与内壳为一体结构。6.根据权利要求4所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,上壳设有第一轴孔,在第一轴孔中设有第一轴承,下壳设有第二轴孔,第二轴孔中设有第二轴承,中空转轴安装在第一轴承的内圈中和第二轴承的内圈中。7.根据权利要求4所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,还包括有固定板和轴管,轴管穿过中空转轴并且与中空转轴同轴,轴管的上端连接在固定板上,轴管的下端伸至套筒内,固定板上设有气体进入孔,气体进入孔与轴管相连通。8.根据权利要求7所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,还包括有中心电极,中心电极通过绝缘套和绝缘套筒固定在轴管的下端,高压电线穿过轴管中连接在中心电极上,高压线通过线罩和线缆接头固定在固定板上,在绝缘套筒上设有通气孔。9.根据权利要求8所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,还包括有电刷板和石墨碳棒,电刷板安装在下壳上,石墨碳棒安装在电刷板上并且与套筒电性连接。10.根据权利要求9所述的采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,套筒通过转盘连接在中空转轴上,石墨碳棒与转盘接触电性连接。

技术总结
本实用新型涉及一种采用气动旋转的等离子体处理装置,其特征在于,包括具有第一腔室的壳体和中空转轴,壳体上设有连通第一腔室且同轴设置的第一轴孔和第二轴孔,中空转轴定位在第一轴孔和第二轴孔上旋转,中空转轴的外侧设有轴环部,轴环部上设有沿中空转轴的轴线方向呈圆周对称的多个叶片槽,叶片槽内设有活动的叶片,轴环部位于在第一腔室中旋转;壳体上设有连通第一腔室的进气孔与出气孔,在第一腔室中设有套设在轴环部外围的内壳,内壳的内侧壁圆周面与轴环部的外侧壁圆周面呈偏心设置,内壳与轴环部之间形成气流通道,气流通道的两端分别连通进气孔与出气孔;中空转轴的输出端连接套筒,套筒上安装有喷嘴。通过高压的压缩气体来驱动喷嘴进行旋转。气体来驱动喷嘴进行旋转。气体来驱动喷嘴进行旋转。


技术研发人员:徐江霖
受保护的技术使用者:广东震仪智能装备股份有限公司
技术研发日:2021.01.27
技术公布日:2021/10/23
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