用于快速量测恢复的精确真空窗视口和表膜相关申请的交叉引用2.本技术要求于2020年7月1日提交的题为“precise vacuum window viewports and pellicles for rapid metrology recovery”的美国申请no.63/046,984的优先权,该美国申请的全部内容通过引用被并入本文中。技术领域3.本公开涉及用于极紫外(euv)辐射系统的量测系统和窗口。
用于快速量测恢复的精确真空窗视口和表膜相关申请的交叉引用2.本技术要求于2020年7月1日提交的题为“precise vacuum window viewports and pellicles for rapid metrology recovery”的美国申请no.63/046,984的优先权,该美国申请的全部内容通过引用被并入本文中。技术领域3.本公开涉及用于极紫外(euv)辐射系统的量测系统和窗口。
用于快速量测恢复的精确真空窗视口和表膜相关申请的交叉引用2.本技术要求于2020年7月1日提交的题为“precise vacuum window viewports and pellicles for rapid metrology recovery”的美国申请no.63/046,984的优先权,该美国申请的全部内容通过引用被并入本文中。技术领域3.本公开涉及用于极紫外(euv)辐射系统的量测系统和窗口。
量测辐射系统中的高压和真空水平传感器相关申请的交叉引用2.本技术要求于2020年5月29日提交的题为“量测辐射系统中的高压和真空水平传感器(high pressure and vacuum level sensor in metrology radiation systems)”的美国申请号63/032,187的优先权,其全部内容通过引用并入本文。技术领域3.本公开涉及用于在光刻过程中使用的极紫外(euv)辐射系统内输送源材料以制造半导体器件的供给机构。