一种垂直连续电镀挂件的制作方法

本申请涉及电镀领域，特别是涉及一种垂直连续电镀挂件。

背景技术：

目前，随着人们对电子产品的品质日益要求越高，对作为电子产品必要载体的印刷电路板的质量的要求也随之增加，而垂直连续电镀设备是印刷电路板的生产设备，在垂直连续电镀设备对基板进行电镀的过程中，需要用在生产线上传送的挂架的夹具夹持电镀工件并浸入在电镀液里，生产线上传送的电镀挂架出现晃动时，会引起生产线上与其相邻的多个挂架出现晃动，从而导致电镀工件电镀不均匀，影响了印刷电路板生产的品质。

技术实现要素：

本申请提供一种垂直连续电镀挂件，可以控制相邻挂架间的间距，从而改善电镀均匀性。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种垂直连续电镀挂件，该挂件包括挂架和间距控制单元。挂架包括挂具和夹具，挂具一端用于挂载在机架上，另一端连接夹具，夹具用于夹持工件。间距控制单元设置于挂具的端部，用于产生对相邻另一挂架的吸附力/排斥力，以控制相邻挂架的间距。

本申请的有益效果是：本申请的垂直连续电镀挂件包括挂架和间距控制单元。挂架包括挂具和夹具，挂具一端用于挂载在机架上，另一端连接夹具，夹具用于夹持工件。通过将间距控制单元设置于挂具的端部，可以产生对相邻另一挂架的吸附力/排斥力，使得相邻挂架的间距控制单元可以产生相互的吸附力/排斥力，可以控制相邻挂架的间距，也减小生产线上传送的挂架出现晃动，可以保持不同工件在电镀过程中的电镀均匀，从而改善电镀的均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请提供的垂直连续电镀挂件一实施方式的结构示意图；

图2是本申请提供的垂直连续电镀挂件另一实施方式的结构示意图；

图3是本申请提供的图2中区域a的结构示意图；

图4a是本申请提供的吸附件一实施方式的结构示意图；

图4b是本申请提供的图4a中的吸附件的尺寸结构示意图；

图5是本申请提供的吸附件另一实施方式的结构示意图；

图6a是本申请提供的图5中沿b-b轴线一实施方式的截面示意图；

图6b是本申请提供的图5中沿b-b轴线另一实施方式的截面示意图；

图7是本申请提供的固定件一实施方式的结构示意图；

图8是本申请提供的垂直连续电镀挂件中间距控制单元又一实施方式的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明，若本申请实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本申请实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本申请要求的保护范围之内。

本申请提供一种垂直连续电镀挂件，请参阅图1至图2，该挂件10包括挂架200和间距控制单元300。挂架200可以包括挂具210和夹具220，挂具210一端用于挂载在机架20上，另一端连接夹具220，夹具220用于夹持工件。间距控制单元300可以设置于挂具210的端部，间距控制单元300可以用于产生对相邻另一挂架200的吸附力/排斥力，以控制相邻挂架200的间距。

使用时，可以将至少两个挂架200可滑动地设于机架20，挂架200的挂具210一端用于挂载在机架20上，另一端连接夹具220，夹具220可以夹持电镀工件，电镀工件可以随挂架200在电镀设备中循环位移进行电镀加工。间距控制单元300可以设置于挂具210的端部，用于产生对相邻另一挂架200的吸附力/排斥力，以控制相邻挂架200的间距。间距控制单元300可以设置于挂具210的一端，间距控制单元300也可以设置于挂具210的两端。例如可以在相邻挂架200挂具210的相邻一端设置间距控制单元300，也可以在相邻挂架200挂具210的两端设置间距控制单元300。间距控制单元300可以产生对相邻挂架200的吸附力/排斥力，可以是相邻挂架200的间距控制单元300之间产生的吸附力/排斥力，可以控制相邻挂架200的间距，从而改善电镀均匀性。

可选的，挂具210包括飞巴211和横板212，飞巴211可以挂载在机架20上，使得挂架200可以在机架20上滑动运行，横板212与飞巴211垂直连接，横板212的一侧与飞巴211连接，另一侧与夹具220连接，横板212可以连接多个夹具220，多个夹具220可以夹持电镀工件进行电镀。间距控制单元300可以设置于横板212的端部，可以设置在横板212的一端，也可以设置在横板212的两端，本申请对于间距控制单元300的设置不做限制。

