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合成树脂涂布组合物以及利用其的合成树脂基材制造方法与流程

2021-08-13 19:36:00 来源:中国专利 TAG:组合 合成树脂 基材 涂布 利用

技术特征:

1.一种合成树脂涂布组合物,其特征在于,包含:

倍半硅氧烷高分子,包含下述化学式1以及化学式2的重复单元;以及

溶剂,

[化学式1]

[化学式2]

在上述化学式1以及化学式2中,

r1各自独立地为氢、氘、卤素、胺基、环氧基、环己基环氧基、(甲基)丙烯酰基、羟基、硫醇基、异氰酸酯基、腈基、硝基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为1至40的烷氧基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基、碳原子数为3至40的芳氧基或碳原子数为3至40的芳基硫醇基,

r2各自独立地为氢、氘、卤素、异氰酸酯基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基或碳原子数为2至40的环氧基,

n以及m各自独立地为1至100000的整数,n/m为0.1至10。

2.一种合成树脂涂布组合物,其特征在于,包含:

倍半硅氧烷高分子,包含下述化学式1以及化学式2的重复单元;

合成树脂;以及

溶剂,

[化学式1]

[化学式2]

在上述化学式1以及化学式2中,

r1各自独立地为氢、氘、卤素、胺基、环氧基、环己基环氧基、(甲基)丙烯酰基、羟基、硫醇基、异氰酸酯基、腈基、硝基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为1至40的烷氧基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基、碳原子数为3至40的芳氧基或碳原子数为3至40的芳基硫醇基,

r2各自独立地为氢、氘、卤素、异氰酸酯基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基或碳原子数为2至40的环氧基,

n以及m各自独立地为1至100000的整数,n/m为0.1至10。

3.根据权利要求1或2所述的合成树脂涂布组合物,其特征在于:

上述倍半硅氧烷高分子包含下述化学式3的高分子,

[化学式3]

在上述化学式3中,对r1、r2、n以及m的定义与上述化学式1以及化学式2相同。

4.根据权利要求2所述的合成树脂涂布组合物,其特征在于:

上述合成树脂包含有机类高分子。

5.根据权利要求2所述的合成树脂涂布组合物,其特征在于:

上述合成树脂与倍半硅氧烷高分子以1:9至9:1的重量比进行混合。

6.一种合成树脂基材,其特征在于,包含:

倍半硅氧烷高分子,包含下述化学式1以及化学式2的重复单元;以及

合成树脂,

[化学式1]

[化学式2]

在上述化学式1以及化学式2中,

r1各自独立地为氢、氘、卤素、胺基、环氧基、环己基环氧基、(甲基)丙烯酰基、羟基、硫醇基、异氰酸酯基、腈基、硝基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为1至40的烷氧基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基、碳原子数为3至40的芳氧基或碳原子数为3至40的芳基硫醇基,

r2各自独立地为氢、氘、卤素、异氰酸酯基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基或碳原子数为2至40的环氧基,

n以及m各自独立地为1至100000的整数,n/m为0.1至10。

7.根据权利要求6所述的合成树脂基材,其特征在于:

上述倍半硅氧烷高分子包含下述化学式3的高分子,

[化学式3]

在上述化学式3中,对r1、r2、n以及m的定义与上述化学式1以及化学式2相同。

8.根据权利要求6所述的合成树脂基材,其特征在于:

上述合成树脂包含有机类高分子。

9.根据权利要求6所述的合成树脂基材,其特征在于:

上述合成树脂与倍半硅氧烷高分子以1:9至9:1的重量比进行混合。

10.根据权利要求6所述的合成树脂基材,其特征在于:

在上述合成树脂基材的上部还包括氟类涂布层。

11.一种合成树脂基材,其特征在于,包括:

合成树脂基板;以及

在上述合成树脂基板的一侧面以上形成的合成树脂涂布组合物固化的涂布层,上述合成树脂涂布组合物包含倍半硅氧烷高分子以及溶剂或包含倍半硅氧烷高分子、合成树脂以及溶剂,其中,上述倍半硅氧烷高分子包含下述化学式1以及化学式2的重复单元,

[化学式1]

[化学式2]

在上述化学式1以及化学式2中,

r1各自独立地为氢、氘、卤素、胺基、环氧基、环己基环氧基、(甲基)丙烯酰基、羟基、硫醇基、异氰酸酯基、腈基、硝基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为1至40的烷氧基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基、碳原子数为3至40的芳氧基或碳原子数为3至40的芳基硫醇基,

r2各自独立地为氢、氘、卤素、异氰酸酯基、碳原子数为1至40的烷基、碳原子数为2至40的烯基、碳原子数为3至40的环烷基、碳原子数为3至40的杂环烷基、碳原子数为6至40的芳基、碳原子数为3至40的杂芳基、碳原子数为3至40的芳烷基或碳原子数为2至40的环氧基,

n以及m各自独立地为1至100000的整数,n/m为0.1至10。

12.根据权利要求11所述的合成树脂基材,其特征在于:

在上述合成树脂基材的上部还包括氟类涂布层。


技术总结
本发明公开一种可以给在科学、工业领域使用的合成树脂赋予亲水化特性的合成树脂涂布组合物以及利用上述涂布组合物的合成树脂基材制造方法。此外,本发明提供一种合成树脂涂布组合物,包含倍半硅氧烷高分子以及溶剂,上述倍半硅氧烷高分子包含上述说明书中所记载的化学式1以及化学式2的重复单元。

技术研发人员:南东缜;吴星渊;林海谅;刘炫硕;金永模;崔胜皙;申圭淳
受保护的技术使用者:株式会社东进世美肯
技术研发日:2019.12.30
技术公布日:2021.08.13
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