一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉的制作方法

1.本实用新型涉及气相沉积炉技术领域，具体为一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉。


背景技术：

2.气相沉积炉为沉积炉主体内有加热室，水冷电极，测温热电偶，是处理工件的核心部分，化学气相沉积炉是利用化学气相沉积的原理，将参与化学反应的物质，加热到一定工艺温度，在真空泵抽气系统产生的引力作用下，引至沉积室进行反应、沉积，生成新的固态物质，为了得到工艺要求的沉积厚度，此沉积过程一般需连续工作20天左右，为了更好的制备出高质量的产品，沉积过程不仅要求在非常洁净的环境下进行，如果沉积室内有粉末存在会影响沉积效果，且要求沉积过程连续正常进行。
3.现有的技术存在以下技术问题：
4.1、现有的气相沉积炉，由于炉体的尺寸变大，气流的流动路径变长，气体进入到炉体的内部后，接近进气口的从而反应的就比较充分，但是炉体中间部位的产品不能有效反应。
5.2、现有的气相沉积炉，大多只是采用简单的单管进气，不能使气体均匀的覆盖炉体内部的产品，从而使产品不能充分反应的问题。


技术实现要素：

6.(一)解决的技术问题
7.针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，具备能够使炉体所有产品有效的反应以及能够均匀覆盖颅内的产品等优点，解决了现有的技术中远离进气口的产品不能有效反应以及气体不能均匀覆盖产品的问题。
8.(二)技术方案
9.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，包括炉体，所述炉体的底部固定连接有下固定圈，所述下固定圈的一侧固定连接有下连接管，炉体顶部的上固定圈的侧部固定连接有固定螺丝，所述固定螺丝的内侧固定连接有盖板，所述盖板的一侧固定连接有上连接管，所述上连接管的侧部固定连接有固定圈，所述固定圈的内侧固定连接有气塞，所述气塞的一侧固定连接有位于盖板顶端的炉盖，所述炉盖的一侧固定连接有位于上连接管一端的出气管，所述出气管的侧部开设有出气孔，所述出气孔的一侧设置有位于出气管两端的固定接口，所述固定接口的一侧设置有位于炉盖侧部的卡接片，所述卡接片的一侧固定连接有位于盖板顶端的侧部固定钮，所述固定钮的侧部活动连接有卡接环。
10.优选的，所述炉体的顶部固定连接的上固定圈和炉体底部固定连接的下固定圈的大小相同，且侧部固定连接有固定螺丝。
11.优选的，所述出气管的两端均固定连接有固定接口，且固定接口的表面设有螺旋
纹，所述下连接管和上连接管的一端的内侧设有螺旋纹，所述出气管的两端通过固定连接的固定接口分别固定连接在下连接管和上连接管的一端的内侧。
12.优选的，所述下连接管和上连接管的一端固定连接有固定圈，所述固定圈的内侧设有螺旋纹，所述固定圈内侧固定连接的气塞的一端设有螺旋纹，所述气塞的另一端设有防滑纹。
13.优选的，所述炉盖的侧部固定连接有卡接片，所述盖板的顶部的侧部固定连接有固定钮，所述固定钮的位置与卡接片的位置相同，且固定钮侧部活动连接的卡接环卡接在卡接片的侧部。
14.优选的，所述下连接管、上连接管和出气管的侧部的相对应位置均开设有出气孔。
15.与现有技术相比，本实用新型提供了一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，具备以下有益效果：
16.1、该半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，通过在炉体顶部固定连接的上固定圈一侧固定连接的盖板一侧固定连接的上连接管一端固定连接有出气管，出气管的另一端固定连接在炉体底端固定连接的下固定圈一侧固定连接的盖板一侧固定连接的下连接管的一端，通过在上连接管、出气管和下连接管侧部开设有出气孔，通过将气塞一端固定连接在上连接管的一端固定连接的固定圈的内侧，再通过将气体从下连接管的一端放入，再通过储气罐侧部开设的出气孔将气体有效的分布，使产品都能够有效的反应。
17.2、该半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，通过同时将气体从上连接管和下连接管的一端放入，当两端的气体向中间进行挤压时，气体会通过出气孔喷出，从而增加气体的渗透力，使炉内部的产品能够均匀的反应。
附图说明
18.图1为本实用新型整体结构示意图；
19.图2为本实用新型内部结构示意图；
20.图3为本实用新型上连接管结构示意图；
21.图4为本实用新型出气管结构示意图；
22.图5为本实用新型图1a处结构示意图。
23.其中：1、炉体；2、下固定圈；3、下连接管；4、上固定圈；5、固定螺丝；6、盖板；7、上连接管；8、固定圈；9、气塞；10、炉盖；11、出气管； 12、出气孔；13、固定接口；14、卡接片；15、固定钮；16、卡接环。
具体实施方式
24.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
25.请参阅图1
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4，一种半导体用带有两端进气的化学气相沉积炉，包括炉体 1，炉体1的底部固定连接有下固定圈2，下固定圈2的一侧固定连接有下连接管3，炉体1顶部的上固定圈4的侧部固定连接有固定螺丝5，炉体1的顶部固定连接的上固定圈4和炉体1底部固定
连接的下固定圈2的大小相同，且侧部固定连接有固定螺丝5，固定螺丝5的内侧固定连接有盖板6，盖板6 的一侧固定连接有上连接管7，上连接管7的侧部固定连接有固定圈8，固定圈8的内侧固定连接有气塞9，下连接管3和上连接管7的一端固定连接有固定圈8，固定圈8的内侧设有螺旋纹，固定圈8内侧固定连接的气塞9的一端设有螺旋纹，气塞9的另一端设有防滑纹，气塞9的一侧固定连接有位于盖板6顶端的炉盖10，炉盖10的一侧固定连接有位于上连接管7一端的出气管 11，出气管11的侧部开设有出气孔12，下连接管3、上连接管7和出气管11 的侧部的相对应位置均开设有出气孔12，出气孔12的一侧设置有位于出气管 11两端的固定接口13，出气管11的两端均固定连接有固定接口13，且固定接口13的表面设有螺旋纹，下连接管3和
26.上连接管7的一端的内侧设有螺旋纹，出气管11的两端通过固定连接的固定接口13分别固定连接在下连接管3和上连接管7的一端的内侧，固定接口13的一侧设置有位于炉盖10侧部的卡接片14，卡接片14的一侧固定连接有位于盖板6顶端的侧部固定钮15，炉盖10的侧部固定连接有卡接片14，盖板6的顶部的侧部固定连接有固定钮15，固定钮15的位置与卡接片14的位置相同，且固定钮15侧部活动连接的卡接环16卡接在卡接片14的侧部，固定钮15的侧部活动连接有卡接环16。
27.在使用时，首先通过将盖板6顶部的侧部固定连接的固定钮15侧部固定连接的卡接环16卡接在炉盖10通过侧部固定连接的卡接片14的侧部，再通过将出气管11的一端固定连接的固定接口13固定连接在上连接管7的一端的内侧，再通过将出气管11的另一端固定连接在下连接管3的一端，通过将气体管分别连接在上连接管7和下连接管3的一端固定连接的固定圈8的内侧即可。
28.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。