一种胶体磨上料装置的制作方法

1.本技术涉及研磨设备的领域，尤其是涉及一种胶体磨上料装置。


背景技术：

2.胶体磨是由料斗、动磨片、静磨片、出料口、电机等部分组成，其作用原理是由电机带动动磨片(或称为转子)与相配的静磨片(或称为定子)作相对的高速旋转，其中动磨片高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部施加产生向下的作用力，透过动磨片、静磨片之间的间隙时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动、高速旋涡等物理作用，使物料被有效地乳化、分散、均质和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
3.专利申请号为cn201821789978.0的中国实用新型专利公开了一种胶体磨，包括底座和通过电机座设在底座上的电机；磨座，其为中空圆筒状，磨座通过端盖设在电机的顶部；在磨座设有定齿、与定齿配合的转齿和用于调节定齿位置的调节套，其中，转齿设在电机的输出轴上并和电机的输出轴驱动连接，调节套设有刻度盘；盖盘，设在磨座的顶部，在盖盘的中部设有进料口；料斗，设在盖盘的上方，料斗的底部出口处通过抱箍构件连接于盖盘的进料口；其中，电机座内设有减震板，减震板在减震板高度方向上依次设有上减震板、减震橡胶垫和下减震板。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为胶体磨上料过程中，由于胶体浓度较大，容易发生堵塞，影响使用效果。


