光刻机三点自动找平机构的制作方法

1.本实用新型主要涉及半导体生产领域，尤其涉及光刻机三点自动找平机构。


背景技术：

2.晶圆在生产曝光过程中，采用的是非接触式曝光，这样可以保证上mask和晶圆各处的间隙一样，做出来的晶圆才没有问题。在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价最高的一部分，也是限制最小线宽的瓶颈之一。在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为光掩膜(mask)，其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。


技术实现要素：

3.针对现有技术的上述缺陷，本实用新型提供光刻机三点自动找平机构，包括上固定板1和浮动板2，所述浮动板2固定上mask，所述上固定板1与浮动板2之间设有调平结构3，所述调平结构3设有多个，所述调平结构3包括导向柱301，所述导向柱301的两端分别连接固定在上固定板1和浮动板2上，所述导向柱301的一端固定在浮动板2上，所述导向柱301的一端通过精密导套303固定连接在上固定板1上，所述导向柱301上套设有弹簧304，所述弹簧304设置在上固定板1和浮动板2之间。
4.优选的，所述调平结构3设有三个，三个调平结构3均匀设置形成正三角结构。
5.优选的，所述导向柱301的一端通过调心轴承305固定在浮动板 2上。
6.优选的，所述调心轴承305上设有保护套306，所述保护套306 设置在调心轴承305上。
7.优选的，所述弹簧304的两端分别设置衬套307，所述衬套分别与精密导套303和保护套306连接。
8.本实用新型的有益效果：
9.调平机构采用调心轴承、精密导柱、直线导套、弹簧、调整块，自动找平，保证上mask和晶圆各处的间隙一样，结构简单实用，成本低，更加稳定。
附图说明
10.图1为本实用新型的结构图；
11.图2为本实用新型的仰视图；
12.图3为本实用新型的俯视图；
13.图4为图3的c
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c的剖面图。
具体实施方式
14.为了使本技术领域人员更好地理解本发明的技术方案，并使本发明的上述特征、目的以及优点更加清晰易懂，下面结合实施例对本发明做进一步的说明。实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
15.如图1
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2所示可知，本实用新型包括有：
16.光刻机三点自动找平机构，包括上固定板1和浮动板2，所述浮动板2固定上mask，所述上固定板1与浮动板2之间设有调平结构3，所述调平结构3设有多个，所述调平结构3包括导向柱301，所述导向柱301的两端分别连接固定在上固定板1和浮动板2上，所述导向柱301的一端固定在浮动板2上，所述导向柱301的一端通过精密导套303固定连接在上固定板1上，所述导向柱301上套设有弹簧304，所述弹簧304设置在上固定板1和浮动板2之间。
17.在本实施中优选的，所述调平结构3设有三个，三个调平结构3 均匀设置形成正三角结构。
18.设置上述结构，此三点设置，节省材料的同时稳定性也很高。
19.在本实施中优选的，所述导向柱301的一端通过调心轴承305固定在浮动板2上。
20.设置上述结构导向柱301可以在浮动板2内旋转，减少导向柱 301在活动的时候与浮动板2的磨损。
21.在本实施中优选的，所述调心轴承305上设有保护套306，所述保护套306设置在调心轴承305上。
22.在本实施中优选的，所述弹簧304的两端分别设置衬套307，所述衬套分别与精密导套303和保护套306连接。
23.设置上述结构，减少弹簧304与两端结构的磨损。
24.由于浮动板2的下方设置晶圆，晶圆放到下mask上后，精度确认好后，浮动板2下降到设定的高度，这时晶圆和浮动板2留有很小的间隙，浮动板2整体向下微动一下，哪个角上先接触弹簧304就会受力自动往上移动，使其3个点会达成上mask和晶圆同样的间隙。调心轴承自动调整，不会影响另外2个点受力的，垂直升降采用精密导柱和导套，保证升降精度，3点间隙自动调整完成后进行下一步曝光动作。本结构采用3点确定一个面的，调平机构采用调心轴承、精密导柱、直线导套、弹簧、调整块，保证上mask和晶圆各处的间隙一样，简单实用，成本低，更加稳定。
25.上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效，而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本专利请的权利要求所涵盖。


技术特征：
1.光刻机三点自动找平机构，其特征在于，包括上固定板(1)和浮动板(2)，所述浮动板(2)固定上mask，所述上固定板(1)与浮动板(2)之间设有调平结构(3)，所述调平结构(3)设有多个，所述调平结构(3)包括导向柱(301)，所述导向柱(301)的两端分别连接固定在上固定板(1)和浮动板(2)上，所述导向柱(301)的一端固定在浮动板(2)上，所述导向柱(301)的一端通过精密导套(303)固定连接在上固定板(1)上，所述导向柱(301)上套设有弹簧(304)，所述弹簧(304)设置在上固定板(1)和浮动板(2)之间。2.根据权利要求1所述的光刻机三点自动找平机构，其特征在于：所述调平结构(3)设有三个，三个调平结构(3)均匀设置形成正三角结构。3.根据权利要求2所述的光刻机三点自动找平机构，其特征在于：所述导向柱(301)的一端通过调心轴承(305)固定在浮动板(2)上。4.根据权利要求3所述的光刻机三点自动找平机构，其特征在于：所述调心轴承(305)上设有保护套(306)，所述保护套(306)设置在调心轴承(305)上。5.根据权利要求4所述的光刻机三点自动找平机构，其特征在于：所述弹簧(304)的两端分别设置衬套(307)，所述衬套分别与精密导套(303)和保护套(306)连接。

技术总结
本实用新型提供光刻机三点自动找平机构，包括上固定板和浮动板，所述浮动板固定上mask，所述上固定板与浮动板之间设有调平结构，所述调平结构设有多个，所述调平结构包括导向柱，所述导向柱的两端分别连接固定在上固定板和浮动板上，所述导向柱的一端固定在浮动板上，所述导向柱的一端通过精密导套固定连接在上固定板上，所述导向柱上套设有弹簧，所述弹簧设置在上固定板和浮动板之间，调平机构采用调心轴承、精密导柱、直线导套、弹簧、调整块，自动找平，保证上mask和晶圆各处的间隙一样，结构简单实用，成本低，更加稳定。更加稳定。更加稳定。


技术研发人员：石利
受保护的技术使用者：无锡旭电科技有限公司
技术研发日：2020.12.16
技术公布日：2021/9/24