雾化装置的制作方法

本揭露大体上涉及一种雾化装置(vaporizationdevice)，具体而言涉及一种提供可吸入气雾(aerosol)之电子装置。

背景技术：

电子烟系一种电子产品，其将可雾化溶液加热雾化并产生气雾以供用户吸食。近年来，各大厂商开始生产各式各样的电子烟产品。一般而言，一电子烟产品包括外壳、储油室、雾化室、加热组件、进气口、气流通道、出气口、电源装置、感测装置及控制装置。储油室用于储存可雾化(vaporizable)溶液，加热组件用于将可雾化溶液加热雾化并产生气雾。进气口与雾化室彼此连通，当使用者吸气时提供空气给加热组件。由加热组件产生之气雾首先产生于雾化室内，随后经由气流通道及出气口被使用者吸入。电源装置提供加热组件所需之电力，控制装置根据感测装置侦测到的用户吸气动作，控制加热组件的加热时间。外壳则包覆上述各个组件。

市面现有的电子烟产品的重量比过去的单根香烟的重量重，用户在使用电子烟产品时常会如使用过去的香烟一样，仅使用手指夹持电子烟，或仅使用嘴唇夹吸电子烟，然因电子烟产品具有较重的重量，因此常发生电子烟产品自用户的手指或嘴唇滑落。

因此，提出一种可解决上述问题之雾化装置。

技术实现要素：

本申请的一些实施例提供了一种雾化装置。所提出的雾化装置包含具有吸嘴组件外盖与杆体组件外壳的本体及设置于吸嘴组件外盖的外表面及/或杆体组件外壳的外表面的凹槽。

亦预期本揭露之其他态样及实施例。前述发明内容及以下实施方式并不意欲将本揭露限于任何特定实施例，而是仅意欲描述本揭露之一些实施例。

附图说明

为了更好地理解本揭露之一些实施例的本质及目标，将参考结合随附图式而采取之以下实施方式。在图式中，除非上下文另有明确规定，否则类似参考编号表示类似组件。

图1a为本申请的一些实施例的雾化装置的分解示意图。

图1b为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

图2a为本申请的一些实施例的吸嘴组件外盖的正视示意图。

图2b为本申请的一些实施例的吸嘴组件外盖的侧视示意图。

图2c为本申请的一些实施例的吸嘴组件外盖的剖面示意图。

图3a为本申请的一些实施例的杆体组件外壳的正视示意图。

图3b为本申请的一些实施例的杆体组件外壳的侧视示意图。

图3c为本申请的一些实施例的杆体组件外壳的剖面示意图。

图4a为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

图4b为本申请的一些实施例的雾化装置的正视示意图。

图4c为本申请的一些实施例的雾化装置的侧视示意图。

图5a为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

图5b为本申请的一些实施例的雾化装置的正视示意图。

图5c为本申请的一些实施例的雾化装置的侧视示意图。

图6a为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

图6b为本申请的一些实施例的雾化装置的正视示意图。

图6c为本申请的一些实施例的雾化装置的侧视示意图。

图7a为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

图7b为本申请的一些实施例的雾化装置的正视示意图。

图7c为本申请的一些实施例的雾化装置的侧视示意图。

具体实施方式

以下公开内容提供用于实施所提供的目标物的不同特征的许多不同实施例或实例。下文描述组件和布置的特定实例。当然，这些仅是实例且并不意图为限制性的。在本揭露中，在以下描述中对第一特征在第二特征之上或上的形成的参考可包含第一特征与第二特征直接接触形成的实施例，并且还可包含额外特征可形成于第一特征与第二特征之间从而使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施例。另外，本揭露可能在各个实例中重复参考标号和/或字母。此重复是出于简化和清楚的目的，且本身并不指示所论述的各种实施例和/或配置之间的关系。

下文详细论述本揭露的实施例。然而，应了解，本揭露提供了可在多种多样的特定情境中实施的许多适用的概念。所论述的特定实施例仅仅是说明性的且并不限制本揭露的范围。

图1说明根据本发明的一些实施例的雾化装置的一部分的分解图。图1b为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图。

雾化装置100可包含吸嘴组件100a及杆体组件100b。在某些实施例中，吸嘴组件100a及杆体组件100b可设计为一个整体。在某些实施例中，吸嘴组件100a及杆体组件100b可设计成分开的两组件。在某些实施例中，吸嘴组件100a可设计成可移除式地与杆体组件100b结合。在某些实施例中，吸嘴组件100a可设计成一部分收纳于杆体组件100b中。

