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一种静配中心专用的药框清洗装置的制作方法

2021-10-24 11:08:00 来源:中国专利 TAG:清洗 装置 专用 中心

技术特征:
1.一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,包括内侧壁设置有清洗器的水槽和设置于所述水槽上方的空腔;所述空腔包括分别与所述水槽相连通的左空腔和右空腔,所述左空腔和所述右空腔分别通过抽风管道与设置于所述空腔外部的抽风装置相连通,所述抽风装置的输出端连通有过滤装置,所述左空腔连通有加热鼓风装置。2.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述左空腔的左侧设置有向下翻开的第一门,所述第一门倾斜设置。3.根据权利要求2所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述第一门的底端连通有排水槽。4.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述右空腔的右侧设置有上下抽拉的第二门。5.根据权利要求4所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述第二门为玻璃门。6.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,靠近所述水槽顶端的侧壁上开设有溢流孔。7.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述水槽的侧壁上设置有水循环管路。8.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述水槽的侧壁和底壁上设置有滑轨。9.根据权利要求1所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,靠近所述水槽上部设置有注水口,所述水槽的底部开设有出水口。10.根据权利要求1

9中任一项所述的一种静配中心专用的药框清洗装置,其特征在于,所述清洗器为超声波发生器。

技术总结
本发明提供了一种静配中心专用的药框清洗装置,属于清洗装置技术领域。该静配中心专用的药框清洗装置,包括底部设置有清洗器的水槽、超声波发生器和设置于水槽上方的空腔;空腔包括分别与水槽相连通的左空腔和右空腔,左空腔和右空腔分别通过抽风管道与设置于空腔外部的抽风装置相连通,抽风装置的输出端连通有过滤装置,左空腔连通有加热鼓风装置。本发明提供的静配中心专用的药框清洗装置,能将放污框的入口与清洁框出口分开,能够增强操作人员防护,提高操作人员的安全性,同时避免污染环境。环境。环境。


技术研发人员:方翎 张浴玲 高分飞
受保护的技术使用者:汕头大学医学院
技术研发日:2021.09.02
技术公布日:2021/10/23
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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