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显示模组及其制备方法、显示装置与流程

2021-09-22 17:12:00 来源:中国专利 TAG:显示 模组 制备方法 装置 特别

技术特征:
1.一种显示模组,其特征在于,包括显示面板和设置于所述显示面板出光侧的偏光片,所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板、以及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层,所述偏光片设置于所述第二基板远离所述第一基板一侧;所述显示模组包括显示区和与所述显示区相邻的非显示区,所述非显示区包括位于所述显示区一侧的台阶子区;其中,所述第一基板包括位于所述台阶子区内的绑定段,所述偏光片包括延伸至所述台阶子区内的延伸段,所述延伸段一侧设置有黑色遮挡层,所述黑色遮挡层在所述第一基板上的正投影至少覆盖所述绑定段。2.如权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述黑色遮挡层位于所述偏光片延伸段靠近所述第一基板的一侧。3.如权利要求2所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括位于所述黑色遮挡层和所述绑定段之间的填充层;其中,所述黑色遮挡层在垂直于所述显示面板方向上的正投影至少覆盖所述填充层在垂直于所述显示面板方向上的正投影。4.如权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述填充层靠近所述第二基板一侧的侧边与所述黑色遮挡层靠近所述第二基板一侧的侧边平齐,所述填充层远离所述第二基板一侧的侧边与所述黑色遮挡层远离所述第二基板一侧的侧边平齐。5.如权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括设置于述第一基板和所述第二基板之间的黑色矩阵,所述黑色矩阵位于所述非显示区,所述黑色矩阵包括靠近所述台阶子区的黑色挡墙;其中,所述黑色遮挡层在所述第一基板上的正投影与所述黑色挡墙在所述第一基板上的正投影相邻,且间距等于0。6.如权利要求5所述的显示模组,其特征在于,所述黑色遮挡层包括向所述显示区延伸且位于所述黑色挡墙上方的黑色遮挡子层,所述黑色挡墙在所述第二基板上的正投影覆盖所述黑色遮挡子层在所述第二基板上的正投影。7.如权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述显示模组还包括绑定于所述绑定段上的覆晶薄膜;其中,所述黑色遮挡层在垂直于所述显示面板方向上的正投影覆盖所述覆晶薄膜和所述绑定段在垂直于所述显示面板方向上的正投影。8.如权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述黑色遮挡层位于所述延伸段远离所述第一基板的一侧。9.一种显示模组的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:提供一显示面板,所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板、以及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层,所述显示模组包括显示区和与所述显示区相邻的非显示区,所述非显示区包括位于所述显示区一侧的台阶子区,所述第一基板包括位于所述台阶子区内的绑定段;提供一偏光片,所述偏光片包括一延伸段,在所述延伸段一侧形成黑色遮挡层;在所述显示面板的出光侧粘附所述偏光片,所述偏光片设置于所述第二基板远离所述第一基板一侧,其中,所述黑色遮挡层在所述第一基板上的正投影至少覆盖所述绑定段。
10.如权利要求9所述的显示模组的制备方法,其特征在于,所述提供一偏光片,所述偏光片包括一延伸段,在所述延伸段一侧形成黑色遮挡层的步骤包括:提供偏光膜片,所述偏光膜片包括偏光片和形成于所述偏光片上的离型膜,所述偏光片包括一延伸段;裁切所述离型膜形成与所述延伸段相对应的离型子膜;去除所述离型子膜,在所述延伸段上形成所述黑色遮挡层。11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1

8中任一权利要求所述的显示模组。

技术总结
本申请公开了一种显示模组及其制备方法、显示装置。所述显示模组包括显示面板和设置于所述显示面板出光侧的偏光片,所述显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板、以及设置于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层,所述偏光片设置于所述第二基板远离所述第一基板一侧;所述显示模组包括显示区和与所述显示区相邻的非显示区,所述非显示区包括位于所述显示区一侧的台阶子区;其中,所述第一基板包括位于所述台阶子区内的绑定段,所述偏光片包括延伸至所述台阶子区内的延伸段,所述延伸段一侧设置有黑色遮挡层,所述黑色遮挡层在所述第一基板上的正投影至少覆盖所述绑定段。第一基板上的正投影至少覆盖所述绑定段。第一基板上的正投影至少覆盖所述绑定段。


技术研发人员:邹广南
受保护的技术使用者:TCL华星光电技术有限公司
技术研发日:2021.06.08
技术公布日:2021/9/21
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