在某些实施例中，吸嘴组件100a与杆体组件外壳113可以使用相同材质制成。在某些实施例中，吸嘴组件100a与杆体组件外壳113可以使用不同材质制成。在某些实施例中，吸嘴组件100a可使用金属材料制成。在某些实施例中，吸嘴组件100a可使用塑料材料制成。在某些实施例中，杆体组件外壳113可使用塑料材料制成。在某些实施例中，杆体组件外壳113可使用金属材料制成。在某些实施例中，杆体组件外壳113可包含铝金属。

吸嘴组件100a可包含吸嘴组件外盖(mouthpiece)101、油杯102、密封组件103、加热组件顶盖104、导油组件105、加热组件106、储油组件底座密封组件107及储油组件底座108。

杆体组件100b可包含电池组件109、传感器110、传感器封装件111、电源组件底盖112及杆体组件外壳113。当吸嘴组件100a与杆体组件100b相互配合时，吸嘴组件外盖101的外表面与杆体组件外壳113的外表面系彼此相应地对接。

烟嘴组件外盖101的外表面具有多个凹槽11，而杆体组件外壳113的外表面具有多个凹槽13。在某些实施例中，凹槽11系由烟嘴组件外盖101的外表面凹陷所形成，而凹槽13系由杆体组件外壳113的外表凹陷所形成。

图2a为本申请的一些实施例的吸嘴组件外盖101的正视示意图，图2b为本申请的一些实施例的吸嘴组件外盖101的侧视示意图。

参考图2a和图2b，凹槽11设置于吸嘴组件外盖101的外表面，且凹槽11大致沿吸嘴组件外盖101的长度方向延伸。

图2c为图2a的a-a’方向的剖面示意图。

参考图2c，凹槽11系自吸嘴组件外盖101的外表面向其内部凹陷而形成。吸嘴组件外盖101具有一大致呈椭圆形的横截面，即吸嘴组件外盖101的横截面的外轮廓的曲率并非均一。吸嘴组件外盖101的横截面的高度即其椭圆形横截面的短轴的长度h1，而凹槽11具有一深度d1，且在一些实施例中，凹槽11的深度d1大致为吸嘴组件外盖1的椭圆形横截面的短轴的长度h1的5％至20％，即大致为吸嘴组件外盖1的横截面的高度的5％至20％。另，凹槽11的宽度为w1。

另，吸嘴组件外盖101具有凹槽11’和11”，其分别大致设置于吸嘴组件外盖101的椭圆形横截面的长轴端点14及15处；换言之，凹槽11’及11”分别设置于吸嘴组件外盖101的横截面外轮廓上彼此距离最远的两点处。此外，因吸嘴组件外盖101的横截面呈椭圆状而使其外轮廓的曲率并非均一，且凹槽11’及11”分别大致设置于吸嘴组件外盖101的椭圆形横截面的长轴端点14及15处，故可进一步说明凹槽11’及11”设置于吸嘴组件外盖101的横截面外轮廓的曲率最小处。

设置于吸嘴组件外盖101的外表面上的凹槽11系为了增加用户的嘴唇与吸嘴盖外件101的外表面间的摩擦力，以使得用户在夹吸雾化装置100时避免雾化装置100自嘴唇滑落。因当用户在夹吸雾化装置100时，其嘴唇大致包围吸嘴组件外盖1的整体外表面，故设置于吸嘴组件外盖101的外表面上的凹槽11的数量越多越能达成避免雾化装置100滑落的效果。此外，凹槽11的延伸方向与吸嘴组件外盖101的长度方向大致平行，如此的构形可增加用户的嘴唇与吸嘴组件外盖101之间的摩擦力，更能避免雾化装置100的滑落。

图3a为本申请的一些实施例的杆体组件外壳113的正视示意图，图3b为本申请的一些实施例的杆体组件外壳113的侧视示意图。

参考图3a和图3b，凹槽13设置于杆体组件外壳113的外表面，尤其大致设置于杆体组件外壳113两侧的外表面上，且凹槽13大致沿杆体组件外壳的长度方向延伸。

图3c为图3a的b-b’方向的剖面示意图。

参考图3c，凹槽13系自杆体组件外壳113的外表面向其内部凹陷而形成。杆体组件外壳113具有一大致呈椭圆形的横截面，即杆体组件外壳113的横截面的外轮廓的曲率并非均一。杆体组件外壳113的横截面的高度即其椭圆形横截面的短轴的长度h2，而凹槽13具有一深度d2，且在一些实施例中，凹槽13的深度d2大致为杆体组件外壳113的椭圆形横截面的短轴的长度h2的5％至20％，即大致为杆体组件外壳113的横截面的高度的5％至20％。另，凹槽13的宽度为w2。

