一种镀铜溶液测量补充装置的制作方法

本申请涉及电镀铜技术的领域，尤其是涉及一种镀铜溶液测量补充装置。

背景技术：

凹印版辊的外表面有一层铜，这种铜层是凹印版辊电子雕刻的基体。现有技术的铜层是采用电镀实现的，方法是在镀铜之前先镀一层镍，目的是稳定牢固镀铜层。然后再电镀铜层。目前采用的硫酸铜电镀工艺中要用到硫酸，添加剂等许多化工材料。

针对上述中的相关技术，存在有以下缺陷：电镀铜时，硫酸铜溶液会有消耗，为了保证电镀工作正常进行，需要工人不断向容器内添加溶液，工作过程耗时耗力。

技术实现要素：

为了使添加溶液的过程更加方便快捷，本申请提供一种镀铜溶液测量补充装置。

本申请提供的一种镀铜溶液测量补充装置采用如下的技术方案：

一种镀铜溶液测量补充装置，包括电镀池，所述电镀池上的外壁上设置有储料桶，所述电镀池与储料桶之间通过进料管连通，所述进料管的进料口位于电镀池的侧壁上，所述电镀池的内壁沿竖直方向固设有导杆，所述导杆上沿自身长度方向滑动设置有用于开闭进料口的塞块，所述塞块上设置有浮在溶液上的浮块。

通过采用上述技术方案，当电镀池内的镀铜溶液被消耗时，浮块与塞块下降，将进料口打开，储料桶内的溶液进入电镀池内；电镀池内的液面上升，浮块上升带动塞块将进料口堵塞后，进料口停止进料，从而实现了自动上料的的效果，无需工人手动添加，使添加溶液的过程更加方便快捷。

优选的，所述电镀池位于进料口的周向的侧壁上设置有密封圈，所述塞块朝向进料口一侧开设有与密封圈适配的凹槽。

通过采用上述技术方案，插块上升过程中，塞块将进料口堵塞，进料口周围的密封圈卡入凹槽内，有效提高进料口关闭时的密封性。

优选的，所述密封圈的表面设置有滑动层。

通过采用上述技术方案，塞块将进料口关闭的过程中，有效减少塞块与密封圈滑动接触时产生的阻力，使塞块滑动时更加顺畅。

优选的，所述塞块靠近进料口一侧侧壁的边缘设置有倒角。

通过采用上述技术方案，塞块将进料口关闭的过程中，进一步减少塞块的边缘与密封圈接触时密封圈对塞块产生的阻力，使塞块滑动时更加顺畅。

所述导杆上滑动设置有两个第一保护盒，两个所述第一保护盒内均设置有金属块，两个所述第一保护盒之间设置有连杆，所述塞块设置在第一保护盒上，所述浮块滑动设置在连杆上，所述导杆上设置有两个第二保护盒，所述第二保护盒内设置有磁性块。

通过采用上述技术方案，开始时底部第一保护盒和底部的第二保护盒位相互吸附，进料口打开，镀铜溶液液面上升逐渐上升，浮块受到浮力沿连杆不断上升，当浮块与顶部的第一保护盒接触时驱使其上升，带动塞块上升将进料口堵塞，顶部第一保护盒与顶部的第二保护盒吸附，限制塞块离开卡槽；当镀铜溶液减少时，浮块下降，当浮块与底部的第一保护盒接触时，使底部的第一保护盒下降，带动塞块下滑使进料口打开，镀铜溶液进入电镀池内。如此往复，从而实现了当镀铜溶液减少固定量时进料口被打开的效果，有效避免进料口反复开关。

优选的，所述连杆为伸缩杆，所述第二保护盒滑动设置在导杆上，两个所述第二保护盒上均开设有插孔，所述插孔内滑动穿设有用于与导杆插接的销杆，所述导杆上沿长度方向均匀开设有若干供销杆插接的销孔。

通过采用上述技术方案，通过调整第二保护盒的位置以及连杆的长度，从而调节浮块的滑动距离，从而调整进料口开启的时间。

优选的，所述限位件为销杆，所述第二保护盒上设有插孔，所述销杆滑动穿设在插孔内用于与导杆插接的，所述导杆上开设有若干供销杆插接的销孔，若干所述销孔沿长度方向均匀间隔分布。

通过采用上述技术方案，将第二保护盒滑动至一定位置后，通过销杆进行固定，提高了装置的稳定性。

优选的，所述储料桶的侧壁上设置有观察窗。

通过采用上述技术方案，使工作人员能观察到储料桶内的剩余量，方便工作人员进行添加。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.电镀池的内壁上设置有用于补充镀铜溶液的进料口，进料口上设置有带有浮块的塞块，当电镀池液面降低时，浮块带动塞块下降将进料口打开，使镀铜溶液进入电镀池，无需工人手动添加，使添加溶液的过程更加方便快捷；

