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一种反射微透镜阵列成像装置及制造方法与流程

2021-09-17 23:20:00 来源:中国专利 TAG:成像 透镜 阵列 反射 装置

技术特征:
1.一种反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,包括:一层微结构阵列(11)、一层透明薄膜(12)、一层第二微透镜阵列(13)和一层反射材料体(14);所述微结构阵列(11)包括第一微透镜阵列11或微图形阵列;所述第二微透镜阵列(13)由多个子透镜排布而成;所述第一微透镜阵列11由多个子透镜排布而成,且该排布方式与第二微透镜阵列(13)中的子透镜的排布方式相同;所述微图形阵列由多个子图形排布而成,且该排布方式与第二微透镜阵列(13)中的子透镜的排布方式相同。2.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述第二微透镜阵列(13)中的多个子透镜的排布方式包括六边形排布、正方形排布和圆形排布中的任一种;所述第一微透镜阵列11的多个子透镜的排布方式采用随机排布时,第二微透镜阵列(13)和微结构阵列(11)的坐标具有映射关系。3.根据权利要求2所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述多个小透镜的直径在20um

150um之间。4.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述多个子图形的周期在50um

200um之间。5.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述透明薄膜(12)的厚度在10um

150um之间,且其材料包括pe、pet、pc、pmma中的任一种。6.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,第二微透镜阵列(13)的子透镜为抛物面,且子透镜的矢高在5um

60um之间之间。7.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述反射材料体(14)包括金、银、铝和反射介质中的任一种。8.根据权利要求1~7任一所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述微结构阵列(11)与第二微透镜阵列(13)以一个角度进行叠加,这个角度的范围在0.1
‑5°
之间。9.根据权利要求1所述的反射微透镜阵列成像装置,其特征在于,所述微结构阵列(11)与第二微透镜阵列(13)的间距等于第二微透镜阵列(13)的微透镜焦距减去透镜的矢高;所述透明薄膜(12)的厚度等于第二微透镜阵列(13)的微透镜焦距减去透镜的矢高。10.一种权利要求1~9任一所述反射微透镜阵列成像装置的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:所述第二微透镜阵列(13)采用模压的方式进行制备;所述反射材料体(14)通过沉积、蒸镀制备于第二微透镜阵列(13)的表面。

技术总结
本发明公开了一种反射微透镜阵列成像装置及制造方法,包括一层微结构阵列、一层透明薄膜、一层第二微透镜阵列和一层反射材料体;微结构阵列包括第一微透镜阵列或微图形阵列;第二微透镜阵列由多个子透镜排布而成;第一微透镜阵列由多个子透镜排布而成,且该排布方式与第二微透镜阵列中的子透镜的排布方式相同;微图形阵列由多个子图形排布而成,且该排布方式与第二微透镜阵列中的子透镜的排布方式相同等;本发明实现了图像的裸眼动态显示,可以实现更加轻薄的系统结构,实现了对微透镜的保护,较少磨损,延长装置使用寿命,降低了制造成本。本。本。


技术研发人员:谢志梅 王德麾 姜世平 董小春 钟勇
受保护的技术使用者:四川芯辰光微纳科技有限公司
技术研发日:2021.06.11
技术公布日:2021/9/16
再多了解一些

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