从基底去除电致发光材料的制作方法

本公开涉及用于从基底去除电致发光材料的组合物和方法。
背景技术：
：用于从金属基底去除电致发光材料的各种组合物描述于例如美国专利7,073,518中。技术实现要素：在一些实施方案中，提供了组合物。该组合物包含氢氟化合物和有机溶剂，有机溶剂在与氢氟化合物混合时与氢氟化合物形成共沸物。该组合物还包含电致发光材料。在一些实施方案中，提供了用于从基底去除电致发光材料的方法。该方法包括提供基底，该基底具有设置在其表面上的电致发光材料。该方法还包括使基底与组合物接触。该组合物包含氢氟化合物和有机溶剂，有机溶剂在与氢氟化合物混合时与氢氟化合物形成共沸物。本公开的以上概述不旨在描述本公开的每个实施方案。本公开中的一个或多个实施方案的细节也阐述在以下说明中。依据说明书和权利要求书，本公开的其它特征、目标和优点将显而易见。附图说明图1a和图1b是在清洁之前涂覆有电致发光材料的金属网的前部和后部的x射线光电子能谱(xps)光谱。图2a和图2b是涂覆有电致发光材料然后用现有技术的组合物清洁的金属网的两个区域的xps光谱。图3为涂覆有电致发光材料然后使用多步骤的现有技术方法进行清洁和冲洗的金属网的xps光谱。图4为涂覆有电致发光材料然后使用本发明的单步方法清洁的金属网的xps光谱。具体实施方式在有机发光二极管(oled)制造工艺中，电致发光材料通常沉积在金属掩模上(或以其他方式存在于金属掩模上)。为了再利用这些金属掩模，必须去除电致发光材料。目前，如n-甲基-2-吡咯烷酮(nmp)、环己酮或异丙醇(ipa)的溶剂用于从金属掩模去除电致发光材料。在去除电致发光材料之后，则必须使用去离子水或氟化溶剂将溶剂从金属掩模中去除(例如，冲洗掉)，因为此类溶剂的干燥时间由于其高沸点而无法接受地长。此外，一般来讲，由于其不利的毒性特征和闪点，使用此类溶剂是不可取的。因此，本发明公开了用于从金属掩模上去除电致发光材料的组合物和方法，该组合物和方法(i)可在单步方法(即，可不需要额外冲洗步骤的方法)中实施；和/或(ii)采用具有有利毒性特征和/或闪点的材料可能是所期望的。如本文所用，“氟-”(例如，涉及基团或部分，诸如就“氟代亚烷基”或“氟代烷基”或“氟碳化合物”而言)或“氟化的”意指部分地氟化，使得存在至少一个键合碳的氢原子。如本文所用，“全氟-”(例如，涉及基团或部分，诸如“全氟亚烷基”或“全氟烷基”或“全氟烃”)或“全氟化的”意指完全地氟化，使得除非另外表明，否则不存在可被氟替换的键合碳的氢原子。如本文所用，单数形式“一个”、“一种”、和“所述”包括复数指代，除非内容清楚指示其它含义。如本说明书和所附实施方案中所用的，除非所述内容明确地另有规定，否则术语“或”通常以其包括“和/或”的含义使用。如本文所用，通过端点表述的数值范围包括该范围内所包含的所有数值(例如，1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.8、4和5)。除非另外指明，否则本说明书和实施方案中所使用的表达量或成分、特性测量等的所有数字在所有情况下均应理解成由术语“约”来修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附实施方案列表中示出的数值参数可根据本领域的技术人员利用本公开的教导内容寻求获得的期望特性而变化。最低程度上说，并且在不试图将等同原则的应用限制到受权利要求书保护的实施方案的范围内的情况下，每个数值参数应至少根据所报告的有效位数并通过应用惯常的四舍五入法来解释。在一些实施方案中，本公开涉及用于从基底(例如，常用于oled制造工艺中的类型的金属掩模)去除电致发光材料的组合物。组合物可包含一种或多种含氟化合物和一种或多种有机溶剂。在一些实施方案中，合适的含氟化合物可包括氢氟化合物(即，多个碳原子、至少一个氟原子和至少一个氢原子)。在一些实施方案中，合适的氢氟化合物可包括氢氟醚化合物。在一些实施方案中，合适的氢氟化合物或氢氟醚化合物可具有介于10mn/m和20mn/m之间，介于12mn/m和17mn/m之间，或介于13mn/m和16mn/m之间的表面张力(在室温下)。在一些实施方案中，合适的氢氟化合物或氢氟醚可具有小于100摄氏度或小于70摄氏度的沸点。在一些实施方案中，合适的氢氟醚可包括c2f5cf(och3)cf(cf3)2、(cf3)2cfcf2(och2ch3)、(cf3)2cfcf2och3或它们的组合。在一些实施方案中，合适的有机溶剂可包括将与组合物的氢氟化合物形成共沸物的任何有机流体。