一种电沉积铜箔后处理装置的制作方法

1.本发明涉及铜箔生产设备技术领域，特别是涉及一种电沉积铜箔后处理装置。


背景技术：

2.电解铜箔是覆铜板及印制电路板、锂离子电池制造的重要的材料。在当今电子信息产业高速发展中，电解铜箔被称为电子产品信号与电力传输、沟通的“神经网络”。
3.电解铜箔沉积在阴极辊表面的电解铜箔在随着阴极辊旋转出阳极槽时，其表面会附着有电解区域中的硫酸铜溶液。表面附着有硫酸铜溶液的铜箔必须在2
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3天内进行后续工序的表面处理，否则会在其表面发生严重的氧化，从而使电解铜箔表面出现发黑的现象，这会严重影响耐浸焊指标和抗剥离强度，而且后续的表面处理工序难以去除其表面的氧化层。因此，亟需一种可以对电解铜箔及时处理的电沉积铜箔装置。


技术实现要素：

4.本发明的目的是提供一种电沉积铜箔后处理装置，以解决上述现有技术存在的问题。
5.为实现上述目的，本发明提供了如下方案：本发明提供一种电沉积铜箔后处理装置，包括安装台，安装台上固定设置有电解槽，电解槽底部设置有阳极板，电解槽内轴接有阴极辊，安装台在阴极辊的上方固定连接有安装架，安装架上设置有铜箔清洗机构，铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构，烘干机构的一侧设置有收卷机构。
6.优选的，清洗机构包括第一挤液辊，第一挤液辊与阴极辊上的电解铜箔相接触；第一挤液辊的上方依次设置有第一真空吸附辊、第一毛刷喷水辊、第二真空吸附辊和第二挤液辊，第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第二挤液辊均与阴极辊上的电解铜箔相接触。
7.优选的，清洗机构还包括翻面辊，翻面辊设置在背离第二挤液辊的一侧，翻面辊的上方设置有第二毛刷喷水辊，第二挤液辊的上方设置有第三真空吸附辊。
8.优选的，第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第三真空吸附辊均包括第一辊体，第一辊体的内部设置有真空腔，第一辊体的侧壁上开设有若干个真空孔，安装架上固定设置有三组真空罩，三组真空罩分别套设在第一真空吸附辊、第二真空吸附辊和第三真空吸附辊的外侧，真空罩靠近阴极辊上的电解铜箔的一侧设置有豁口。
9.优选的，第一毛刷喷水辊和第二毛刷喷水辊均包括第二辊体，第二辊体的内部开设有储液腔，第二辊体的侧壁上开设有若干喷液口，喷液口和储液腔相连通；第二辊体的侧壁上固定设置有刷毛。
10.优选的，收卷装置包括收卷辊，收卷辊与安装台转动连接。
11.优选的，烘干机构包括烘干箱体，烘干箱体沿铜箔传送方向的两个端面上开设有进箔口和出箔口，铜箔贯穿烘干箱体并将其分为上下两层，烘干箱体同侧的上下两端面分别开设有进风口和出风口。
12.优选的，烘干箱体内部平行设置有两组滑动板，烘干箱体的顶部固定设置有双向
丝杠，双向丝杠的两侧分别螺纹连接有螺母，两组螺母分别与两组滑动板固定连接；滑动板相对的侧面上均开设有限位槽，铜箔的两侧与限位槽相适配；靠近进风口和出风口的滑动板上连接有与进风口和出风口相对应的进风管和出风管，远离进风口和出风口的滑动板上设置有连通烘干箱体为上下两层的通风道。
13.优选的，烘干箱体的底部固定设置有干燥板，干燥板的顶面上设置有滑轨，滑动板上固定社会自由与滑轨相适配的滑块；干燥板与烘干箱体底板之间设置有干燥剂，干燥板上开设有干燥孔。
14.本发明公开了以下技术效果：本发明通过挤液辊使附着在铜箔表面的硫酸铜溶液重新流入阳极槽，实现了硫酸铜溶液的回收再利用；并且通过多组毛刷喷水辊和真空吸附辊对铜箔上下表面进行清洗，并通过烘干箱体对铜箔上下表面进行烘干，彻底地清除了附着在铜箔表面的硫酸铜溶液，从而有效地抑制了铜箔表面氧化发黑现象的发生，延长了电解铜箔在进行其后续表面处理工序之前的存放时间，同时电解铜箔的质量和使用寿命。
附图说明
15.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
16.图1为本发明电沉积铜箔装置结构示意图；
17.图2为本发明真空吸附辊结构示意图；
18.图3为本发明毛刷喷水辊结构示意图；
19.图4为本发明烘干机构结构示意图。
20.其中，1为安装台，2为安装架，3为电解槽，4为阳极板，5为阴极辊，6为第一挤液辊，7为第一真空吸附辊，8为第一毛刷喷水辊，9为第二真空吸附辊，10为第二挤液辊，11为翻面辊，12为第二毛刷喷水辊，13为第三真空吸附辊，14为真空罩，15为收卷辊，21为烘干箱体，22为滑动板，23为双向丝杠，24为螺母，25为限位槽，26为进风管，27为出风管，28为通风道，29为干燥板，31为第一辊体，32为真空腔，33为真空孔，41为第二辊体，42为储液腔，43为喷液口，44为刷毛。
具体实施方式
21.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
