一种反应釜的清洁干燥装置的制作方法

技术特征：
1.一种反应釜的清洁干燥装置，包括：反应釜本体(1)，反应釜本体(1)的顶部设有顶盖(2)，反应釜本体(1)的上端一侧设有进料管(3)，反应釜本体(1)的底部一侧设有出料管(4)；清洁机构，设置在反应釜本体(1)的内部，用以清洁反应釜本体(1)的内部；干燥机构，设置在反应釜本体(1)的内部，用以干燥反应釜本体(1)的内部；其特征在于：所述清洁机构包括：第一转盘(5)，呈水平且能够转动的设置在顶盖(2)的内部上端中心处；喷头(6)，具有四个，沿着第一转盘(5)的圆周分布在第一转盘(5)的底部，每个喷头(6)均能够翻转的设置在第一转盘(5)的底部；搅拌轴(7)，竖直设置在反应釜本体(1)的内部中心处，搅拌轴(7)的底部与反应釜本体(1)的底部中心处传动连接，搅拌轴(7)的上端与喷头(6)设有预设距离；竖向侧杆(8)，具有一对，对称位于搅拌轴(7)的两侧，两个竖向侧杆(8)能够沿着反应釜本体(1)的竖直方向上下移动，竖向侧杆(8)与搅拌轴(7)之间设有若干个竖直方向等间距分布的摆动杆(9)，每个摆动杆(9)的一端分别竖向侧杆(8)的一侧铰接设置，每个摆动杆(9)远离每个竖向侧杆(8)的一端均与搅拌轴(7)的外部铰接，每个竖向侧杆(8)靠近分别反应釜本体(1)内壁的一面设有能够与反应釜本体(1)内壁贴合滑动的刮板(10)；干燥机构包括：加热机(11)，通过第一固定支架设置在反应釜本体(1)的上方一侧，加热机(11)的工作端设有干燥管(12)，干燥管(12)的一端穿过顶盖(2)向反应釜本体(1)的内部延伸。2.根据权利要求1所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：干燥机构还包括：第二电机(31)，竖直设置在反应釜本体(1)的底部中心处，其输出端能够转动的穿过反应釜本体(1)的底部与搅拌轴(7)的底端传动连接；反应板(32)，其数量与摆动杆(9)的数量相同且一一对应的设置在每个反应板(32)的顶部，每个反应板(32)的长度均等于每个摆动杆(9)的长度，每个反应板(32)上均设有沿着每个反应板(32)长度方向等间距分布的第一u型切口(33)。3.根据权利要求2所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：每个刮板(10)靠近反应釜本体(1)内圈的一端均设有若干个沿着刮板(10)长度方向等间距分布的第二u型切口(34)，每个刮板(10)远离每个竖向侧板的一面均与反应釜本体(1)内壁紧密贴合。4.根据权利要求1所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：清洁机构还包括：旋转套管(13)，同轴设置在第一转盘(5)的顶部，其上端能够转动的穿过顶盖(2)的顶部朝上延伸；导向齿轮(14)，同轴设置在旋转套管(13)外延端的外圈；第一齿条(15)，水平位于导向齿轮(14)的一侧，第一齿条(15)与导向齿轮(14)啮合设置；滑轨(16)，位于第一齿条(15)的下方，滑轨(16)固定安装在顶盖(2)的顶部，第一齿条(15)的底部设有能够在滑轨(16)上滑动的滑条(17)。5.根据权利要求4所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：清洁机构还包括：第二转盘(18)，水平位于第一齿条(15)的一端，第二转盘(18)的边缘处设有拨动柱(19)；
连杆(20)，其一端与拨动柱(19)铰接设置，其另外一端与第一齿条(15)的一端铰接设置；第一电机(21)，位于第二转盘(18)的上方，其输出端与第二转盘(18)的中心处传动连接，其通过第二固定支架与反应釜的外侧连接。6.根据权利要求4所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：清洁机构还包括：升降柱(22)，能够升降的设置在旋转套管(13)的内圈；半幅齿轮(23)，具有四个，四个半幅齿轮(23)绕升降柱(22)的圆周方向等间距分布在升降柱(22)的外圈，升降柱(22)上设有四个与每个半幅齿轮(23)一一对应的第二齿条(24)，每个第二齿条(24)分别与每个半幅齿轮(23)啮合设置，每个半幅齿轮(23)的两侧均通过轴座转动连接，每个轴座均与第一转盘(5)的底部固定连接；安装柱(25)，其数量与半幅齿轮(23)的数量相同且一一对应的设置在每个半幅齿轮(23)的一侧，每个安装柱(25)的底部分别与喷头(6)固定连接。7.根据权利要求6所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：每个喷头(6)均由安装部(26)和喷头部(27)构成，安装部(26)为中空水管，安装部(26)的顶部与升降柱(22)的底部固定连接，安装部(26)的一侧设有与其连通的进水管，喷头部(27)为喇叭状，喷头部(27)的敞开端设有固定盘(28)，固定盘(28)上设有若干个矩阵分布的通孔(29)。8.根据权利要求4所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：旋转套管(13)的顶部同轴设置有电动推杆(30)，电动推杆(30)的工作端穿过旋转套管(13)的内圈与升降柱(22)的顶部传动连接。9.根据权利要求1所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：清洁机构还包括：隔板，水平设置在顶盖的内部中端；套筒(35)，贯通设置在隔板的中心处，套筒(35)的外圈设有两个对称的弧形槽(36)，两个对称的弧形槽(36)缠绕在套筒(35)的外圈上，每个竖向侧杆(8)的上端均向套筒(35)的一侧方向延伸；移动柱(37)，具有一对，分别设置在竖向侧杆(8)的延伸端，每个移动柱(37)远离竖向侧杆(8)的一端均呈水平朝每个弧形槽(36)内部延伸，每个移动柱(37)的延伸端均能够在对应的弧形槽(36)内贴合滑动。10.根据权利要求9所述的反应釜的清洁干燥装置，其特征在于：干燥机构还包括温度传感器(38)，温度传感器(38)设置在隔板的底部边缘处。

技术总结
本发明涉及反应釜技术领域，具体是涉及一种反应釜的清洁干燥装置，包括：反应釜本体，反应釜本体的顶部设有顶盖，反应釜本体的上端一侧设有进料管，反应釜本体的底部一侧设有出料管；清洁机构，设置在反应釜本体的内部；干燥机构，设置在反应釜本体的内部；所述清洁机构包括：第一转盘，呈水平且能够转动的设置在顶盖的内部上端中心处；喷头，具有四个；搅拌轴，竖直设置在反应釜本体的内部中心处；竖向侧杆，具有一对，竖向侧杆与搅拌轴之间设有若干个竖直方向等间距分布的摆动杆，每个竖向侧杆靠近分别反应釜本体内壁的一面设有刮板；干燥机构包括：加热机，该设备能够高效且均匀的将反应釜进行清洁干燥，提升清洁干燥效率。提升清洁干燥效率。提升清洁干燥效率。


技术研发人员：叶艺 於敏敢 刘效龙
受保护的技术使用者：九江中天药业有限公司
技术研发日：2021.08.24
技术公布日：2021/10/23