技术实现要素：

5.为了减少胶体磨进料处发生堵塞的可能性，本技术提供一种胶体磨上料装置。
6.本技术提供的一种胶体磨上料装置采用如下的技术方案：
7.一种胶体磨上料装置，包括进料斗以及防堵机构，所述进料斗与胶体磨本体连接相通，所述防堵机构包括清理板以及驱动组件，所述清理板与盖盘相抵接，驱动组件与所述清理板连接，用于驱动所述清理板相对于盖盘移动。
8.通过采用上述技术方案，将需要研磨的液体经过进料斗加入胶体磨内，由于液体浓度较高，长期使用液体中的悬浊物会发生沉降，从而堆积在盖盘表面影响液体流入胶体磨中的速度，此时通过控制驱动组件带动清理板相对于盖盘移动，从而对盖盘表面进行清理，防止胶体磨堵塞，提高胶体磨的使用效率。
9.可选的，驱动组件包括控制杆以及支撑杆，所述控制杆与所述清理板垂直且固定连接，所述支撑杆与所述进料斗固定连接，所述控制杆与所述支撑杆垂直且转动连接。
10.通过采用上述技术方案，驱动组件通过设置控制杆与清理板连接，进料斗固定连接支撑杆，支撑杆用于与控制杆转动连接，从而通过转动控制杆带动清理板转动，对盖盘进行清理，从而实现对胶体磨的防堵。
11.可选的，所述支撑杆包括螺纹连接的内管与外管，所述内管与所述支撑杆转动连接，所述外管与所述清理板连接。
12.通过采用上述技术方案，支撑杆设置为螺纹连接的内管与外管，从而通过内管与外管的相对转动，实现内管与外管相对位置的改变，也即改变支撑杆的长度，从而适应不同规格的进料斗；外管与清理板连接，也即外管设置于进料斗靠近胶体磨的一侧，从而可以减少需要研磨的液体进入内管与外管之间的缝隙的可能性。
13.可选的，所述外管与所述清理板螺纹连接。
14.通过采用上述技术方案，外管与清理板之间螺纹连接，实现清理板与外管之间的可拆卸连接，从而便于更换清理板，便于对清理板进行清理，以及便于更换不同尺寸的清理板。
15.可选的，所述进料斗远离胶体磨的一侧连接有防溅挡板，所述防溅挡板开设有供控制杆穿过的通孔。
16.通过采用上述技术方案，液体从进料斗中进入胶体磨的过程中会发生溅洒，进料斗连接的防溅挡板，可以对使用过程中溅洒的液体进行遮挡，还可以对外界的灰尘进行遮挡。
17.可选的，所述防溅挡板包括铰接轴、第一挡板以及第二挡板，所述第一挡板与所述第二挡板通过所述铰接轴铰接，所述铰接轴与所述控制杆平行且与所述进料斗固定连接。
18.通过采用上述技术方案，防溅挡板设置为通过铰接轴连接的第一挡板与第二挡板，第一挡板与第二挡板配合拼接，便于防溅挡板随时开启及关闭。
19.可选的，所述防溅挡板靠近所述进料斗内部的一侧连接有海绵垫。
20.通过采用上述技术方案，海绵垫的设置可以吸收溅洒出的液体，并对溅洒出的液体进行吸收，减少溅洒在防溅挡板上的液体滴落导致胶体磨内液体的污染。
21.可选的，所述进料斗连接有与其内部连通的溢流管。
22.通过采用上述技术方案，溢流管的设置可以便于进料斗的溢流，便于控制进料斗内的液面高度。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.1.通过控制驱动组件带动清理板相对于盖盘移动，从而对盖盘表面进行清理，防止胶体磨堵塞，提高胶体磨的使用效率；
25.2.支撑杆设置为螺纹连接的内管与外管，从而通过内管与外管的相对转动，改变支撑杆的长度，从而适应不同规格的进料斗，同时外管与清理板连接，也即外管设置于进料斗靠近胶体磨的一侧，从而可以减少需要研磨的液体进入内管与外管之间的缝隙的可能性；
26.3.液体从进料斗中进入胶体磨的过程中会发生溅洒，进料斗连接的防溅挡板，可以对使用过程中溅洒的液体进行遮挡，还可以对外界的灰尘进行遮挡。
附图说明
27.图1是本技术实施例的一种胶体磨上料装置的整体结构示意图。
28.图2是本技术实施例的一种胶体磨上料装置的剖面图。
29.附图标记说明：1、进料斗；2、防堵机构；21、清理板；22、支撑杆；23、控制杆；231、内管；232、外管；24、驱动电机；3、防溅挡板；31、铰接轴；32、第一挡板；33、第二挡板；34、海绵垫；4、溢流管；5、胶体磨本体；6、盖盘；7、冷却机构；8、出料管。
具体实施方式
30.以下结合附图1
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2对本技术作进一步详细说明。
31.参照图1，胶体磨包括胶体磨本体5和通过电机座安装在底座上的电机，电机顶部通过端盖安装有磨座，磨座设置为中空圆筒状，磨座的顶部设置有盖盘6，在盖盘6的中部设有进料口。上料装置通过抱箍构件安装在盖盘6的上方，料斗的底部出口处与盖盘6的进料口连通。
32.本技术实施例公开一种胶体磨上料装置。参照图1，胶体磨上料装置包括进料斗1，进料斗1内部安装有防堵机构2，进料斗1远离胶磨机本体的开口端安装有防溅挡板3。
33.参照图2，防堵机构2包括通过螺栓可拆卸固定安装在进料斗1开口位置的支撑杆22，支撑杆22转动连接有位于进料斗1内部的控制杆23，控制杆23与支撑杆22垂直，且控制杆23包括同轴设置的内管231与外管232。外管232中空设置，内管231放置于外管232内部且与内管231螺纹连接。本实施例中内管231与支撑杆22转动连接，外管232通过螺栓连接有清理板21，清理板21与盖盘6中部的进料口内壁相抵接。为了防止盖盘6中部的进料口位置发生堵塞，支撑杆22上安装有驱动电机24，驱动电机24的壳体与支撑杆22通过螺栓连接，驱动电机24的输出轴穿过支撑杆22与内管231同轴连接，通过驱动电机24的输出轴转动带动清理板21以控制杆23为轴进行转动，对盖盘6中部的进料口进行清理。
34.参照图2，防溅挡板3包括通过铰接轴31转动连接的第一挡板32与第二挡板33，铰接轴31与控制杆23平行且与进料斗1外壁焊接，第一挡板32及第二挡板33从支撑杆22所在位置分割实现拼接，同时第一挡板32及第二挡板33上均开设有供支撑杆22穿过的通孔。为了减少溅洒在第一挡板32及第二挡板33上的液体滴落至胶体磨内导致二次污染，第一挡板32及第二挡板33靠近进料斗1内部的一侧粘接有海绵垫34，用于吸附溅洒液体，成本较低且便于更换。进料斗1靠近防溅挡板3的一端连接有与其内部连通的溢流管4。
35.本技术实施例一种胶体磨上料装置的实施原理为：通过控制第一挡板32及第二挡板33绕铰接轴31转动，实现进料斗1的开启；控制内管231与外管232相对转动，根据进料斗1尺寸调整控制杆23的整体长度，并将清理板21与控制杆23螺纹连接；将支撑杆22通过螺栓可拆卸安装在进料斗1侧壁，并将控制杆23及清理板21放入进料斗1内。使用时向进料斗1内注入液体，进入胶体磨内进行研磨。当进料斗1与盖盘6之间发生堵塞时，通过驱动电机24输出轴转动带动控制杆23及清理板21转动，对盖盘6中部的进料口进行清理，实现进料斗1的防堵操作。
36.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。