构造成布置在立式炉的反应器内的喷射器以及立式炉的制作方法

技术特征：
1.一种喷射器，构造成布置在立式炉的反应室内，以在反应室中喷射气体，该喷射器是基本细长的，并且构造成具有内部气体传导通道，以将气体从喷射器的第一端部输送到喷射器的第二端部，其中，所述喷射器的外侧壁在其长度的至少10％上朝向喷射器的第二端部逐渐变细。2.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器设置有沿喷射器在细长方向上延伸的一系列开口，以将气体从所述传导通道输送到所述反应室中。3.根据权利要求2所述的喷射器，其中，至少一个所述开口的面积在1和200mm2之间。4.根据权利要求2所述的喷射器，其中，所述一系列开口中的开口之间的距离在从喷射器的第一端部到第二端部时减小。5.根据权利要求4所述的喷射器，其中，所述开口构造成使得气体在基本垂直于喷射器的细长方向的至少两个不同方向上被喷射。6.根据权利要求2所述的喷射器，其中，所述至少一个开口从喷射器的内侧到外侧具有凹入形状。7.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器内侧的内部气体传导通道的内横截面积在100和1500mm2之间。8.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器包括在喷射器的第二端部处的一个单个开口，以将气体输送出所述传导通道到所述反应室中。9.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器由陶瓷制成。10.根据权利要求9所述的喷射器，其中，所述陶瓷选自碳化硅(sic)、氧化硅(siox)、硅或氧化铝(alox)。11.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器包括连接到顶部的底部，其中，所述底部是基本笔直的，并且所述顶部是稍微渐缩的并且终止于所述第二端部。12.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器在第二端部处的横截面积比在第一端部处的横截面积小2％至80％。13.根据权利要求1所述的喷射器，其中，所述喷射器在第二端部处的壁厚度比在第一端部处的壁厚度小2％至50％。14.一种立式炉，包括：处理管，其设置有开口，该开口具有可封闭的门以形成反应室；加热器，其构造成加热处理管的反应室；以及晶片舟皿，其构造成沿竖直方向在反应室中移动基板，其中，根据权利要求1所述的喷射器设置在反应室中，该喷射器在其第一端部支撑在所述开口附近并指向其沿竖直方向延伸到反应室中的细长渐缩第二端部。15.根据权利要求14所述的立式炉，其中，衬套沿所述处理管的内侧表面设置。16.根据权利要求15所述的立式炉，其中，所述衬套在衬套的内侧上设置有用于所述喷射器的隆起产生空间。

技术总结
提供了一种喷射器，其构造成布置在立式炉的反应器内，以在反应器中喷射气体。该喷射器被制成基本细长的，并且构造成具有内部气体传导通道，以将气体从喷射器的第一端部输送到喷射器的第二端部。喷射器的外侧壁可以在喷射器长度的至少10％优选30％且最优选50％上朝向第二端部逐渐变细，以增加用于将喷射器安装在管中的公差。管中的公差。管中的公差。


技术研发人员：C.G.M.德里德
受保护的技术使用者：ASMIP私人控股有限公司
技术研发日：2021.04.14
技术公布日：2021/10/23