另，设置于杆体组件外壳113的外表面的二凹槽13分别大致设置于杆体组件外壳113的椭圆形横截面的长轴端点134及135处；换言之，二凹槽13分别设置于杆体组件外壳113的横截面外轮廓上彼此距离最远的两点处。此外，因杆体组件外壳113的横截面呈椭圆状而使其外轮廓的曲率并非均一，且二凹槽13分别大致设置于杆体组件外壳113的椭圆形横截面的长轴端点134及135处，故可进一步说明二凹槽13设置于杆体组件外壳113的横截面外轮廓的曲率最小处。由以上可得知，杆体组件外壳113的外表面的二凹槽13系彼此相对设置，且大致分别设置于杆体组件外壳113的二侧面。

设置于杆体组件外壳113的外表面上的凹槽13系为了增加用户的手指与吸杆体组件外壳113的外表面间的摩擦力，以使得用户在以手指夹持雾化装置100时避免雾化装置100自手指滑落。因当用户在夹吸雾化装置100时，其手指大致接触及夹持于杆体组件外壳113的二侧面，故将凹槽13设置于杆体组件外壳113的二侧面可有效达成避免雾化装置100滑落的效果。此外，凹槽13的延伸方向与杆体组件外壳113的长度方向大致平行，如此的构形可增加用户的手指与杆体组件外壳113之间的摩擦力，更能避免雾化装置100的滑落。

再者，如先前所述，当吸嘴组件100a与杆体组件100b相互配合时，烟嘴组件外盖101的外表面与杆体组件外壳113的外表面可彼此对接，又吸嘴组件外盖111的凹槽11'及11"大致设置于其椭圆形横截面的长轴端点14及15处，且杆体组件外壳113的二凹槽13大致设置于其椭圆形横截面的长轴端点134及135处，因此，当吸嘴组件100a与杆体组件100b相互配合时，吸嘴组件外盖101的凹槽11'及11"系会大致对准杆体组件外壳113的二凹槽13，且吸嘴组件外盖101的凹槽11'及11"的延伸大致与杆体组件外壳113的二凹槽13的延伸大致重合。

又，吸嘴组件外盖101的凹槽11系大致布满其整个外表面，而杆体组件外壳113仅具有二个大致设置于其侧面的凹槽13，因此，吸嘴组件外盖101的凹槽11的数量大于杆体组件外壳113的凹槽13的数量。

另，在某些实施例中，吸嘴组件外盖101的凹槽11的宽度w1可大致与杆体组件外壳13的凹槽131的宽度w2相同；在某些实施例中，吸嘴组件外盖101的凹槽11的深度d1可大致与杆体组件外壳113的凹槽13的深度d2相同。

雾化装置100的重量m1大致大于或等于0.01千克且小于或等于0.05千克，而吸嘴组件外盖101的凹槽11的深度d1或杆体组件外壳113的凹槽13的深度d2大致大于或等于0.05毫米且小于或等于0.1毫米。雾化装置100的重量m1与凹槽11的深度d1或凹槽13的深度d2的关系大致为m1≤d1≤10*m1和m1≤d2≤10*m1。

图4a为本申请的一些实施例的雾化装置200的立体示意图，图4b为本申请的一些实施例的雾化装置200的正视示意图及图4c为本申请的一些实施例的雾化装置200的侧视示意图。

雾化装置200的吸嘴组件外盖201的外表面设置有复数个凹槽21，而其杆体组件外壳213的外表面设置有凹槽23。在某些实施例中，凹槽21系由吸嘴组件外盖201的外表面凹陷所形成，而凹槽23系由杆体组件外壳213的外表凹陷所形成。