在一些实施方案中，合适的有机溶剂可包括1-溴丙烷、六甲基二硅氮烷、乙酸异丁酯、甲基异丁基酮、反式-1，2-二氯乙烯、三氟甲基苯、甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、六氟-2-丙醇、三氟乙醇、五氟丙醇、1-氯丁烷、1，2-二氯丙烷、2，2-二氯丙烷、2-氯丁烷、异丁基氯、叔丁基氯、庚烷、异辛烷、环己烷、甲基环己烷、叔戊基甲基醚、1，2-二甲氧基乙烷、四氢呋喃、甲基乙基酮、乙腈、六甲基二硅氧烷、乙酸乙酯或它们的组合。在一些实施方案中，有机溶剂可包含反式-1，2-二氯乙烯或基本上由其组成。在一些实施方案中，基于组合物中的氢氟化合物和有机溶剂的总量计，组合物可包含以下量的任何上述氢氟化合物：至少5重量％、至少10重量％或至少20重量％；或介于5重量％和60重量％之间、介于10重量％和50重量％之间、或介于20重量％和40重量％之间。在一些实施方案中，基于组合物中的氢氟化合物和有机溶剂的总量计，组合物可包含以下量的有机溶剂：至少40重量％、至少50重量％或至少60重量％；或介于40重量％和95重量％之间、介于50重量％和90重量％之间、或介于50重量％和80重量％之间。在一些实施方案中，本公开的组合物可包含c2f5cf(och3)cf(cf3)2和反式-1，2-二氯乙烯的共混物，诸如可以商品名novec73de、72de、72da、或71de获得的此类共混物，所有这些共混物均可购自明尼苏达州圣保罗的3m公司(3mcompanyofst.paul，mn)。在一些实施方案中，上述组合物可形成共沸组合物(即，表现类似单一组分的多组分组合物，因为通过液体在其沸点处部分蒸发而产生的蒸气具有与液体相同(或基本上相同)的组成)。在一些实施方案中，共沸物组合物可包括美国专利7,071,154中描述的那些中的任一者，该专利全文以引用方式并入本文。应当理解，已发现本公开的组合物从金属基底的表面充分去除电致发光材料(例如，oled染料)，并且与相对于金属掩模清洁过程中常规采用的材料(例如，nmp、环己酮和ipa)显著更短的干燥时间相关联。在一些实施方案中，本公开还涉及处于其清洁后状态的上述组合物。就这一点而言，本公开涉及上述清洁组合物中的任一种，该清洁组合物包含溶解、分散或以其它方式包含于其中的一种或多种电致发光材料。在一些实施方案中，电致发光材料可包含响应电刺激的任何高共轭染料(诸如通常用于oled制造过程中的那些)。在一些实施方案中，电致发光材料可包含酞菁铜(ii)、铱或铂。在一些实施方案中，基于组合物中存在的氟代醚和有机溶剂的总重量计，电致发光材料可以至少0.001重量％或至少0.01重量％的量存在于清洁后组合物中。在一些实施方案中，根据astmd-3278-96e-1测试方法(“通过小型闭杯装置测定液体闪点(flashpointofliquidsbysmallscaleclosedcupapparatus)”)，本公开的组合物中的氟含量可足以使化合物不可燃。在一些实施方案中，本公开的组合物具有有利的毒性特征。更具体地讲，本公开的组合物可具有比常用于从金属掩模(例如nmp)清洁电致发光材料的那些材料更有利的毒性特征。在一些实施方案中，本公开还涉及包含上述组合物作为主要组分的工作流体。例如，工作流体可包含基于工作流体的总重量计至少25重量％、至少50重量％、至少70重量％、至少80重量％、至少90重量％、至少95重量％或至少99重量％的上述组合物。在一些实施方案中，本公开还涉及清洁金属基底的方法。更具体地讲，在一些实施方案中，本公开还涉及从金属掩模(诸如通常用于oled制造工艺中的那些)去除电致发光材料的方法。在一些实施方案中，该方法首先包括提供金属基底(例如，金属掩模)，该金属基底具有设置在基底的外表面上的电致发光材料。电致发光材料可设置在外表面上的厚度为至少10,000埃、至少15,000埃或至少20,000埃的层中。在一些实施方案中，该方法然后可包括提供上述组合物中的任一种。然后，该方法可包括使包含电致发光材料的金属掩模与组合物接触。在一些实施方案中，本公开的组合物可以气体状态或液体状态(或这两者)中任一种形式使用，以及可使用任何已知或未来的“接触”基底的技术。例如，可将液体清洁组合物喷洒或刷涂到基底上，可将气体清洁组合物吹过基底，或者可将基底浸入(部分地或完全给)气体或液体组合物中。高温、超声能量和/或搅拌可有利于清洁。在一些实施方案中，本公开的方法在室温下进行。各种不同的清洁技术已在b.n.ellisincleaningandcontaminationofelectronicscomponentsandassemblies，electrochemicalpublicationslimited，ayr，scotland，pages182-94(1986)(b.n.ellis，“电子元件和组件的清洁和污染”，电化学出版有限公司，苏格兰艾尔，第182-194页，1986年)中有所描述，该文献全文以引用方式并入本文。