间距控制单元300可以设置于挂具210的端部，间距控制单元300可以用于产生对相邻另一挂架200的吸附力，以控制相邻挂架200的间距。

间距控制单元300可以设置于挂具210的端部。例如间距控制单元300可以设置于挂具210的一端，间距控制单元300也可以设置于挂具210的两端。间距控制单元300可以产生对相邻另一挂架200的吸附力，以控制相邻挂架200的间距。间距控制单元300产生的吸附力可以是静电吸附力，也可以是磁性吸附力。例如间距控制单元300的吸附件320可以是电磁体或电磁圈，当相邻挂架200的相邻端通入相反的电时，电磁体之间的磁性不同，产生相互的吸附力，可以控制相邻挂架200的间距。

间距控制单元300可以设置在挂具210的一端。可以在多个挂架200的挂具210相邻的一端设置间距控制单元300，相邻挂架200的吸附件320磁性不同。例如一个挂架200的挂具210右端设置第一磁性的吸附件320，与其挂架200相邻的另一挂架200的挂具210的相邻端，也即是挂架200的左端设置第二磁性的吸附件320，第二磁性与第一磁性相反，相邻挂架200的吸附件320可以产生相互的磁性吸附力，可以控制相邻挂架200的间距，也减小生产线上传送的电镀挂架200出现晃动，从而改善电镀的均匀性。

间距控制单元300设置于挂具210的两端，用于产生对相邻挂架200的磁性吸附力，以控制相邻挂架200的间距。

间距控制单元300可以设置在挂具210的两端。可以在多个挂架200的挂具210相邻的一端设置间距控制单元300，相邻挂架200的吸附件320磁性不同。两个相邻挂架200的挂具210左右两端分别设置有吸附件320，挂架200的吸附件320的磁性可以是相同的。例如一个挂架200的挂具210左右两端分别设置有第一磁性的吸附件320，与其挂架200相邻的另一挂架200的挂具210左右两端分别设置有第二磁性的吸附件320，第二磁性与第一磁性相反，相邻挂架200的吸附件320可以产生相互的磁性吸附力，可以控制相邻挂架200的间距，也减小生产线上传送的电镀挂架200出现晃动，从而改善电镀的均匀性。

间距控制单元300可以设置在挂具210的两端。可以在多个挂架200的挂具210相邻的一端设置间距控制单元300，相邻挂架200的吸附件320磁性不同。两个相邻挂架200的挂具210左右两端分别设置有吸附件320，挂架200的吸附件320的磁性可以是相反的。例如一个挂架200的挂具210左右两端分别设置有第一磁性的吸附件320和第二磁性的吸附件320，第二磁性与第一磁性相反。与其挂架200相邻的另一挂架200的挂具210左右两端分别设置有第二磁性的吸附件320和第一磁性的吸附件320，相邻挂架200的吸附件320可以产生相互的磁性吸附力，可以控制相邻挂架200的间距，也减小生产线上传送的电镀挂架200出现晃动，从而改善电镀的均匀性。

间距控制单元300包括至少两个固定件310和至少两个吸附件320。间距控制单元300可以的固定件310和吸附件320的数量可以是一一对应关系。例如一个固定件310可以固定在一个挂架200的挂具210端部，在与其挂架200相邻挂架200的挂具210端部固定另一个固定件310，将两个不同磁性的吸附件320分别对应设置于固定件310，吸附件320的连接部322可以卡入固定件310的挂钩311，相邻挂架200之间的吸附件320可以相互吸附，可以控制相邻挂架200的间距，也减小生产线上传送的电镀挂架200出现晃动，从而改善电镀的均匀性。

间距控制单元300可以包括固定件310和吸附件320。请参阅图3、图4和图7，固定件310可以设有挂钩311，固定件310可以固定在挂具210的端部。吸附件320可以包括连接部322、吸附头321和卡挡头323，连接部322可活动连接于固定件310，连接部322可以连接吸附头321和卡挡头323，卡挡头323设在连接部322远离吸附头321一端。连接部322的横向尺寸可以小于吸附头321和卡挡头323的横向尺寸，吸附头321横向尺寸可以大于卡挡头323的横向尺寸，吸附头321横向尺寸可以等于卡挡头323的横向尺寸，吸附头321的横向尺寸可以小于卡挡头323的横向尺寸，吸附头321、卡挡头323和连接部322的具体尺寸可根据电镀设备中对于电镀挂件10的需要进行设计，本申请对于固定件310和吸附件320的尺寸大小不作限制。