参考图4a，吸嘴组件外盖201的凹槽21的数量大于杆体组件外壳213的凹槽23的数量。

参考图4b，吸嘴组件外盖201的凹槽21的延伸方向与雾化装置200之整体的长度方向呈一角度，杆体组件外壳213的凹槽23的延伸方向与雾化装置200之整体的长度方向呈一角度，而雾化装置200之整体的长度方向系与吸嘴组件外盖201的长度方向和杆体组件外壳213的长度方向一致。吸嘴组件外盖201的凹槽21的延伸方向与雾化装置200之整体的长度方向之间的夹角大致小于45度，而杆体组件外壳213的凹槽23的延伸方向与雾化装置200之整体的长度方向之间的夹角大致小于45度。

吸嘴组件外盖201的凹槽21具有一宽度w3及一深度d3，而杆体组件外壳213的凹槽23具有一宽度w4及一深度d4。在某些实施例中，吸嘴组件外盖201的凹槽21的宽度w3可大致与杆体组件外壳213的凹槽23的宽度w4相同；在某些实施例中，吸嘴组件外盖201的凹槽21的深度d3可大致与杆体组件外壳213的凹槽23的深度d4相同。

又，参考图4c，杆体组件外壳213的厚度为t1，杆体组件外壳213的凹槽23的深度d4大致为杆体组件外壳213的厚度t1的5％至20％。

此外，雾化装置200的重量m2大致大于或等于0.01千克且小于或等于0.05千克，而吸嘴组件外盖201的凹槽21的深度d3或杆体组件外壳213的凹槽23的深度d4大致大于或等于0.05毫米且小于或等于0.1毫米。雾化装置200的重量m2与凹槽21的深度d3或凹槽23的深度d4的关系大致为m2≤d3≤10*m2和m2≤d4≤10*m2。

图5a为本申请的一些实施例的雾化装置的立体示意图，图5b为本申请的一些实施例的雾化装置的正视示意图及图5c为本申请的一些实施例的雾化装置的侧视示意图。

雾化装置300的吸嘴组件外盖301的外表面设置有复数个凹槽31，而其杆体组件外壳313的外表面设置有复数个凹槽33。在某些实施例中，凹槽31系自吸嘴组件外盖301的外表面凹陷所形成，而凹槽33系自杆体组件外壳313的外表凹陷所形成。

参考图5a，吸嘴组件外盖301的外表面的大部分系被凹槽31所覆盖，且杆体组件外壳313的外表面的大部分系被凹槽33所覆盖。在某些实施例中，被凹槽31所覆盖的吸嘴组件外盖301的外表面的部分面积大于吸嘴组件外盖301的外表面的总面积的80％，被凹槽33所覆盖的杆体组件外壳313的外表面的部分面积大于杆体组件外壳313的外表面的总面积的80％。

吸嘴组件外盖301的凹槽31具有一宽度w5及一深度d5，而杆体组件外壳313的凹槽33具有一宽度w6及一深度d6。在某些实施例中，吸嘴组件外盖301的凹槽31的宽度w5可大致与杆体组件外壳313的凹槽33的宽度w6相同；在某些实施例中，吸嘴组件外盖301的凹槽31的深度d5可大致与杆体组件外壳313的凹槽33的深度d6相同。

又，参考图5c，体组件外壳313的厚度为t2，杆体组件外壳313的凹槽33的深度d6大致为杆体组件外壳313的厚度t2的5％至20％。

此外，雾化装置300的重量m3大致大于或等于0.01千克且小于或等于0.05千克，而吸嘴组件外盖301的凹槽31的深度d5或杆体组件外壳313的凹槽33的深度d6大致大于或等于0.05毫米且小于或等于0.1毫米。雾化装置300的重量m3与凹槽31的深度d5或凹槽33的深度d6的关系大致为m3≤d5≤10*m3和m3≤d6≤10*m3。

图6a为本申请的一些实施例的雾化装置400的立体示意图，图6b为本申请的一些实施例的雾化装置400的正视示意图及图6c为本申请的一些实施例的雾化装置400的侧视示意图。

雾化装置400的吸嘴组件外盖401的外表面设置有复数个凹槽41及41'，而其杆体组件外壳413的外表面设置有凹槽43及43'。在某些实施例中，凹槽41及41'系自吸嘴组件外盖401的外表面凹陷所形成，而凹槽43及43'系自杆体组件外壳413的外表凹陷所形成。

