显影方法及显影装置与流程

技术特征：
1.一种显影方法，其特征在于，包括：在控制显影液喷洒装置对第n个晶圆完成喷涂阶段之后，控制显影液喷洒装置运动至起始位置等待一预设时间，再运动至喷涂工位，以对第n 1个晶圆完成所述喷涂阶段；其中n为正整数。2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于，在所述喷涂阶段中，所述显影液喷洒装置对一所述晶圆进行1次以上喷涂，对每个所述晶圆完成所述喷涂阶段之后，控制所述显影液喷洒装置运动至起始位置等待一预设时间。3.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于，所述显影液喷洒装置对每个所述晶圆进行2次喷涂。4.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于，利用机械臂对所述显影液喷洒装置的位置进行调整。5.一种电子设备，其特征在于，存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，使得所述处理器执行如权利要求1至4中任一项所述的显影方法。6.一种显影装置，其特征在于，包括：如权利要求1所述的电子设备。7.如权利要求6所述的显影装置，其特征在于，所述显影装置还包括：机械臂；以及，显影液喷洒装置，设置于所述机械臂的自由端。8.如权利要求7所述的显影装置，其特征在于，所述显影液喷洒装置，包括喷嘴和与喷嘴连接的用于输送显影液的管路。9.如权利要求6所述的显影装置，其特征在于，所述显影装置还包括：承载台，用于承载晶圆；清洗单元，用于对所述晶圆进行清洗；以及，旋转单元，用于使所述晶圆旋转。10.一种可读存储介质，其特征在于，所述可读存储介质内存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1
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4中任一项所述的方法步骤。

技术总结
本发明公开显影方法及显影装置，所述显影方法，包括：在控制显影液喷洒装置对第n个晶圆完成喷涂阶段之后，控制显影液喷洒装置运动至起始位置等待一预设时间，再运动至喷涂工位，以对第n 1个晶圆完成所述喷涂阶段；其中n为正整数。利用本发明的方法，能有效地解决晶圆表面缺陷的问题。面缺陷的问题。面缺陷的问题。


技术研发人员：秦利鹏 郑海昌 王晓龙
受保护的技术使用者：上海华力微电子有限公司
技术研发日：2021.07.29
技术公布日：2021/9/28