流体压力波动抑制装置及光刻设备的制作方法

技术特征：
1.一种流体压力波动抑制装置，其特征在于，设置于光刻设备，所述流体压力波动抑制装置包括减压元件(100)和增压稳压模块(200)，其中，所述减压元件(100)用于连接在水冷机(300)的出口端与所述光刻设备的承片台(400)之间，所述减压元件(100)被配置为使所述水冷机(300)的出口端的压力保持在第一设定值；所述增压稳压模块(200)包括增压元件(210)，所述增压元件(210)的入口端与所述承片台(400)连接，所述增压元件(210)的出口端与所述水冷机(300)的入口端连接，所述增压元件(210)被配置为使流回所述水冷机(300)的流体压力保持在第二设定值。2.根据权利要求1所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括第一管路(220)，所述第一管路(220)与所述增压元件(210)并联设置，所述第一管路(220)设置有第一单向阀(221)，所述第一单向阀(221)被配置为使所述第一管路(220)自所述承片台(400)向所述水冷机(300)的入口端单向导通。3.根据权利要求2所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括第二管路(230)，所述第二管路(230)与所述增压元件(210)并联设置，所述第二管路(230)设置有第二单向阀(231)，所述第二单向阀(231)被配置为使所述第二管路(230)自所述水冷机(300)的入口端向所述承片台(400)单向导通。4.根据权利要求3所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括入口分流元件，所述入口分流元件包括用于与所述承片台(400)连接的主入口，以及多个分流出口，多个所述分流出口被配置为分别与所述第一管路(220)、所述增压元件(210)的入口端以及所述第二管路(230)连接。5.根据权利要求4所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述入口分流元件包括入口分流块(240)，所述入口分流块(240)内设置有入口主流道和与所述入口主流道连通的多个入口分支流道，所述入口主流道与所述承片台(400)连接，多个所述入口分支流道分别与所述第一管路(220)、所述增压元件(210)的入口端以及所述第二管路(230) 连接。6.根据权利要求3所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压稳压模块(200)还包括出口分流元件，所述出口分流元件包括多个分流入口以及用于与所述水冷机(300)连接的主出口，多个所述分流入口被配置为分别与所述第一管路(220)、所述增压元件(210)的出口端以及所述第二管路(230)连接。7.根据权利要求6所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述出口分流元件包括出口分流块(250)，所述出口分流块(250)内设置有出口主流道和与所述出口主流道连通的多个出口分支流道，多个所述出口分支流道分别与所述第一管路(220)、所述增压元件(210)的出口端以及所述第二管路(230)连接，所述出口主流道与所述水冷机(300)连接。8.根据权利要求3
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7任一项所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述第一管路(220)为软管，和/或，所述第二管路(230)为软管。9.根据权利要求1
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7任一项所述的流体压力波动抑制装置，其特征在于，所述增压元件(210)为齿轮泵。10.一种光刻设备，其特征在于，包括权利要求1
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9任一项所述的流体压力波动抑制装置。

技术总结
本实用新型提供了一种流体压力波动抑制装置及光刻设备，涉及半导体加工领域，为解决现有光刻设备存在因水流不稳定而影响工作精度的问题而设计。该流体压力波动抑制装置包括减压元件和增压稳压模块，减压元件用于连接在水冷机的出口端与光刻设备的承片台之间，减压元件被配置为使水冷机的出口端的压力保持在第一设定值；增压稳压模块包括增压元件，增压元件的入口端与承片台连接，增压元件的出口端与水冷机的入口端连接，增压元件被配置为使流回水冷机的流体压力保持在第二设定值。该光刻设备包括上述流体压力波动抑制装置。本实用新型提供的流体压力波动抑制装置及光刻设备抑制了流体的波动，从而提高了光刻设备的工作精度。度。度。


技术研发人员：张利 周二虎 曹红波
受保护的技术使用者：杭州天睿精密科技有限公司
技术研发日：2020.12.04
技术公布日：2021/9/21