吸嘴组件外盖401的凹槽41的延伸方向与凹槽41'的延伸方向不同，杆体组件外壳413的凹槽43的延伸方向与凹槽43'的延伸方向不同。

吸嘴组件外盖401的凹槽41具有一宽度w7及一深度d7，而杆体组件外壳413的凹槽43具有一宽度w8及一深度d8。在某些实施例中，吸嘴组件外盖401的凹槽41的宽度w7可大致与杆体组件外壳413的凹槽43的宽度w8相同；在某些实施例中，吸嘴组件外盖401的凹槽41的深度d7可大致与杆体组件外壳413的凹槽43的深度d8相同。

又，参考图4c，杆体组件外壳43的厚度为t3，杆体组件外壳413的凹槽43的深度d8大致为的5％至20％。

此外，雾化装置400的重量m4大致大于或等于0.01千克且小于或等于0.05千克，而吸嘴组件外盖401的凹槽41的深度d7或杆体组件外壳413的凹槽43的深度d8大致大于或等于0.05毫米且小于或等于0.1毫米。雾化装置400的重量m4与凹槽41的深度d7或凹槽43的深度d8的关系大致为m4≤d7≤10*m4和m4≤d8≤10*m4。

图7a为本申请的一些实施例的雾化装置500的立体示意图，图7b为本申请的一些实施例的雾化装置500的正视示意图及图7c为本申请的一些实施例的雾化装置500的侧视示意图。

雾化装置500的吸嘴组件外盖501的外表面设置有复数个凹槽51，而其杆体组件外壳513的外表面设置有凹槽53。在某些实施例中，凹槽51系由吸嘴组件外盖501的外表面凹陷所形成，而凹槽53系由杆体组件外壳513的外表凹陷所形成。

参考图5a，吸嘴组件外盖501的凹槽51的数量大于杆体组件外壳513的凹槽53的数量。

参考图5b，吸嘴组件外盖501的凹槽51的延伸方向与雾化装置500之整体的长度方向大致垂直，杆体组件外壳513的凹槽53的延伸方向与雾化装置500之整体的长度方向大致垂直，而雾化装置500之整体的长度方向系与吸嘴组件外盖501的长度方向和杆体组件外壳513的长度方向一致。

吸嘴组件外盖501的凹槽51具有一宽度w9及一深度d9，而杆体组件外壳513的凹槽53具有一宽度w10及一深度d10。在某些实施例中，吸嘴组件外盖501的凹槽51的宽度w9可大致与杆体组件外壳513的凹槽53的宽度w10相同；在某些实施例中，吸嘴组件外盖501的凹槽51的深度d9可大致与杆体组件外壳513的凹槽53的深度d10相同。

又，参考图5c，杆体组件外壳513的厚度为t4，杆体组件外壳513的凹槽53的深度d10大致为杆体组件外壳513的厚度t4的5％至20％。

此外，雾化装置500的重量m5大致大于或等于0.01千克且小于或等于0.05千克，而吸嘴组件外盖501的凹槽51的深度d9或杆体组件外壳513的凹槽53的深度d10大致大于或等于0.05毫米且小于或等于0.1毫米。雾化装置500的重量m5与凹槽51的深度d9或凹槽53的深度d10的关系大致为m5≤d9≤10*m5和m5≤d10≤10*m5。

整个说明书中对“一些实施例”、“部分实施例”、“一个实施例”、“另一举例”、“举例”、“具体举例”或“部分举例”的引用，其所代表的意思是在本申请中的至少一个实施例或举例包含了该实施例或举例中所描述的特定特征、结构或特性。因此，在整个说明书中的各处所出现的描述，例如：“在一些实施例中”、“在实施例中”、“在一个实施例中”、“在另一个举例中”，“在一个举例中”、“在特定举例中”或“举例“，其不必然是引用本申请中的相同的实施例或示例。

如本文中所使用，空间相对术语，例如，“之下”、“下方”、“下部”、“上方”、“上部”、“下部”、“左侧”、“右侧”及类似者可在本文中用于描述的简易以描述如图中所说明的一个组件或特征与另一组件或特征的关系。除了图中所描绘的定向之外，空间相对术语意图涵盖在使用或操作中的装置的不同定向。设备可以其它方式定向(旋转90度或处于其它定向)，且本文中所使用的空间相对描述词同样可相应地进行解释。应理解，当一组件被称为“连接到”或“耦合到”另一组件时，其可直接连接或耦合到另一组件，或可存在中间组件。

