研磨剂组合物的制作方法

技术特征：
1.一种研磨剂组合物，其特征在于，用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，所述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水，所述水溶性高分子化合物为至少将具有羧酸基的单体和具有磺酸基的单体作为必要单体的共聚物，源自所述具有羧酸基的单体的结构单元与源自所述具有磺酸基的单体的结构单元的摩尔比为95：5～5：95的范围，所述水溶性高分子化合物的重均分子量为1000～5000000。2.根据权利要求1所述的研磨剂组合物，其中，所述二氧化硅颗粒包含：平均粒径10～60nm的小粒径二氧化硅颗粒和平均粒径70～200nm的大粒径二氧化硅颗粒，所述小粒径二氧化硅颗粒的质量相对于所述小粒径二氧化硅颗粒和所述大粒径二氧化硅颗粒的总计质量的比例为50～95质量％。3.根据权利要求1或2所述的研磨剂组合物，其中，所述具有羧酸基的单体选自丙烯酸或其盐、以及甲基丙烯酸或其盐。4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨剂组合物，其中，所述具有磺酸基的单体选自异戊二烯磺酸、2
‑
丙烯酰胺基
‑2‑
甲基丙磺酸、2
‑
甲基丙烯酰胺基
‑2‑
甲基丙磺酸、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、异戊烯磺酸和它们的盐。5.根据权利要求1～4中任一项所述的研磨剂组合物，其中，所述研磨剂组合物还含有选自无机酸和/或其盐、有机酸和/或其盐、以及碱性化合物中的至少一种。6.根据权利要求5所述的研磨剂组合物，其中，所述有机酸和/或其盐为螯合性化合物。

技术总结
本发明提供研磨剂组合物，其在氧化物单晶材料基板的研磨中，能够抑制研磨时的载体鸣音，并且实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物，其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工，上述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水，水溶性高分子化合物为至少将具有羧酸基的单体和具有磺酸基的单体作为必要单体的共聚物，源自具有羧酸基的单体的结构单元与源自具有磺酸基的单体的单元的摩尔比为95：5～5：95的范围，水溶性高分子化合物的重均分子量为1000～5000000。物的重均分子量为1000～5000000。


技术研发人员：川原彰裕 内藤健治
受保护的技术使用者：山口精研工业株式会社
技术研发日：2021.03.25
技术公布日：2021/10/11