间距控制单元300的固定件310可以设有挂钩311，吸附件320的卡挡头323横向尺寸可以大于挂钩311的收纳尺寸，吸附件320的连接部322横向尺寸可以小于挂钩311的收纳尺寸。收纳尺寸可以是挂钩311形成的一端具有开口的一个收纳空间312。当连接部322可以从挂钩311的开口处卡入挂钩311，卡挡头323和吸附头321可以分别位于挂钩311两侧，且卡挡头323和吸附头321之间的距离可以大于挂钩311的厚度，也即是连接部322的长度可以大于挂钩311的厚度。当相邻挂架200之间的吸附头321相互吸附时，使得吸附头321能朝远离固定件310方向运动，直至被卡挡头323卡在挂钩311上为止。

吸附头321与相邻挂架200的吸附头321相互吸附时，吸附头321可以朝远离固定件310方向运动，并可以在运动到连接部322的长度极限时拉扯固定件310，可以限制相邻挂架200的间距超过第一阈值。例如一个挂架200的固定件310的挂钩311靠近卡挡头323，另一相邻挂架200的固定件310的挂钩311靠近卡挡头323，此时，可以用相邻挂架200之间的间距表示为第一阈值，也可以用挂钩311之间的间距表示第一阈值。相邻挂架200之间的吸附头321相互吸附时，吸附头321可以朝远离固定件310方向运动，并可以在运动到连接部322的长度极限时拉扯固定件310，由于吸附件320的卡挡头323横向尺寸大于挂钩311的收纳尺寸，吸附件320的连接部322横向尺寸小于挂钩311的收纳尺寸，卡挡头323可以卡在挂钩311上，使得相邻挂架200的间距小于或等于第一阈值，进而可以限制相邻挂架200的间距超过第一阈值。

吸附头321吸附相邻挂架200的挂具210端部的另一吸附头321后，相邻挂架200之间被两吸附头321抵顶，进而限制相邻挂架200的间距小于第二阈值，第二阈值小于第一阈值。例如一个挂架200的固定件310的挂钩311靠近吸附头321，另一相邻挂架200的固定件310的挂钩311也靠近吸附头321，此时，可以用相邻挂架200之间的间距表示为第二阈值，也可以用挂钩311之间的间距表示第二阈值。相邻挂架200之间的吸附头321相互吸附时，吸附头321可以朝远离固定件310方向运动，相邻挂架200之间被两吸附头321抵顶，使得相邻挂架200的间距大于或等于第二阈值，进而可以限制相邻挂架200的间距小于第二阈值，其中，第二阈值小于第一阈值。

请参阅图4b，吸附件320的卡挡头323和吸附头321之间的距离l3可以大于挂钩311的厚度，也即是连接部322的长度l3可以大于挂钩311的厚度。连接部322的长度l3可以是3～9mm，吸附头321的横向尺寸l1可以是20～28mm，吸附头321的厚度l2可以是8～13mm。挂钩311也可以根据吸附件320设置相应的厚度。

可选的，吸附件320的连接部322可以为圆轴形的，吸附头321和卡挡头323也可以是圆饼形的。挂钩311的收纳尺寸可以沿着挂钩311的宽度方向以弧状逐渐减小，挂钩311的收纳空间312底端可以是圆弧状的，吸附件320的连接部322可以卡入挂钩311的收纳空间312，当相邻挂架200之间的吸附头321相互吸附时，吸附头321可以朝远离固定件310的方向运动，从而可以把挂架200之间的间距控制在第一阈值和第二阈值之间。

可选的，吸附件320的连接部322可以为圆轴形的，吸附头321和卡挡头323也可以是方形的，挂钩311的收纳空间312也可以是方形的，吸附件320的连接部322可以卡入挂钩311的收纳空间312。或者，吸附件320的连接部322可以为方形的，吸附头321和卡挡头323也可以是方形的，挂钩311的收纳空间312也可以是方形的，吸附件320的连接部322可以卡入挂钩311的收纳空间312。或者，吸附件320的连接部322可以为齿形的，吸附头321和卡挡头323也可以是齿形的，挂钩311的收纳空间312也可以是齿形的，吸附件320的连接部322可以卡入挂钩311的收纳空间312，可以稳定的控制挂架200之间的间距。对于吸附件320和挂钩311可以根据电镀要求制定，本申请对于吸附件320和挂钩311的具体形状不作限制。