实施方案列表1.一种组合物，所述组合物包含：氢氟化合物；有机溶剂，所述有机溶剂在与所述氢氟化合物混合时与所述氢氟化合物形成共沸物；和电致发光材料。2.根据实施方案1所述的组合物，其中所述氢氟化合物的表面张力介于12mn/m和17mn/m之间。3.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，所述氢氟化合物为氢氟醚。4.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中所述氢氟醚为c2f5cf(och3)cf(cf3)2。5.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中基于所述组合物中存在的氢氟醚和有机溶剂的总重量计，所述氢氟化合物以介于5重量％和60重量％之间的量存在于所述组合物中。6.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中所述有机溶剂包括1-溴丙烷、六甲基二硅氮烷、乙酸异丁酯、甲基异丁基酮、反式-1，2-二氯乙烯、三氟甲基苯、甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、六氟-2-丙醇、三氟乙醇、五氟丙醇、1-氯丁烷、1，2-二氯丙烷、2，2-二氯丙烷、2-氯丁烷、异丁基氯、叔丁基氯、庚烷、异辛烷、环己烷、甲基环己烷、叔戊基甲基醚、1，2-二甲氧基乙烷、四氢呋喃、甲基乙基酮、乙腈、六甲基二硅氧烷、乙酸乙酯或它们的组合。7.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中所述有机溶剂包括反式-1，2-二氯乙烯。8.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中基于所述组合物中存在的氟代醚和有机溶剂的总重量计，所述有机溶剂以介于40重量％和95重量％之间的量存在于所述组合物中。9.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中基于所述组合物中存在的氟代醚和有机溶剂的总重量计，所述反式-1，2-二氯乙烯以介于40重量％和95重量％之间的量存在于所述组合物中。10.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中根据astmd-3278-96e-1测试方法，所述组合物是不易燃的。11.根据前述实施方案中任一项所述的组合物，其中所述电致发光材料包含酞菁铜(ii)、铱或铂。12.一种用于从基底去除电致发光材料的方法，所述方法包括以下步骤：提供在其表面上设置有电致发光材料的基底；使所述基底与包含以下组分的组合物接触：氢氟化合物；和有机溶剂，所述有机溶剂在与所述氢氟化合物混合时与所述氢氟化合物形成共沸物。13.根据实施方案12所述的方法，其中所述氢氟化合物的表面张力介于12mn/m和17mn/m之间。14.根据实施方案13至14中任一项所述的方法，其中所述氢氟化合物为氢氟醚。15.根据实施方案15所述的方法，其中所述氢氟醚为c2f5cf(och3)cf(cf3)2。16.根据实施方案12至15中任一项所述的方法，其中基于所述组合物中存在的氢氟化合物和有机溶剂的总重量计，所述氢氟化合物以介于5重量％和60重量％之间的量存在于所述组合物中。17.根据实施方案12至16中任一项所述的方法，其中所述有机溶剂包括1-溴丙烷、六甲基二硅氮烷、乙酸异丁酯、甲基异丁基酮、反式-1，2-二氯乙烯、三氟甲基苯、甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、六氟-2-丙醇、三氟乙醇、五氟丙醇、1-氯丁烷、1，2-二氯丙烷、2，2-二氯丙烷、2-氯丁烷、异丁基氯、叔丁基氯、庚烷、异辛烷、环己烷、甲基环己烷、叔戊基甲基醚、1，2-二甲氧基乙烷、四氢呋喃、甲基乙基酮、乙腈、六甲基二硅氧烷、乙酸乙酯或它们的组合。18.根据实施方案12至17中任一项所述的方法，其中所述有机溶剂包括反式-1，2-二氯乙烯。19.根据实施方案12至18中任一项所述的方法，其中基于所述组合物中存在的氢氟化合物和有机溶剂的总重量计，所述有机溶剂以介于40重量％和95重量％之间的量存在于所述组合物中。20.根据实施方案12至19中任一项所述的方法，其中基于所述组合物中存在的氢氟化合物和有机溶剂的总重量计，所述反式-1，2-二氯乙烯以介于40重量％和95重量％之间的量存在于所述组合物中。