一种基于自主建图的路线检测方法、装置以及电子设备与流程

技术特征：
1.一种基于自主建图的路线检测方法，其特征在于，包括：获取待测轨迹点的曲率；获取与所述待测轨迹点相邻的第一轨迹点的曲率；获取与所述待测轨迹点相邻的第二轨迹点的曲率；根据所述待测轨迹点的曲率，所述第一轨迹点的曲率，以及所述第二轨迹点的曲率，计算所述待测轨迹点的得分；判断所述待测轨迹点的得分是否大于预设值；若是，则确定所述待测轨迹点是跳变轨迹点；否则，确定所述待测轨迹点不是跳变轨迹点。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取待测轨迹点的曲率的步骤，进一步包括：拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程；根据所述轨迹方程，获取所述待测轨迹点的曲率。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程的步骤，进一步包括：获取所述待测轨迹点的横纵坐标；获取所述第二轨迹点的横纵坐标；获取所述第一轨迹点的横纵坐标；获取与所述第二轨迹点相邻的第三轨迹点的横纵坐标，其中，所述第三轨迹点远离所述待测轨迹点；根据所述待测轨迹点的横纵坐标、第二轨迹点的横纵坐标、第一轨迹点的横纵坐标和第三轨迹点的横纵坐标，拟合所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线的轨迹方程为：p(t)＝a bt ct2 dt3；其中，所述t为参数，t∈[0，1]；其中，所述a、b、c和d可根据四个约束条件求解；所述四个约束条件包括：t＝0时，p(0)等于所述待测轨迹点的纵坐标；t＝1时，p(1)等于所述第二轨迹点的纵坐标；t＝0时，p
′
(0)等于第二轨迹点的纵坐标与第一轨迹点的纵坐标的差值，再乘以预设参数；t＝1时，p
′
(1)等于第三轨迹点的纵坐标与待测轨迹点的纵坐标的差值，再乘以所述预设参数。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述轨迹方程，获取所述待测轨迹点的曲率的步骤，进一步包括：获取所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的横坐标关于参数t的参数方程x(t)；获取所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的纵坐标关于参数t的参数
方程y(t)；所述待测轨迹点和第二轨迹点所在的曲线上的各个点的曲率公式为：其中，t＝0时，k(0)即为所述待测轨迹点的曲率。6.根据权利要求1
‑
5任意一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述待测轨迹点的曲率，所述第一轨迹点的曲率，以及所述第二轨迹点的曲率，计算所述待测轨迹点的得分的公式为：score
i
＝|k
i
‑
k
i
‑1| |k
i 1
‑
k
i
|；其中，所述score
i
为所述待测轨迹点的得分，所述k
i
为所述待测轨迹点的曲率，所述k
i
‑1为所述第一轨迹点的曲率，所述k
i 1
为所述第二轨迹点的曲率。7.根据权利要求1
‑
5任意一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：标记所述跳变轨迹点。8.一种基于自主建图的路线检测装置，其特征在于，包括：第一获取模块，用于获取待测轨迹点的曲率；第二获取模块，用于获取与所述待测轨迹点相邻的第一轨迹点的曲率；第三获取模块，用于获取与所述待测轨迹点相邻的第二轨迹点的曲率;计算模块，用于根据所述待测轨迹点的曲率，所述第一轨迹点的曲率，以及所述第二轨迹点的曲率，计算所述待测轨迹点的得分；判断模块，用于判断所述待测轨迹点的得分是否大于预设值；第一确定模块，用于若所述待测轨迹点的得分大于所述预设值，则确定所述待测轨迹点是跳变轨迹点；第二确定模块，用于若所述待测轨迹点的得分不大于所述预设值，则确定所述待测轨迹点不是跳变轨迹点。9.一种电子设备，其特征在于，包括：至少一个处理器；以及存储器，所述存储器与所述至少一个处理器通信连接，所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行权利要求1
‑
7中任一项所述的方法。10.一种非易失性计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令，当所述计算机可执行指令被电子设备执行时，使所述电子设备执行权利要求1
‑
7中任一项所述的方法。

技术总结
本发明实施例涉及自动驾驶技术领域，特别是涉及一种基于自主建图的路线检测方法、装置以及电子设备。该方法包括：获取待测轨迹点的曲率；获取与所述待测轨迹点相邻的第一轨迹点的曲率；获取与所述待测轨迹点相邻的第二轨迹点的曲率；根据所述待测轨迹点的曲率，所述第一轨迹点的曲率，以及所述第二轨迹点的曲率，计算所述待测轨迹点的得分；判断所述待测轨迹点的得分是否大于预设值；若是，则确定所述待测轨迹点是跳变轨迹点；否则，确定所述待测轨迹点不是跳变轨迹点，通过所述基于自主建图的路线检测方法，可快速确定待测轨迹点是否为跳变轨迹点，方便后续对待测轨迹点的处理。方便后续对待测轨迹点的处理。方便后续对待测轨迹点的处理。


技术研发人员：唐铭锴 郑林伟 李远航 陈映冰 刘天瑜 王鲁佳 刘明
受保护的技术使用者：深圳一清创新科技有限公司
技术研发日：2021.06.29
技术公布日：2021/10/23