dmd曝光机误差量测装置
技术领域
1.本实用新型与黄光微影制程有关，尤指一种dmd曝光机误差量测装置。
背景技术：
2.在集成电路的制造过程中，芯片具有复数个接点，而晶圆底材设有对应接点数量的接孔，将芯片“黏晶”在底材上后，接着进行曝光，即可在各接点处形成电路。然而将芯片结合在底材上后，有时会因操作误差而发生偏离标准位置的情形，例如图3a所示的平移偏离及图3b所示的旋转偏离，或者出现如图3c所示的高低倾斜或翘曲等态样，导致曝光形成的电路未正确连接到芯片上，或光线的焦点不能精准地打在芯片上，而使所成形电路的线宽扩大，在越小的芯片上则更显现其影响产品质量的严重性。
3.传统的脱机量测设备在量测完成后将信息回馈至曝光机，因芯片翘曲的形状不同，仍无法有效补正解决芯片偏移的问题。
4.有鉴于此，如何改进上述问题即为本实用新型所欲解决的首要课题。
技术实现要素：
5.为了克服上述现有技术的不足，本实用新型主要目的在于提供一种dmd曝光机误差量测装置，其将误差量测作业与曝光作业整合在同一平台上，具有提高曝光机控制精度的功效。
6.为达上述目的，本实用新型提供一种dmd曝光机误差量测装置，其包括有：
7.一工作平台，其设有一轨道，该轨道上设有一用以移动晶圆的载台；
8.一设在该轨道上方的量测模组，用以量测该晶圆上晶粒的偏移量；
9.一设在该轨道上方的dmd曝光机，用以对晶圆曝光；
10.一运算模组，其与该量测模组及该dmd曝光机电性连接，用以接收该量测模组所测得的信息，并借此控制该dmd曝光机调整曝光参数。
11.较佳地，所述量测模组所量测包括有晶粒在高度方向上的平移偏移量。
12.较佳地，所述量测模组所量测包括有晶粒在水平方向上的平移偏移量。
13.较佳地，所述量测模组所量测包括有晶粒在水平方向上的旋转偏移量。
14.本实用新型的有益效果在于：
15.本实用新型提供了一种dmd曝光机误差量测装置，其将误差量测作业与曝光作业整合在同一平台上。量测模组及dmd曝光机电性连接一运算模组，用以接收量测模组所测得的信息，并借此控制dmd曝光机调整曝光参数，使光线随着偏移的晶圆实时变化焦距，令光线总是聚焦在晶圆上，进而提高曝光的精度。
附图说明
16.图1为本实用新型的立体示意图；
17.图2为本实用新型的使用状态示意图；
18.图3a、3b、3c为不良芯片在底材上偏离标准位置的示意图。
19.附图标记
20.1：工作平台；2：载台；3：量测模组；4：dmd曝光机；11：轨道。
具体实施方式
21.本实用新型上述目的与优点，不难从以下所选用实施例详细说明与附图中获得深入了解。
22.请参阅图1、图2所示，为本实用新型提供的dmd曝光机误差量测装置，其包括有一工作平台1，上面设有一直线轨道11，该轨道11上设有一可滑移的载台2，用以承载晶圆并载运其移动。
23.承上，该轨道11一端的上方设有一量测模组3，当该载台2载运晶圆到该量测模组3的下方时，该量测模组3可对该晶圆进行晶粒偏移量的测量。上述该量测模组3所量测的信息包括有晶粒在水平方向上的平移偏移量、晶粒在水平方向上的旋转偏移量以及晶粒在高度方向上的平移偏移量。该量测模组3是采用影像捕获设备拍摄晶圆的影像，经与标准档案比对分析后即可获知晶粒在水平方向上的平移偏移量及旋转偏移量。又该量测模组3采用激光扫描晶圆，接收反射光并解析其反射角度即可获知晶粒在高度方向上的平移偏移量。
24.该轨道11另一端的上方设有一用以对晶圆曝光的dmd曝光机4(digital micromirror device)，其设有多数个构成数组的微反射镜，通过调整个别微反射镜的角度而成形曝光图案。
25.再者，本实用新型通过一运算模组电性连接该量测模组3及该dmd曝光机4，该运算模组接收该量测模组3所测得的信息，进而借此控制该dmd曝光机4调整曝光参数，以使光线总是聚焦在晶圆上。
26.通过上述结构，将晶圆设置在载台2上并使其沿该轨道11移动，当晶圆经过该量测模组3的下方时，晶圆的晶粒在水平方向上的平移偏移量、水平方向上的旋转偏移量以及高度方向上的平移偏移量将自动被该量测模组3测得，接着当晶圆继续经过该dmd曝光机4的下方时，该运算模组依上述量测信息控制该dmd曝光机4调整曝光参数，即可使光线随着偏移的晶圆实时变化焦距，令光线总是聚焦在晶圆上，进而提高曝光的精度。
27.以上实施例所示仅用以说明本实用新型，并非用以限制本实用新型，举凡等效组件的置换仍应隶属本实用新型的范畴。
28.综上所述，可使熟知本领域技术者明了本实用新型确可达成前述目的，符合专利法规定，依法提出申请。
技术特征：
1.一种dmd曝光机误差量测装置，其特征在于，包括有：一工作平台，其设有一轨道，该轨道上设有一用以移动晶圆的载台；一设在该轨道上方的量测模组，用以量测该晶圆上晶粒的偏移量；一设在该轨道上方的dmd曝光机，用以对晶圆曝光；一运算模组，其与该量测模组及该dmd曝光机电性连接，用以接收该量测模组所测得的信息，并借此控制该dmd曝光机调整曝光参数。2.如权利要求1所述的dmd曝光机误差量测装置，其特征在于，所述量测模组所量测包括有晶粒在高度方向上的平移偏移量。3.如权利要求1所述的dmd曝光机误差量测装置，其特征在于，所述量测模组所量测包括有晶粒在水平方向上的平移偏移量。4.如权利要求1所述的dmd曝光机误差量测装置，其特征在于，所述量测模组所量测包括有晶粒在水平方向上的旋转偏移量。
技术总结
一种DMD曝光机误差量测装置，包括有一工作平台，其设有一轨道，此轨道上设有一用以移动晶圆的载台。轨道上方设有一量测模组，用以量测晶圆上晶粒的偏移量。轨道上方设有一DMD曝光机，用以对晶圆曝光。上述量测模组及DMD曝光机电性连接一运算模组，其用以接收量测模组所测得的信息，并借此控制DMD曝光机调整曝光参数，据此提升晶圆曝光的精度。据此提升晶圆曝光的精度。据此提升晶圆曝光的精度。
技术研发人员：刘大有 简志桦 赖建华 陈世勋
受保护的技术使用者：刘大有
技术研发日：2021.03.17
技术公布日：2021/10/8
再多了解一些
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