稳流镀银装置的制作方法

1.本实用新型涉及电镀技术领域，具体而言，尤其涉及一种稳流镀银装置。


背景技术：

2.电镀时的表面状况和加工要求，选择其中适当的几个步骤，对零件表面进行必要的修整加工，使零件具有平整光洁的表面，这是能否获得优质镀层的重要环节，镀前处理工艺中，所用的主要设备有磨、抛光机、刷光机、喷砂机、滚光机和各类固定槽，电镀处理是整个生产过程中的主要工艺，根据零件的要求，有针对性选择某一种或几种单金属或合金电镀工艺对零件进行电镀或浸镀等加工，以达到防蚀、耐磨和美观的目的。
3.目前在电镀过程中，由于气泡的产生以及局部扩散不均匀的影响，通常会使镀层不均匀，影响电镀时的效果。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足，提供一种稳流镀银装置。
5.本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：
6.一种稳流镀银装置，包括基座，所述基座上开设有容置槽，所述容置槽内固设有对称设置的挡板，所述挡板的外侧均设有一缓存板，所述缓存板将所述挡板与基座之间的空间划分成可相互连通的储液腔和缓存腔，所述储液腔与开设在所述基座底部的开口连通；所述挡板的内侧设有用以容置银块的容置组件，所述容置组件与缓存腔连通。
7.优选的，所述缓存板的长度等于所述容置槽的长度，所述缓存板的高度小于所述容置槽的高度。
8.优选的，所述挡板上卡设有容置药液流通的贯穿孔。
9.优选的，所述储液腔内固设有一组缓冲板，所述缓冲板的高度小于所述缓存板的高度。
10.优选的，所述容置组件包括固设在所述挡板上的防盗钛篮，所述防盗钛篮内设有银块。
11.优选的，所述基座的两端还设有溢流口，所述溢流口上设有与其相适配的挡块，所述基座上设有可自转地丝杆，所述丝杆的一端与所述挡块固接，另一端固设有可调手柄。
12.本实用新型的有益效果主要体现在：药液从开口进行储液腔后，再缓慢流入缓存腔内，可最大程度上降低流动速度和药液之间的撞击，减小气泡的产生，使电镀更加均匀。同时，溢流口的高度可调整，实现容置槽内的药液精准控制。
附图说明
13.下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：
14.图1：本实用新型优选实施例的立体图；
15.图2：本实用新型优选实施例的俯视图；
16.图3：本实用新型优选实施例的剖视图。
具体实施方式
17.以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限于本实用新型，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
18.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
19.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
20.下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
21.如图1至图3所示，本实用新型揭示了一种稳流镀银装置，包括基座1，所述基座1上开设有容置槽11，所述容置槽11内固设有对称设置的挡板12，所述挡板12上卡设有容置药液流通的贯穿孔。所述挡板12的内侧设有用以容置银块的容置组件2，所述容置组件2包括固设在所述挡板12上的防盗钛篮21，所述防盗钛篮21内设有银块。
22.所述挡板12的外侧均设有一缓存板13，所述缓存板13的长度等于所述容置槽11的长度，所述缓存板13的高度小于所述容置槽11的高度。所述缓存板13将所述挡板12与基座1之间的空间划分成可相互连通的储液腔14和缓存腔15，所述储液腔14与开设在所述基座1底部的开口16连通；所述容置组件2与缓存腔15连通。上述中，药液从开口进行储液腔后，再缓慢流入缓存腔内，可最大程度上降低流动速度和药液之间的撞击，减小气泡的产生，使电镀更加均匀。同时，溢流口的高度可调整，实现容置槽内的药液精准控制。
23.本优选实施例中，所述储液腔14内固设有一组缓冲板20，所述缓冲板20的高度小于所述缓存板13的高度，所述缓冲板20可进一步降低流动速度和药液之间的撞击，减小气泡的产生，使电镀更加均匀。
24.进一步的，所述基座1的两端设有溢流口，所述溢流口上设有与其相适配的挡块17，所述基座1上设有可自转地丝杆18，所述丝杆18的一端与所述挡块17固接，另一端固设有可调手柄19。通过转动可调手柄可调节溢流口的高度，实现容置槽内的药液精准控制。另外，所述基座1的两端还设有用以输送端子带的输送转辊，所述输送转辊不属于本实用新型的设计要点，因此，在此不做过多赘述。
25.应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一
个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
26.上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.稳流镀银装置，包括基座（1），其特征在于：所述基座（1）上开设有容置槽（11），所述容置槽（11）内固设有对称设置的挡板（12），所述挡板（12）的外侧均设有一缓存板（13），所述缓存板（13）将所述挡板（12）与基座（1）之间的空间划分成可相互连通的储液腔（14）和缓存腔（15），所述储液腔（14）与开设在所述基座（1）底部的开口（16）连通；所述挡板（12）的内侧设有用以容置银块的容置组件（2），所述容置组件（2）与缓存腔（15）连通。2.根据权利要求1所述的稳流镀银装置，其特征在于：所述缓存板（13）的长度等于所述容置槽（11）的长度，所述缓存板（13）的高度小于所述容置槽（11）的高度。3.根据权利要求1所述的稳流镀银装置，其特征在于：所述挡板（12）上卡设有容置药液流通的贯穿孔。4.根据权利要求1所述的稳流镀银装置，其特征在于：所述储液腔（14）内固设有一组缓冲板（20），所述缓冲板（20）的高度小于所述缓存板（13）的高度。5.根据权利要求1所述的稳流镀银装置，其特征在于：所述容置组件（2）包括固设在所述挡板（12）上的防盗钛篮（21），所述防盗钛篮（21）内设有银块。6.根据权利要求1所述的稳流镀银装置，其特征在于：所述基座（1）的两端还设有溢流口，所述溢流口上设有与其相适配的挡块（17），所述基座（1）上设有可自转地丝杆（18），所述丝杆（18）的一端与所述挡块（17）固接，另一端固设有可调手柄（19）。

技术总结
本实用新型揭示了一种稳流镀银装置，包括基座，所述基座上开设有容置槽，所述容置槽内固设有对称设置的挡板，所述挡板的外侧均设有一缓存板，所述缓存板将所述挡板与基座之间的空间划分成可相互连通的储液腔和缓存腔，所述储液腔与开设在所述基座底部的开口连通；所述挡板的内侧设有用以容置银块的容置组件，所述容置组件与缓存腔连通。本实用新型的有益效果主要体现在：药液从开口进行储液腔后，再缓慢流入缓存腔内，可最大程度上降低流动速度和药液之间的撞击，减小气泡的产生，使电镀更加均匀。同时，溢流口的高度可调整，实现容置槽内的药液精准控制。药液精准控制。药液精准控制。


技术研发人员：王伏志
受保护的技术使用者：苏州市山川机械设备有限公司
技术研发日：2020.12.11
技术公布日：2021/9/7