如本文中所使用，术语“近似地”、“基本上”、“基本”及“约”用于描述并考虑小变化。当与事件或情况结合使用时，所述术语可指事件或情况精确地发生的例子以及事件或情况极近似地发生的例子。如本文中相对于给定值或范围所使用，术语“约”大体上意味着在给定值或范围的±10％、±5％、±1％或±0.5％内。范围可在本文中表示为自一个端点至另一端点或在两个端点之间。除非另外规定，否则本文中所公开的所有范围包括端点。术语“基本上共面”可指沿同一平面定位的在数微米(μm)内的两个表面，例如，沿着同一平面定位的在10μm内、5μm内、1μm内或0.5μm内。当参考“基本上”相同的数值或特性时，术语可指处于所述值的平均值的±10％、±5％、±1％或±0.5％内的值。

如本文中所使用，术语“近似地”、“基本上”、“基本”和“约”用于描述和解释小的变化。当与事件或情况结合使用时，所述术语可指事件或情况精确地发生的例子以及事件或情况极近似地发生的例子。举例来说，当与数值结合使用时，术语可指小于或等于所述数值的±10％的变化范围，例如，小于或等于±5％、小于或等于±4％、小于或等于±3％、小于或等于±2％、小于或等于±1％、小于或等于±0.5％、小于或等于±0.1％，或小于或等于±0.05％。举例来说，如果两个数值之间的差小于或等于所述值的平均值的±10％(例如，小于或等于±5％、小于或等于±4％、小于或等于±3％、小于或等于±2％、小于或等于±1％、小于或等于±0.5％、小于或等于±0.1％，或小于或等于±0.05％)，那么可认为所述两个数值“基本上”或“约”相同。举例来说，“基本上”平行可以指相对于0°的小于或等于±10°的角度变化范围，例如，小于或等于±5°、小于或等于±4°、小于或等于±3°、小于或等于±2°、小于或等于±1°、小于或等于±0.5°、小于或等于±0.1°，或小于或等于±0.05°。举例来说，“基本上”垂直可以指相对于90°的小于或等于±10°的角度变化范围，例如，小于或等于±5°、小于或等于±4°、小于或等于±3°、小于或等于±2°、小于或等于±1°、小于或等于±0.5°、小于或等于±0.1°，或小于或等于±0.05°。

如本文中所使用，除非上下文另外明确规定，否则单数术语“一(a/an)”和“所述”可包含复数指示物。在一些实施例的描述中，提供于另一组件“上”或“上方”的组件可涵盖前一组件直接在后一组件上(例如，与后一组件物理接触)的情况，以及一或多个中间组件位于前一组件与后一组件之间的情况。

除非另外规定，否则例如“上方”、“下方”、“上”、“左”、“右”、“下”、“顶部”、“底部”、“垂直”、“水平”、“侧面”、“高于”、“低于”、“上部”、“在……上”、“在……下”、“向下”等等的空间描述是相对于图中所示的定向来指示的。应理解，本文中所使用的空间描述仅出于说明的目的，且本文中所描述的结构的实际实施方案可以任何定向或方式在空间上布置，其前提是本发明的实施例的优点是不会因此类布置而有偏差。

虽然已参考本揭露的特定实施例描述并说明本揭露，但是这些描述和说明并不限制本揭露。所属领域的技术人员可清晰地理解，在不脱离如由所附权利要求书定义的本揭露的真实精神和范围的情况下，可进行各种改变，且可在实施例内取代等效组件。图示可能未必按比例绘制。归因于制造过程中的变量等等，本揭露中的艺术再现与实际设备之间可能存在区别。可能存在并未特定说明的本揭露的其它实施例。应将本说明书和图式视为说明性而非限定性的。可进行修改，以使特定情形、材料、物质组成、物质、方法或过程适宜于本揭露的目标、精神和范围。所有此类修改都意图在此所附权利要求书的范围内。虽然已参考按特定次序执行的特定操作描述本文中所公开的方法，但应理解，可在不脱离本揭露的教示的情况下组合、细分或重新排序这些操作以形成等效方法。因此，除非本文中特别指示，否则操作的次序和分组并非本揭露的限制。

前文概述本揭露的若干实施例及细节方面的特征。本揭露中描述的实施例可容易地用作用于设计或修改其它过程的基础以及用于执行相同或相似目的和/或获得引入本文中的实施例的相同或相似优点的结构。此类等效构造并不脱离本揭露的精神和范围，并且可在不脱离本揭露的精神和范围的情况下作出各种改变、替代和变化。