22.为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
23.参照图1
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4，本发明提供一种电沉积铜箔后处理装置，包括安装台1，安装台1上固定设置有电解槽3，电解槽3底部设置有阳极板4，电解槽3内轴接有阴极辊5，包括安装台1在阴极辊5的上方固定连接有安装架2，安装架2上设置有铜箔清洗机构，铜箔清洗机构的一侧
设置有烘干机构，烘干机构的一侧设置有收卷机构。电解过程中阴极辊5上电解沉积上电解铜箔，电解铜箔传送出电解槽后通过清洗机构进行清洗，通过烘干机构进行烘干最后卷积在收卷机构上，电机铜箔生成后即开始清洗并烘干，解决了刚生成的铜箔上附着有硫酸铜溶液的技术问题。收卷装置包括收卷辊15，收卷辊15与安装台1转动连接。
24.进一步优化方案，清洗机构包括第一挤液辊6，第一挤液辊6与阴极辊5上的电解铜箔相接触；第一挤液辊6的上方依次设置有第一真空吸附辊7、第一毛刷喷水辊8、第二真空吸附辊9和第二挤液辊10，第一真空吸附辊7、第二真空吸附辊9和第二挤液辊10均与阴极辊5上的电解铜箔相接触，电解铜箔表面会附着有电解区域中的硫酸铜溶液，由于第一挤液辊6与沉积在阴极辊5上的电解铜箔相接触，所以能够擦下附着在电解铜箔表面的硫酸铜溶液，擦下的硫酸铜溶液沿着沉积在阴极辊5上的电解铜箔流回到电解槽3中。第一毛刷喷水辊8把水喷在电解铜箔表面上，由对铜箔喷水的同时通过毛刷进行刷洗，从而洗掉残留在电解铜箔上表面的硫酸铜溶液，设置在第一毛刷喷水辊8两侧额第一真空吸附辊7、第二真空吸附辊9将附着再电解铜箔上方的水珠吸附走并排除装置，防止清洗液进入电解槽，并通过第二挤液辊10进行二次挤压擦洗，防止电解铜箔的上方的水残存。
25.进一步优化方案，清洗机构还包括翻面辊11，翻面辊11设置在背离第二挤液辊10的一侧，翻面辊11的上方设置有第二毛刷喷水辊12，第二挤液辊10的上方设置有第三真空吸附辊13。通过翻面辊11对电解铜箔进行翻面，并通过第二毛刷喷水辊12和第三真空吸附辊13进行清洗，并将水吸附茹第三真空吸附辊13中排除装置。
26.进一步优化方案，第一真空吸附辊7、第二真空吸附辊9和第三真空吸附辊13均包括第一辊体31，第一辊体31的内部设置有真空腔32，第一辊体31的侧壁上开设有若干个真空孔33，安装架2上固定设置有三组真空罩14，三组真空罩14分别套设在第一真空吸附辊7、第二真空吸附辊9和第三真空吸附辊13的外侧，真空罩14靠近阴极辊5上的电解铜箔的一侧设置有豁口。通过真空罩14将真空吸附辊的其他部位进行密封，真空吸附辊转动过程中只有豁口一侧可以对铜箔表面的清洗液进行吸附。
27.进一步优化方案，第一毛刷喷水辊8和第二毛刷喷水辊12均包括第二辊体41，第二辊体41的内部开设有储液腔42，第二辊体41的侧壁上开设有若干喷液口43，喷液口43和储液腔42相连通；第二辊体41的侧壁上固定设置有刷毛44。毛刷喷水辊的外侧也设置有防水罩，通过防水罩对毛刷喷水辊的喷射方向进行限定，喷水的同时对铜箔表面刷洗。第一挤液辊、第一真空吸附辊、第一毛刷喷水辊、第二真空吸附辊、第二挤液辊、翻面辊、第二毛刷喷水辊和第三真空吸附辊均轴接在安装架上，制备后的电解铜箔直接在阴极辊的上部进行烘干以及除水工作，节省空间。
28.进一步优化方案，烘干机构包括烘干箱体21，烘干箱体21沿铜箔传送方向的两个端面上开设有进箔口和出箔口，铜箔贯穿烘干箱体21并将其分为上下两层，烘干箱体21同侧的上下两端面分别开设有进风口和出风口。通过进风口输入加热后的气体，热气从上方对铜箔进行加热，并将蒸发后的水汽带到下方，铜箔上方的热量传到下方并将其表面的水蒸发成水汽，随同上层的水汽穿出装置，更加节省能量。
29.进一步优化方案，烘干箱体21内部平行设置有两组滑动板22，烘干箱体21的顶部固定设置有双向丝杠23，双向丝杠23的两侧分别螺纹连接有螺母24，两组螺母24分别与两组滑动板22固定连接；滑动板22相对的侧面上均开设有限位槽25，铜箔的两侧与限位槽25
相适配；靠近进风口和出风口的滑动板22上连接有与进风口和出风口相对应的进风管26和出风管27，远离进风口和出风口的滑动板22上设置有连通烘干箱体21为上下两层的通风道28，通过双向丝杠23调节两组滑动板22之间的距离，从而适应不同宽度的电解铜箔，从而防止整个烘干箱体内充满热气，节省能耗。
30.进一步优化方案，烘干箱体21的底部固定设置有干燥板29，干燥板29的顶面上设置有滑轨，滑动板22上固定社会自由与滑轨相适配的滑块；干燥板29与烘干箱体21底板之间设置有干燥剂，干燥板29上开设有干燥孔，通过干燥剂挺好烘干效率。
31.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
32.以上所述的实施例仅是对本发明的优选方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本发明的技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。