技术特征:
1.一种粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,包括:中心烧嘴和至少一对工艺烧嘴;其中,
各所述工艺烧嘴于所述中心烧嘴的外周呈圆周布置,并且,每对所述工艺烧嘴中的两个工艺烧嘴均沿所述中心烧嘴的径向分别设置在所述中心烧嘴的两侧;
各所述工艺烧嘴中至少一对为水煤浆烧嘴,各所述工艺烧嘴中除水煤浆烧嘴外的其他烧嘴中至少一对或所述中心烧嘴为粉煤烧嘴;或,所述中心烧嘴为水煤浆烧嘴,各所述工艺烧嘴中均为粉煤烧嘴。
2.根据权利要求1所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
相邻两个所述工艺烧嘴之间设有冷却机构,用以对所述工艺喷嘴进行冷却。
3.根据权利要求2所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,所述冷却机构包括:
冷却水回水通道,沿所述中心烧嘴的外周设置,形成绕设在所述中心烧嘴外周的环形回水通道结构;
冷却水上水通道,沿所述冷却水回水通道的外周设置,形成绕设在所述冷却水回水通道外周的环形上水通道结构,并且,各所述工艺喷嘴均设置在所述环形上水通道结构内,所述冷却水上水通道与所述冷却水回水通道相连通,以通过所述冷却水上水通道内通入的冷却水对所述工艺喷嘴进行冷却,并流经所述冷却水回水通道回水;
冷却水通道隔板,设置在所述冷却水上水通道和所述冷却水回水通道之间,用以对所述冷却水上水通道和所述冷却水回水通道进行分割。
4.根据权利要求1所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
所述工艺烧嘴通过连接件限位至所述中心烧嘴和所述工艺烧嘴外周设置的燃烧器外壳之间,并且,所述连接件包括:连接柄和设置在所述连接柄端部的连接托。
5.根据权利要求1至4任一项所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
至少一对所述工艺烧嘴为粉煤烧嘴,其出口端设有外斜式结构;
所述外斜式结构的外斜面与所述粉煤烧嘴的轴向之间的外斜角α满足5°≤α≤35。
6.根据权利要求6所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
所述粉煤烧嘴为单通道结构,所述单通道结构的外斜式结构的外斜拐点与所述粉煤烧嘴2的烧嘴出口处之间的第一距离l1满足10mm≤l1≤200mm;或,
所述粉煤烧嘴为双通道结构,内通道为粉煤通道,套设在内通道外部的外通道为氧气通道,并且,所述双通道结构的外斜式结构的外斜拐点与所述粉煤烧嘴的烧嘴出口之间的第二距离l2满足5mm≤l2≤50mm。
7.根据权利要求1至4任一项所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
至少一对所述工艺烧嘴为水煤浆烧嘴,所述水煤浆烧嘴呈内斜式设置;
所述水煤浆烧嘴的中心线与所述燃烧器的横截面之间的夹角为内斜角β,其满足75°≤β<90;
所述水煤浆烧嘴为三通道预膜式结构,从内到外依次为中心氧通道、水煤浆通道、外环氧通道,所述中心氧通道的出口至所述工艺烧嘴中的水煤浆烧嘴的烧嘴出口之间的氧出口距离x和所述水煤浆通道的出口至所述工艺烧嘴中的水煤浆烧嘴的烧嘴出口之间的煤浆出口距离y之间的关系满足1mm≤2y≤x≤5mm。
8.根据权利要求1至4任一项所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
所述中心烧嘴为点火预热烧嘴,其为内外套设的两通道结构,内侧通道为燃料气通道,外侧通道为氧气通道,所述燃料气通道内部设有移动式点火棒;
所述工艺烧嘴包括:至少一对水煤浆烧嘴和至少一对粉煤烧嘴;其中,
所述水煤浆烧嘴和所述粉煤烧嘴间隔布置,并且,所述水煤浆烧嘴呈内斜式设置部分;
所述粉煤烧嘴的内侧外壁的底端与所述粉煤烧嘴的烧嘴出口之间的距离为第三距离利用l3=d×cosβ计算;其中,d为水煤浆烧嘴的出口直径;β为水煤浆烧嘴的中心线与所述燃烧器的横截面之间的夹角。
9.根据权利要求1至4任一项所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
所述中心烧嘴为粉煤烧嘴,其四周设置的工艺烧嘴均为呈内斜式设置的水煤浆烧嘴;
所述粉煤烧嘴为双通道结构,从内到外依次为中心氧气通道和粉煤通道,并且,所述粉煤通道的出口部呈外八型结构,其外夹角γ呈锐角且满足15°≤γ≤90°。
10.根据权利要求1至4任一项所述的粉浆耦合气化燃烧器,其特征在于,
所述中心烧嘴为水煤浆烧嘴,所述水煤浆烧嘴为三通道预膜式结构,从内到外依次为中心氧通道、水煤浆通道、外环氧通道;
所述中心烧嘴四周设置的工艺烧嘴均为粉煤烧烧嘴。
技术总结
本发明提供了一种粉浆耦合气化燃烧器,该燃烧器包括:中心烧嘴和至少一对工艺烧嘴;其中,各工艺烧嘴于中心烧嘴的外周呈圆周布置,每对工艺烧嘴中的两个工艺烧嘴均沿中心烧嘴的径向分别设置在中心烧嘴的两侧;各工艺烧嘴中至少一对为水煤浆烧嘴,各工艺烧嘴中除水煤浆烧嘴外的其他烧嘴中至少一对或中心烧嘴为粉煤烧嘴;或,中心烧嘴为水煤浆烧嘴,各工艺烧嘴均为粉煤烧嘴。本发明通过中心烧嘴和环绕在中心烧嘴四周的工艺烧嘴,将粉煤和水煤浆两种物料单独输送,可避免环套式结构粉煤通道与水煤浆通道距离过近,影响雾化、分散效应,多烧嘴组成的燃烧器还可根据进料、进料量和粉浆配比的不同需求,选择部分烧嘴进料,选择投料烧嘴的数量。
技术研发人员:付伟贤;李晓丽
受保护的技术使用者:新奥科技发展有限公司
技术研发日:2021.05.27
技术公布日:2021.08.13
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。