间距控制单元300的吸附件320可以为磁性元件，例如可以是磁体，相邻挂架200的挂具210相邻端的吸附件320磁性不同，相邻挂架200的吸附件320可以产生相互的吸附力，可以控制相邻挂架200的间距。其中，吸附件320的吸附头321可以为磁性元件，或吸附头321和连接部322可以为磁性元件，或吸附头321、连接部322和卡挡头323可以是磁性元件，在相同的磁力情况下，吸附头321、连接部322和卡挡头323可以是磁性元件时，吸附件320可以产生相对更大的磁性吸附力，可以更稳定的控制相邻挂架200的间距，也减小生产线上传送的电镀挂架200出现晃动，从而改善电镀的均匀性。

可选的，吸附件320为圆形，吸附件320可以设有通孔3241，该通孔3241可以用于放置铁芯3242。请参阅图5、图6a和图6b，吸附件320的通孔3241可以是具有螺纹结构的螺纹孔，铁芯3242也可以与通孔3241具有对应的螺纹结构，使得可以通过螺丝将铁芯3242固定在通孔3241中。吸附件320可以为圆形的磁性元件，吸附件320为圆形的磁铁时，在磁铁的通孔中可以加入铁芯3242，可以增强圆形磁铁的磁性，可以增强吸附件320产生的吸附力。

可以在卡挡头323设有螺纹孔，可以通过螺纹孔设置铁芯3242。也可以在卡挡头323和连接部322设置连通的螺纹孔，可以通过螺纹孔设置铁芯3242，也可以在吸附件320中设置可连通吸附头321、连接部322和卡挡头323的通孔3241，在通孔3241中放置铁芯3242，可以增强圆形磁铁的磁性，可以增强吸附件320产生的吸附力。

可选的，吸附件320为圆形，吸附件320可以设有通孔3241，该通孔3241可以用于放置铁芯3242。该铁芯3242可以具有磁性，例如该铁芯3242可以是具有磁性的磁铁。铁芯3242也可以是磁性元件。铁芯3242也可以根据吸附件320的形态进行设置，本申请对于吸附件320的通孔3241形状及大小不做限制，对铁芯3242的形态及大小不做限制。

在一些实施例中，间距控制单元300的吸附件320还可以包括磁性元件，例如吸附件320设有通孔3241，该通孔3241可以放置具有磁性的元件(未示出)，该磁性元件可以通过螺丝或螺栓等固定在吸附件320中，磁性元件的形状可根据吸附件320进行设置，本申请对磁性元件不做限制。

请参阅图3和图7，固定件310设有挂钩311的一端向固定件310的另一端弯折设置，弯折角度可以是80°～100°。其中，弯折角度也可以是90°，使得固定件310设有挂钩311的一端与固定件310没有挂钩311的一端形成垂直角度。挂钩311的收纳空间312方向朝向挂钩311的宽度方向设置，挂钩311的收纳空间312与挂钩311的宽度方向角度可以是30°～60°。挂钩311的收纳尺寸沿着挂钩311的宽度方向逐渐减小，使得吸附件320的连接部322可以卡入挂钩311收纳空间312，吸附件320不会轻易的从挂钩311滑出。固定件310可以固定在挂具210的端部。固定件310远离设有挂钩311的一端开设有至少2个螺孔313，至少2个螺孔313可以在固定件310沿长度分向均匀设置，挂具210端部也可以具有相应的至少2个螺孔313，以使得可以通过至少2个螺孔313将固定件310固定在挂具210的端部。

在其他实施方式中，请参阅图8，本申请的间距控制单元800可以设置于挂具210的端部，间距控制单元800可以用于产生对相邻另一挂架200的排斥力，以控制相邻挂架200的间距。

间距控制单元800可以设置在挂具210端部。可以设置在挂具210的一端，也可以设置在挂具210的两端。例如可以在多个挂架200的挂具210相邻的一端设置间距控制单元800。

间距控制单元800包括固定件810和排斥件820，固定件810固定在挂具210的端部，排斥件820包括连接部822和排斥头821，连接部822可活动连接于固定件810，排斥头821与连接部822连接，固定件310设有挂钩(未示出)，连接部822远离排斥头821一端设有卡挡头823。排斥件820可以是磁性元件，相邻挂架200的相邻端排斥件820磁性相同。排斥头821排斥相邻挂架200时朝靠近固定件810方向运动，并在运动到连接部822的长度极限时，直至被卡挡头823卡在挂钩上为止，以限制相邻挂架200的间距超过第三阈值，以控制相邻挂架200的间距，改善电镀的均匀性。

该实施方式所描述的是上述垂直连续电镀挂件中间距控制单元用于产生对相邻另一挂架的排斥力的情形，其结构具体请参阅上述实施方式的描述，在此不再赘述。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。