21.根据实施方案12至20中任一项所述的方法，其中根据astmd-3278-96e-1测试方法，所述组合物是不易燃的。22.根据实施方案12至21中任一项所述的方法，其中所述电致发光材料包含酞菁铜(ii)、铱或铂。实施例本公开的目的和优点通过以下比较性和例示性实施例进一步说明。除非另外指明，否则实施例和说明书的其余部分中使用的所有份数、百分比、比例等均按重量计，并且实施例中使用的所有试剂均得自或可得自一般化学品供应商，诸如例如美国密苏里州圣路易斯的西格玛奥德里奇公司(sigma-aldrichcorp.，saintlouis，mo，us)，或者可通过常规的方法合成。本文使用以下缩写：min＝分钟，nm＝纳米，wt％＝重量百分比。清洁性能在10-7托的真空室中将有机电致发光材料a(el-a)沉积在金属掩模试样块上3小时。el-a是基于茚的电致发光材料，具有340nm、357nm、375nm和396nm处的uv吸收峰，如使用购自美国加利福尼亚州圣克拉拉的安捷伦科技公司(agilenttechnologies，santaclara，ca，us)的cary8454uv-vis分光光度计通过uv-可见光谱法所测定的。环己酮(比较例ce1)和novec73de(实施例1)在这些测试中用作清洁溶液。将样品浸入清洁溶液中1分钟，然后取出。从清洁溶液中取出后立即和5分钟后观察样品的表面。ce1和实施例1均从金属掩模表面去除所有有机电致发光材料el-a。然而，用实施例1清洁的试样块一旦从实施例1溶液中去除就被干燥，而清洁流体ce1甚至在干燥5min之后仍保持在样品表面上。清洁方法的比较使用下面概述的三种方法清洁被有机电致发光材料el-a污染的金属掩模的样品。-比较例ce2：未进行清洁-比较例ce3：在环己酮中浸渍1分钟-比较例ce4：在环己酮中浸渍1分钟，然后浸入novec7100中1分钟-实施例2：浸入novec73de中1分钟在所有三个清洁过程工序之后，将有机电致发光材料从表面去除。在使用得自thermoscientific(waltham，ma，us)的k-alpha系统通过x射线光电子能谱(xps)进行表面分析之前，将样品在环境条件下干燥1天，以检测任何残余的清洁剂。未清洁样品ce2的两侧的表面分析示出对应于有机电致发光材料el-a(沉积侧，图1a)和裸金属表面(非沉积/裸金属侧，图1b)两者的峰。ce3示出清洁后金属表面上的污渍，这归因于环己酮溶剂的缓慢干燥速率。图2a和图2b分别示出了染色区域和未染色区域的xps光谱。两个光谱均示出高强度碳峰，表明环己酮溶剂保留在表面上。ce4(图3)和实施例2(图4)的xps光谱不展示高强度的碳峰，并且非常类似ce2(图1b)的裸金属表面的光谱。比较图2a、图2b和图3，似乎使用novec7100进行的附加冲洗去除了清洁步骤之后剩余的残余环己酮溶剂。图4(实施例2)进一步展示了本发明可在单个清洁步骤中实现相同的结果。清洁组合物对有机发光材料溶解度的影响通过以表1中所示的量混合novec7300氟代醚和反式-1，2-二氯乙烯有机溶剂来制备实施例3-7以及比较例ce5和ce6的清洁测试溶液。表1.清洁流体的组成novec7300(重量％)反式-1，2-二氯乙烯(重量％)ce50100实施例31090实施例41585实施例52080实施例62575实施例75050ce61000将0.5重量％的有机电致发光材料el-a添加到表1中的每种清洁组合物中，将混合物超声处理5分钟，并且用肉眼观察所得材料的浑浊度和未溶解的颗粒物。ce5和实施例3-5为澄清液体。在实施例6的顶层上观察到小颗粒。实施例7为略微不透明的，并且ce6为不透明的乳白色。将1.0重量％的有机电致发光材料el-b加入表1中的每种清洁组合物中，并且用肉眼观察所得材料的浑浊度和未溶解的颗粒物。el-b为基于茚的电致发光材料，其具有345nm处的紫外吸收峰，如使用购自agilenttechnologies(santaclara，ca，us)的cary8454uv-vis分光光度计通过紫外-可见光光谱法所测定。el-b似乎在所有清洁溶液中溶解相对快于el-a。el-b在加入ce5和实施例3-5后立即溶解，得到澄清液体。实施例7是轻微浑浊的，并且ce6是不透明的乳白色。在不脱离本公开的范围和实质的情况下，对本公开进行的各种变型和更改对于本领域的技术人员而言将变得显而易见。应当理解，本公开并不旨在受本文中示出的例示性实施方案和实施例的不当限制，并且此类实施例和实施方案仅以举例的方式呈现，本公开的范围旨在仅受本文中如下示出的权利要求书的限制。在本公开中引用的所有参考文献都以引用的方式全文并入本申请。当前第1页12