2.电镀池内壁上设置有导杆，导杆上滑动设置有通过连杆连接的金属块，导杆的顶部和底部设置有磁性块，浮块滑动设置在连杆上，从而实现了当镀铜溶液减少固定量时进料口被打开的效果，有效避免进料口反复开关；

3.电镀池位于进料口周向的侧壁上设置有密封层，有效提高塞块将进料口堵住时进料口的密封性。

附图说明

图1是本申请实施例的整体结构示意图。

图2是本申请实施例中浮块等部分的结构示意图。

附图标记说明：1、电镀池；2、储料桶；21、进料管；22、进料口；3、导杆；4、塞块；5、密封圈；6、浮块；7、凹槽；8、第一保护盒；81、连杆；9、第二保护盒；10、销杆；11、销孔；12、观察窗。

具体实施方式

以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种镀铜溶液测量补充装置。参照图1，镀铜溶液测量补充装置包括电镀池1，电镀池1的外壁上安装有一个用于储存镀铜溶液的储料桶2，出料桶上设置有透明的观察窗12。储料桶2的底部通过一根进料管21与电镀池1连通，电镀池1的内壁上开设有一个进料口。进料口的一侧焊接有一根竖直的表面镀铜的导杆3，导杆3上滑动设置有用于开闭进料口的塑料材质的塞块4以及用于带动塞块4滑动的空心塑料浮块6。

参照图1和图2，导杆3的顶部和底部均滑动设置有密封的第二保护盒9，第二保护盒9内装有磁铁块，导杆3上滑动设置有两个密封的第一保护盒8，第一保护盒8内装有铁块，第一保护盒8和第二保护盒9均为塑料材质。两个第一保护盒8之间通过一根连杆81连接，塞块4与顶部的第一保护盒8热熔连接，浮块6滑动设置在连杆81上，浮块6的重力大于磁铁与铁块的吸附力，浮块6所受最大浮力均大于铁块所受的重力。

参照图1和图2，当电镀池1内镀铜溶液的液面下降时，浮块6向下滑动，当浮块6与底部的第一保护盒8接触时，浮块6在重力的作用下驱使底部的第一保护盒8通过连杆81带动顶部的第一保护盒8以及塞块4向下滑动，底部的第一保护盒8与底部的第二保护盒9通过磁性块与金属块吸附，进料口持续开启，镀铜溶液进入电镀池1；电镀池1液面升高，浮块6沿连杆81上升，当浮块6与顶部的第一保护盒8接触时，在浮力的作用下带动顶部的第一保护盒8上升，带动塞块4将进料口22堵塞，同时顶部的第一保护盒8与顶部的第二保护盒9通过磁性块与金属块吸附，使塞块4上升将进料口关闭。

参照图1和图2，进料口22周围固设有一圈橡胶材质的密封圈5，密封圈5的截面为圆弧形且凸面朝向塞块4，密封圈5的表面包裹有一层特氟龙滑动层，塞块4靠近进料口22的一侧侧壁上开设有一圈与密封圈5适配的凹槽7，当塞块4将进料口22关闭时密封圈5卡入凹槽7中，有效提高了进料口22的密封性。塞块4靠近进料口22一侧侧壁的边缘设置有倒角，塞块4滑动过程中通过倒角与滑动层接触，有效减少了塞块4滑动过程中受到的阻力。

参照图1和图2，第二保护盒9的侧壁上开穿设置有插孔，插孔内滑动穿设有销杆10，导杆3的侧壁上沿竖直方向均匀分布开设有若干用于供销杆10穿设的销孔11；两个第一保护盒8之间的连杆81为伸缩杆；将销杆10拔出销孔11，就能沿竖直方向滑动两个第二保护盒9，从而调整两个第二保护盒9之间的间距，然后调节伸缩杆的长度，从而调节进料口开启时液面的高度。

本申请实施例一种镀铜溶液测量补充装置的实施原理为：当电镀池1内的液面较高时，顶部的第二保护盒9与第一保护盒8相吸附，进料口22周围的密封圈5卡在凹槽7中，将进料口22关闭；当液面下降时，浮块6沿导杆下降，当液面下降至底部的第一保护盒8下方时，浮块6在重力的作用下驱使第一保护盒8下降与底部的第二保护盒9吸附，并通过连杆81将塞块4下滑，进料口22打开，储料桶2内的镀铜溶液进入电镀池1；当液面上升时，浮块6沿连杆81上升，当浮块6与顶部的第一保护盒8接触时，在浮力的作用下带动顶部的第一保护盒8上升，然后顶部的第一保护盒8与顶部的第二保护盒9通过磁性块与金属块相互吸附，使塞块4上升并使密封圈5卡入凹槽7内，将进料口22关闭，整个过程无需人工操作，使添加溶液的过程更加方便快捷。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。